专利名称：真空压产生装置及具有该真空压产生装置的薄膜形成装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及真空压产生装置及具有该真空压产生装置的薄膜形成装置。更详细地说，本发明涉及提高形成在工序区域内的真空压均匀性的真空压产生装置及具有该真空压产生装置的薄膜形成装置。
背景技术：
一般而言，处理信息的信息处理装置代表是台式电脑、手提电脑、手机、及PDA(personal digital assistants)等。
大部分的信息处理装置包括处理信息的半导体芯片及将处理的图像改变为图像的显示装置。最近广泛使用具有厚度轻薄的液晶显示面板的液晶显示器。
液晶显示面板包括具有栅极线、数据线、半导体层、像素电极、滤色器、共同电极、绝缘层、钝化层等的薄膜。形成在液晶显示面板的薄膜图案形成于真空状态的体内，在真空状态箱体内进行制作布线图案。
因此，为了形成液晶显示面板内薄膜或薄膜图案需要产生真空压的箱体及排出箱体内空气以产生真空压的真空压产生装置。
传统真空压产生装置直接与形成在箱体内空气排出口连接，排出箱体内部空气形成箱体内真空压。
然而，将真空压产生装置直接与箱体连接时，空气排出口周围的压力比箱体内其他地方的压力低，其结果，出现箱体内真空压的均匀性显著减少的弊端。
箱体内真空压不均匀时，出现形成在液晶显示面板的薄膜质量明显降低的弊端。
发明内容
因此，本发明旨在实质性地克服现有技术中存在的一个或多个弊端及局限。
本发明一个目的在于提供一种可提高箱体内部的真空压均匀性的真空压产生装置。
本发明的另外一个目的在于提供一种具有所述真空压产生装置的薄膜形成装置。
根据本发明的真空压产生装置包括真空压产生单元及稳定化模块。
其中，真空压产生单元排出工序区域流体以在工序区域形成真空。稳定化模块置于工序区域及真空压产生单元，为了提高工序区域的真空均匀性，其具有流通流体的至少两个弯曲的流体通道。选择性地，稳定化模块包括至少两个排气极板，各排气极板在平面上观察时，形成彼此不面对的排气端口。优选地，形成在各排气极板的排气端口彼此串联或圆形布置。
此外，根据本发明的薄膜形成装置包括箱体、真空压产生单元、及稳定化模块。
箱体提供进行薄膜工序的空间，并形成开口。真空压产生单元置于开口，排出箱体内部流体以在箱体内部形成真空。稳定化模块置于真空压产生单元及箱体之间，为了提高箱体内部的真空均匀性，具有使箱体内部流体弯曲通过的至少两个流体通道。选择性地，稳定化模块包括至少两个排气极板，平面上观察时，在各排气极板形成彼此不面对布置的端口。优选地，形成在各排气极板的排气端口彼此串联或圆形布置。
本发明的特征在于，在箱体及真空单元之间布置使流体弯曲流出的稳定化模块，以减少工序区域内产生的真空不均匀性。
本发明的真空压产生装置包括产生真空压的真空压产生单元及提高真空均匀性的稳定模块。
排出真空压产生单元工序区域的流体以在工序区域形成真空。例如，本发明的真空产生单元为了在基片上形成薄膜排出工序区域内空气以形成真空。
稳定化模块置于工序区域及真空产生单元之间，提高工序区域的真空均匀性。稳定化模块流体包括，例如包括惰性气体的气体通过的至少两个弯曲流体通道。
像这样，随着工序区域内流体通过弯曲流体通道分散到外部，可提高工序区域内的真空均匀性。
图1是根据本发明第一实施例的真空压产生装置的示意性截面图；图2是示出了图1中的真空压产生装置的排气极板的分解透视图；图3是示出了根据本发明第二实施例的真空压产生装置的排气极板的分解透视图；图4是示出了根据本发明第三实施例的真空压产生装置的排气极板的分解透视图；图5是根据本发明第四实施例的真空压产生装置的示意性截面图；图6是根据本发明第五实施例的真空压产生装置的示意性截面图；图7是根据本发明第六实施例的薄膜形成装置的示意性截面图。
具体实施例方式
下面将参照附图详细说明根据本发明的优选实施例。
真空压产生装置实施例1
图1是根据本发明第一实施例的真空压产生装置的示意性截面图，图2是示出了图1中真空压产生装置的排气极板的分解透视图。
参照图1及图2，根据本实施例的真空产生装置400包括真空产生单元100及稳定化模块200。
真空产生单元100排出工序区域10内的流体以形成真空压，例如，排出气体在工序区域10内部形成真空压。
