内嵌式触控面板的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型与触控面板(Touch panel)有关，特别是关于一种内嵌式(In_cell)触控面板。
【背景技术】
[0002]请参照图1，图1为传统具有On-Cell叠层结构的电容式触控面板的叠层结构示意图。如图1所示，传统On-Cell的电容式触控面板的叠层结构1由下至上依序是:基板10、薄膜晶体管(TFT)元件层11、液晶层12、彩色滤光层13、玻璃层14、触控感应层15、偏光片16、粘合剂17及上覆透镜18。
[0003]由图1可知:传统具有On-Cell叠层结构的电容式触控面板则是将触控感应层15设置于玻璃层14的上方，亦即设置于液晶显示模块之外。虽然传统具有On-Cell叠层结构的电容式触控面板的厚度已较单片式玻璃触控面板(One Glass Solut1n，0GS)来得薄，但在现今手机、平板电脑及笔记本电脑等可携式电子产品强调轻薄短小的趋势下，传统具有On-Cell叠层结构的电容式触控面板已达到其极限，无法满足最薄化的触控面板设计的需求。
[0004]因此，本实用新型提出一种内嵌式(In-cell)触控面板及其布局，以改善先前技术所遭遇的种种问题。
【实用新型内容】
[0005]根据本实用新型的一较佳具体实施例为一种内嵌式触控面板。于此实施例中，内嵌式触控面板包含多个像素(Pixel)。每个像素的一叠层结构包含一基板、一薄膜晶体管元件层、一液晶层、一彩色滤光层及一玻璃层。薄膜晶体管元件层设置于基板上，薄膜晶体管元件层内整合设置有一第一导电层及一第二导电层。液晶层设置于薄膜晶体管元件层上方。彩色滤光层设置于液晶层上方。玻璃层设置于彩色滤光层上方。
[0006]于一实施例中，第二导电层与一共同电压电极(Common Electrode)同时形成，但第二导电层与共同电压电极彼此分离，第一导电层形成于共同电压电极之后。
[0007]于一实施例中，第一导电层设置于第二导电层的上方，第一导电层电性连接至第二导电层，以作为一跨桥结构。
[0008]于一实施例中，第二导电层与一共同电压电极同时形成，但第二导电层与共同电压电极彼此分离，第一导电层形成于共同电压电极之前。
[0009]于一实施例中，第二导电层设置于第一导电层的上方，第二导电层电性连接至第一导电层，以作为一跨桥结构。
[0010]于一实施例中，第二导电层形成于一共同电压电极之前且第一导电层形成于共同电压电极之后，第二导电层与薄膜晶体管元件层中的一源极及一汲极同时形成。
[0011 ] 于一实施例中，第一导电层设置于第二导电层的上方，第一导电层电性连接至第二导电层，以作为一跨桥结构。
[0012]于一实施例中，第二导电层形成于第一导电层之前且第一导电层形成于一共同电压电极之前，第二导电层与薄膜晶体管元件层中的一源极及一汲极同时形成。
[0013]于一实施例中，第一导电层设置于第二导电层的上方，第一导电层电性连接至第二导电层，以作为一跨桥结构。
[0014]于一实施例中，第二导电层形成于一共同电压电极之前且第一导电层形成于共同电压电极之后，第二导电层与薄膜晶体管元件层中的一闸极同时形成。
[0015]于一实施例中，第一导电层设置于第二导电层的上方，第一导电层电性连接至第二导电层，以作为一跨桥结构。
[0016]于一实施例中，薄膜晶体管元件层中的闸极与另一闸极彼此相邻排列。
[0017]于一实施例中，第二导电层形成于第一导电层之前且第一导电层形成于一共同电压电极之前，第二导电层与薄膜晶体管元件层中的一闸极同时形成。
[0018]于一实施例中，第一导电层设置于第二导电层的上方，第一导电层电性连接至第二导电层，以作为一跨桥结构。
[0019]于一实施例中，薄膜晶体管元件层中的闸极与另一闸极彼此相邻排列。
[0020]于一实施例中，该第二导电层形成于该第一导电层之前且该第一导电层形成于一共同电压电极之前，该第二导电层与该薄膜晶体管元件层中的一闸极同时形成。
[0021 ] 于一实施例中，该第一导电层设置于该第二导电层的上方，该第一导电层电性连接至该第二导电层，以作为一跨桥结构。
[0022]于一实施例中，该薄膜晶体管元件层中的该闸极与另一闸极彼此相邻排列。
[0023]于一实施例中，内嵌式触控面板为一内嵌式互电容(Mutual Capacitance)触控面板，内嵌式互电容触控面板的一驱动电极(TX)及一感测电极(RX)由第一导电层以网格状排列而成。
