磁记录介质、磁记录介质的制造方法和磁记录再生装置与流程

技术特征：

1.一种磁记录介质，在非磁性基板上依次具有软磁性底层、配向控制层、垂直磁性层和保护层，其中：

所述垂直磁性层从所述非磁性基板侧依次具有第1磁性层和第2磁性层，

所述第2磁性层是包含磁性颗粒的最表层侧的磁性层，

所述第1磁性层是晶界部包含氧化物的粒状结构的磁性层，

所述第2磁性层是晶界部包含碳化物的粒状结构的磁性层，

所述碳化物是所述磁性颗粒中所含的元素的碳化物。

2.如权利要求1所述的磁记录介质，其中：

所述磁性颗粒中所含的元素是硼、钛、铬、铝、钽、锆或硅。

3.如权利要求1或2所述的磁记录介质，其中：

所述氧化物是硅、铬、钛、钽、铝、钇、硼、镁、钨或钴的氧化物。

4.一种磁记录介质的制造方法，该磁记录介质在非磁性基板上依次具有软磁性底层、配向控制层、垂直磁性层和保护层，其中：

所述垂直磁性层的形成步骤依次包括第1磁性层的形成步骤和第2磁性层的形成步骤，

将所述第2磁性层形成为包含磁性颗粒的最表层侧的磁性层，

所述第1磁性层的形成步骤是通过溅射法形成晶界部包含氧化物的粒状结构的磁性层的步骤，

所述第2磁性层的形成步骤是，在通过溅射法形成非粒状结构的磁性层之后，对该磁性层进行碳化处理，使所述磁性颗粒中所含的元素的一部分碳化以形成晶界部，作为粒状结构的磁性层的步骤。

5.如权利要求4所述的磁记录介质的制造方法，其中：

所述碳化的元素是硼、钛、铬、铝、钽、锆或硅。

6.如权利要求4或5所述的磁记录介质的制造方法，其中：

所述氧化物是硅、铬、钛、钽、铝、钇、硼、镁、钨或钴的氧化物。

7.一种磁记录再生装置，具有：

权利要求1至3的任一项所述的磁记录介质；和

磁头，其用于对所述磁记录介质进行信息的记录和再生。