根据本实施例的真空压产生单元100的示例有通过马达内旋转运动排出工序区域10内气体的真空泵。此外，真空产生单元100可以使用可排出工序区域10内部气体的任何装置。
稳定化模块200置于工序区域10及真空压产生单元100之间，并提高工序区域10中的真空压均匀性。稳定模块200包括流体通道，例如具有使气体弯曲通过的两个流体通道。根据本实施例的稳定化模块200包括至少层叠两个的排气极板210。
根据本实施例的各排气极板210，在平面上观察时，其具有彼此不面对地错开布置的排气端口212。本实施例中，在平面上观察时，各排气端口210具有圆形或椭圆形，优选地，各排气端口212的排气面积相同。
下面，将根据本实施例的排气极板210定义为第n次排气极板、第n+1次排气极板、第n+2次排气极板，其中n为自然数。
本实施例中，在极板210中的第n次排气极板210a形成由至少两个排起端口212a组合的第n排气端口组。属于根据本实施例的第n排气端口组的排气端口212a，例如，可多个彼此串联布置。
另外，排气极板210中在第n+1次排气极板210b形成由至少两个排气端口212b组合的第n+1排气端口组。属于根据本实施例的第n+1排气端口组的排气端口212b，例如多个彼此串联布置。
本实施例中，优选地，属于第n排气端口的排气端口212a组及属于第n+1排气端口组的排气端口彼此不面对布置。
本实施例中，属于第n+1排气端口组的排气端口212b，在平面上观察时置于第n排气端口组的排气端口212a之间。优选地，属于第n+1排气端口组的排气端口212b置于属于第n排气端口组的四个排气端口212a之间。
根据本实施例的真空压产生装置400包括连接排气极板210及真空压产生单元100的固定件300。
固定件300为了形成底面320及容纳空间，其包括从底面320边缘延伸的侧壁310。
本实施例中，排气极板210通过固定件300被固定。优选地，排气极板210固定在固定件300的侧壁310。优选地，在固定件300底面形成与真空压产生单元100连接的开口322。本实施例中，固定件300的底面320，例如呈极板状。
根据本实施例，工序区域10内流体20通过由彼此不面对布置的排气端口被弯曲的移动通道向外部分散排除，以大大减少工序区域10内产生的真空压不均匀性。
实施例2图3是示出了根据本发明第二实施例的真空压产生装置的排气极板的分解透视图。根据本发明第二实施例的真空压产生装置除了稳定化模块之外，与所述的第一实施例的真空压产生装置具有相同结构，因此省略对其的重复说明，并且对于相同的组成元件以相同的参照符号及名称表示。
参照图3，根据本实施例的真空压产生装置400包括真空压产生单元100及稳定化模块200。
根据本实施例的稳定化模块200置于工序区域10及真空压产生单元100之间，以提高工序区域10中的真空压均匀性。稳定化模块200具有至少两个流体20通道，例如气体弯曲地通过的至少两个流体通道。
根据本实施例的稳定化模块200包括至少层叠两个的排气极板210。
平面上观察时，根据本实施例的各排气极板210具有彼此不面对而错开布置的排气端口212。本实施例中，在平面上观察时，各排气端口210呈圆形或椭圆形，优选地，各排气端口212的排气面积相同。
下面，将根据本实施例的排气极板210定义为第n次排气极板、第n+1次排气极板、第n+2次排气极板，其中n为自然数。
本实施例中，在排气极板210中的第n次排气极板210a形成由至少两个排气端口212a组合的第n排气端口组。根据本实施例的第n排气端口组的排气端口212a彼此并排具有同心圆并且圆形布置。
另外，在排气极板210中的第n+1次排气极板210b形成由至少两个排气端口212b组合的第n+1排气端口组。根据本实施例的第n+1排气端口组的排气端口212b彼此并排具有同心圆并且圆形布置。
本实施例中，优选地，属于第n排气端口组的排气端口212a及属于第n+1排气端口组的排气端口212b彼此不面对布置。
本实施例中，属于第n+1排气端口组的排气端口212b，在平面上观察时，置于第n排气端口组的排气端口212a之间。优选地，属于第n+1排气端口组的排气端口212b与由属于第n排气端口组的排气端口212c制成的圆具有相同中心，优选地，置于具有另外半径的位置。
本实施例中，工序区域10内流体20通过由彼此不面对地圆形布置的排气端口弯曲的移动通道向外分散排出，以减少在工序区域10内产生的真空不均匀性。