[0024]于一实施例中，当第一导电层所组成的驱动电极(TX)与感测电极(RX)彼此交错时，以第二导电层作为一跨桥结构来电性连接驱动电极(TX)或电性连接感测电极(RX)。
[0025]于一实施例中，第一导电层还包含一第一连接部，第一连接部与驱动电极(TX)及感测电极(RX)彼此分离，并且第一连接部电性连接至共同电压电极。
[0026]于一实施例中，第二导电层还包含一第二连接部，该第二连接部电性连接至该共同电压电极。
[0027]于一实施例中，彩色滤光层包含一彩色滤光片(Color Filter)及一黑色矩阵光阻(Black Matrix Resist)，黑色矩阵光阻具有良好的光遮蔽性，第一导电层及第二导电层位于黑色矩阵光阻的下方。
[0028]于一实施例中，当内嵌式触控面板运作于一触控模式时，一共同电压电极切换为一浮动(Floating)电位或施加一触控相关信号，以降低对触控的寄生电容。
[0029]于一实施例中，内嵌式触控面板的一触控模式与一显不模式为分时驱动，并且内嵌式触控面板利用显示周期的一空白区间(Blanking interval)运作于触控模式。
[0030]于一实施例中，空白区间包含垂直空白区间(Vertical BlankingInterval, VBI)、水平空白区间(Horizontal Blanking Interval, HBI)及长水平空白区间(Long Horizontal Blanking Interval)中的至少一种。长水平空白区间的时间长度等于或大于水平空白区间的时间长度。长水平空白区间重新分配多个水平空白区间而得或长水平空白区间包含垂直空白区间。
[0031]相较于现有技术，根据本实用新型的内嵌式触控面板及其布局具有下列优点:
[0032](1)触控感测电极及其走线的设计简单，可有效降低成本；
[0033](2)布局方式可降低对液晶面板光学上的影响，提升面板开口率；
[0034](3)将不属于触控电极的部分第一导电层及第二导电层电性连接至共同电压电极，以降低共同电压电极本身的电阻电容负载(RC loading)。
[0035]关于本实用新型的优点与精神可以通过以下的实用新型【具体实施方式】及所附附图得到进一步的了解。
【附图说明】
[0036]图1为传统具有On-Cell叠层结构的电容式触控面板的叠层结构示意图。
[0037]图2为本实用新型的内嵌式触控面板的叠层结构示意图。
[0038]图3为图2中的触控元件层22的一实施例的叠层结构示意图。
[0039]图4为图3中的跨桥结构B1与触控电极323的俯视示意图。
[0040]图5为触控元件层22的另一实施例的叠层结构示意图。
[0041]图6为图5中的跨桥结构B2与触控电极321的俯视示意图。
[0042]图7为采用网格状的图样设计的导电层的示意图。
[0043]图8为互电容触控电极的跨桥结构的俯视示意图。
[0044]图9为触控电极及其走线的俯视示意图。
[0045]图10为本实用新型的一实施例的内嵌式互电容触控面板的叠层结构示意图。
[0046]图11为图10中的第一导电层与第二导电层电性连接的像素设计的俯视示意图。
[0047]图12为本实用新型的一实施例的内嵌式互电容触控面板的叠层结构示意图。
[0048]图13为图12中的第一导电层与第二导电层电性连接的像素设计的俯视示意图。
[0049]图14为本实用新型的一实施例的内嵌式互电容触控面板的叠层结构示意图。
[0050]图15为图14中的第一导电层与第二导电层电性连接的像素设计的俯视示意图。
[0051]图16为本实用新型的一实施例的内嵌式互电容触控面板的叠层结构示意图。
[0052]图17为图16中的第一导电层与第二导电层电性连接的像素设计的俯视示意图。
[0053]图18为本实用新型的一实施例的内嵌式互电容触控面板的叠层结构示意图。
[0054]图19A及图19B分别为图18中的第一导电层与第二导电层电性连接的不同像素设计的俯视示意图。
[0055]图20为本实用新型的一实施例的内嵌式互电容触控面板的叠层结构示意图。
[0056]图21A及图21B分别为图20中的第一导电层与第二导电层电性连接的不同像素设计的俯视示意图。
[0057]图22为内嵌式互电容触控面板的触控电极设计的示意图。
[0058]图23A至图23C分别为由网格状的第一导电层排列而成的驱动电极与感测电极具有不同形状的示意图。
[0059]图24为内嵌式互电容触控面板的触控模式与显示模式分时驱动的时序图。
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