实施例3图4是示出了根据本发明第三实施例的真空压产生装置的排气极板的分解透视图。根据本发明第三实施例的真空压产生装置除了稳定化模块之外与所述第一实施例的真空产生装置具有相同的结构，因此省略对其的重复说明，对相同的组成元件用相同的参照符号及名称表示。
参照图4，根据本实施例的真空压产生装置400包括真空压产生单元100及稳定化模块200。
根据本实施例的稳定化模块200置于工序区域10及真空压产生单元100之间，提高工序区域100中的真空压均匀性。稳定化模块200具有流体通道，例如，气体弯曲地通过的至少两个流体通道。
根据本实施例的稳定化模块200包括至少层叠两个的排气极板210。
根据本实施例的各排气极板210，在平面上观察时，具有彼此不面对且错开布置的排气端口212。本实施例中，在平面上观察时，各排气端口210呈圆形或椭圆形，优选地，各排气端口212的排气面积相同。
下面，将根据本实施例的排气极板210定义为第n次排气极板、第n+1次排气极板、第n+2次排气极板，其中n为自然数。
本实施例中，在排气极板210中的第n次排气极板210a形成由至少两个排气端口212a组合的第n排气端口组。根据本实施例的第n排气端口组的排气端口212a多个随意(random)布置。
另外，在排气极板210中的第n+1次排气极板210b形成由至少两个排气端口212b组合的第n+1排气端口组。根据本实施例的第n+1排气端口组的排气端口212b多个随意布置。
本实施例中，优选地，属于第n排气端口组的排气端口212a及属于第n+1排气端口组的排气端口212b彼此不面对布置。
本实施例中，优选地，属于第n排气端口组的排气端口212a及属于第n+1排气端口组的排气端口212b彼此不面对布置。
本实施例中，工序区域10内的流体20通过由随意布置的排气端口弯曲的移动通道向外分散排出，以减少在工序区域10内产生的真空不均匀性。
实施例4图5是根据本发明第四实施例的真空压产生装置的示意性截面图。根据本发明第四实施例的真空压产生装置除了固定件之外与所述第一实施例的真空产生装置具有相同结构，因此省略对其重复内容的说明，对相同的组成元件以相同的参照符号及名称表示。
参照图5，根据本实施例的真空压产生装置400包括真空压产生单元100、稳定化模块200、及固定件300。
根据本实施例的固定件300为了形成底面320及容纳空间，其包括从底面320延伸的侧壁310。
本实施例中，排气极板210被固定件300固定。优选地，排气极板210固定在固定件300的侧壁310。在固定件300的底面320形成与真空产生单元100连接的开口322。
本实施例中，固定件300的底面330呈向真空压产生单元100其平面面积逐渐减少的圆锥体(cone)状。
本实施例中，优选地，在具有圆锥体状的底面330布置使流体排出弯曲通道的排气极板210。与此不同地，在呈圆锥状的底面330布置排气极板210。
根据本实施例，固定件300的底面330具有其平面面积逐渐减少的圆锥体状，从而较有效地向外排出工序区域10内的流体20，其结果，减少了工序区域10内产生的真空不均匀性。
实施例5图6是根据本发明第五实施例的真空压产生装置的示意性截面图。根据本发明第五实施例的真空压产生装置除了稳定化模块及固定件之外与所述第一实施例的真空产生装置具有相同的结构，因此省略对其的重复说明，对相同组成元件用相同参照符号及名称表示。
参照图5，根据本实施例的真空压产生装置400包括真空压产生单元100、稳定化模块200、及固定件300。
根据本实施例的稳定化模块200置于工序区域10及真空压产生单元100之间，并提高工序区域10中的真空压均匀性。稳定化模块200具有流体通道20，例如，具有流体弯曲通过的至少两个流体通道。
根据本实施例的稳定化模块200包括至少层叠两个的排气极板210。
根据本实施例的各排气极板210，在平面上观察时，具有彼此不面对且错开布置的排气端口212。本实施例中，在平面上观察时，各排气端口210呈圆形或椭圆形，优选地，各排气端口212的排气面积相同。
根据本实施例的固定件300为了形成底面320及容纳空间，其包括从底面320边缘延伸的侧壁310。
本实施例中，排气极板210被固定件300固定，优选地，排气极板210固定在固定件300的侧壁。在固定件300的底面320形成与真空压产生单元100连接的开口322。
本实施例中，固定件300的底面330具有向真空压产生单元100其平面面积逐渐减少的圆锥体状。本实施例中，在具有圆锥体状的底面330布置使流体排出弯曲通道的排气极板210。
本实施例中，形成在各排气极板210的多个排气端口214，例如，在底面330的开口332以圆形或椭圆形布置，根据本实施例的各排气端口214的排气面积从底面330开口越远远大。与此不同地，各排气端口214的排气面积从底面330开口越远越小。
例如，置于具有圆锥体状的底面330的各排气极板210的排气端口214从开口332越远离其面积越大，优选地，固定在侧壁310的各排气极板210的排气端口214从开口332与距离无关具有相同面积。
本实施例中，各排气端口214的排气面积从底面330的开口332越远越大，从而工序区域10内的流体20可更有效地排出到外部。
薄膜形成装置实施例6图7是根据本发明第六实施例的薄膜形成装置的示意性截面图。
参照图7，根据本实施例的薄膜形成装置包括箱体500、真空压产生单元100、及稳定化模块200。
箱体500提供空间，例如，提供形成基片上以薄膜形态沉积金属层或非金属层的薄膜工序的空间。
根据本实施例的箱体500内的流体20，例如形成将惰性气体排出到外部的开口510。本实施例中，在箱体500内布置空气吸收性良好的吸气器(getter)，以提高箱体500内的真空度。真空压产生单元100与箱体500内的开口510连接，并排出箱体500内的流体20，以在箱体500内部形成真空。
稳定化模块200置于真空压产生单元100及箱体500之间，提高箱体500内部的真空均匀性。在稳定化模块200形成流体20通道，例如形成气体通过的至少两个弯曲的流体通道。
根据本实施例的稳定化模块200包括至少层叠两个的排气极板210。
平面上观察时，在根据本实施例的各排气极板210形成彼此不面对的排气端口212。本实施例中，各排气端口210呈圆形或椭圆形，优选地，各排气端口212的排气面积彼此相同。与此不同地，各排气端口212的排气面积从真空压产生单元100越远越大。
本实施例中，形成在各排气极板210的排气端口210，例如多个彼此串联布置。与此不同地，形成在各排气极板210的多个排气端口212以圆形布置或随意布置。
根据本实施例的真空压产生装置400进一步包括排气极板210及与真空压产生单元100连接的固定件300。
根据本实施例的固定件300包括底面320及为了形成容纳空间从底面320边缘延长的侧壁310。
本实施例中，排气极板210被固定件300固定。优选地，排气极板210固定在固定件300的侧壁310。在固定件300的底面320形成于真空压产生单元100的连接开口322。
本实施例中，固定件300的底面320，例如呈极板状。与此不同地，固定件300的底面320具有向真空压产生单元100其平面面积减少的圆锥体状。
本实施例中，箱体500内部的流体具有排气端口212弯曲的移动通道并向外部分散排出，以减少在箱体10内产生的真空不均匀性。
发明效果如上所述，形成在各排气极板的多个排气端口彼此不面对布置，其结果，工序区域内的流体由排气端口弯曲分散排出，以减少工序区域内产生的真空不均匀性。
而且，固定排气极板的固定件中的底面呈其平面面积减少的圆锥体状，以在工序区域内的流体通过圆锥状底面排出到外部，更加提高排出效率。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包括在本发明的保护范围之内。
符号说明100真空压产生单元 200稳定化模块
210排气极板 212排气端口210a、210c、210e第n次排气极板212a、212c、212e第n次排气极板210b、210d、210f第n+1次排气极板212b、212d、212f第n+1次排气极板300固定件 310侧壁320、330底面322、332开口400真空压产生装置 500箱体600薄膜形成装置
权利要求
1.一种真空压产生装置，其包括真空压产生单元，排除工序区域流体以在所述工序区域内形成真空；以及稳定化模块，置于所述工序区域及所述真空压产生单元之间，为了提高所述工序区域的真空均匀性，其具有所述流体通过的至少两个弯曲的流体通道。
2.根据权利要求1所述的真空压产生装置，其特征在于，所述稳定化模块包括至少两个排气极板，平面上观察时在所述各排气极板形成彼此不面对的排气端口。
3.根据权利要求2所述的真空压产生装置，其特征在于，在所述排气极板中第n次排气极板形成包括至少两个排气端口的第n排气端口组，其中n为自然数。
4.根据权利要求3所述的真空压产生装置，其特征在于，包括在所述第n排气端口组的所述排气端口彼此串联布置。
5.根据权利要求3所述的真空压产生装置，其特征在于，包括在所述第n排气端口组的所述排气端口圆形布置。
6.根据权利要求3所述的真空压产生装置，其特征在于，在所述排气极板中第n+1次排气极板形成平面上观察时与所述第n排气端口不面对布置的第n+1排气端口组，其中n为自然数。
7.根据权利要求6所述的真空压产生装置，其特征在于，在所述第n+1排气端口组，所述排气端口彼此串联布置。
8.根据权利要求2所述的真空压产生装置，其特征在于，所述各排气端口的排气面积实际相同。
9.根据权利要求2所述的真空压产生装置，其特征在于，所述排气极板及所述真空产生单元与固定件连接，所述固定件包括形成固定所述排气极板的侧壁及与所述真空压产生单元连接的开口的底面。
10.根据权利要求9所述的真空压产生装置，其特征在于，所述底面呈极板状。
11.根据权利要求9所述的真空压产生装置，其特征在于，所述底面呈其平面面积逐渐减少的圆锥状。
12.根据权利要求9所述的真空压产生装置，其特征在于，所述排气端口以圆形排列在所述开口周边，所述排气端口的排气面积从所述开口越远越大。
13.根据权利要求9所述的真空压产生装置，其特征在于，所述排气端口以圆形排列在所述开口周边，所述排气端口的排气面积从所述开口越远越小。
14.根据权利要求2所述的真空压产生装置，其特征在于，形成在所述各排气极板的排气端口随意形成。
15.一种薄膜形成装置，其包括箱体，提供进行薄膜工序的空间并且形成有开口；真空压产生单元，置于所述开口，并排出所述箱体内的流体以在所述箱体内部形成真空；稳定化模块，置于所述真空压产生单元及所述箱体之间，为了提高箱体内部真空均匀性，其具有使所述箱体内部流体弯曲通过的至少两个流体通道。
16.根据权利要求15所述的薄膜形成装置，其特征在于，所述稳定化模块包括覆盖所述开口的至少两个排气极板，在所述排气极板形成平面上观察时彼此不面对的排气端口。
17.根据权利要求16所述的薄膜形成装置，其特征在于，在所述排气极板中第n次排气极板形成至少一个第n排气端口组，包括在所述第n排气端口组的所述排气端口彼此串联布置。
18.根据权利要求16所述的薄膜形成装置，其特征在于，在所述排气极板中第n次排气极板形成至少一个第n排气端口组，包括在所述第n排气端口组的所述排气端口圆形排列。
19.根据权利要求16所述的薄膜形成装置，其特征在于，在所述排气极板中第n+1次排气极板形成平面上观察时与所述第n排气端口组面不面对布置的第n+1排气端口组，所述排气端口在所述第n+1排气端口组串联布置。
20.根据权利要求16所述的薄膜形成装置，其特征在于，在所述排气极板中第n+1次排气极板形成平面上观察时与所述第n排气端口组不面对布置的第n+1排气端口组，所述排气端口在所述第n+1排气端口组圆形布置。
21.根据权利要求16所述的薄膜形成装置，其特征在于，所述排气极板及所述真空产生单元与固定件连接，所述固定件包括固定所述排气极板的侧壁及形成与所述真空压产生单元连接的开口的底面。
22.根据权利要求21所述的薄膜形成装置，其特征在于，所述底面呈极板状。
23.根据权利要求21所述的薄膜形成装置，其特征在于，所述底面呈其平面面积逐渐减少的圆锥状。
24.根据权利要求21所述的薄膜形成装置，其特征在于，所述排气端口圆形排列在开口周边，所述排气端口的排气面积从所述开口越远越大。
全文摘要
本发明提供了一种真空压产生装置及具有该真空压产生装置的薄膜形成装置。真空压产生装置包括真空压产生单元及稳定化模块。真空压产生单元排出工序区域流体以在工序区域形成真空。稳定化模块置于工序区域及真空压产生单元之间，为了提高工序区域的真空均匀性，其具有流体通过的至少两个弯曲的流体通道。工序区域内流体通过弯曲的流体通道排出，以提高工序区域内的真空均匀性。
文档编号H01L21/311GK1790612SQ20051011582
公开日2006年6月21日 申请日期2005年11月9日 优先权日2004年12月6日
发明者宋仁虎, 赵宽英 申请人:三星电子株式会社