基板处理装置和其使用的支承架的制作方法

专利名称：基板处理装置和其使用的支承架的制作方法
技术领域：
本发明涉及具备对被处理基板实施规定处理的处理室的基板处理 装置和用于支承该基板处理装置的支承架。
背景技术：
在半导体制造工序中，使用用于对玻璃基板(例如液晶显示器等 的平板显示基板)或半导体晶片(以下，也简称为"晶片")等被处理 基板实施蚀刻处理、成膜处理等规定的工艺处理的基板处理装置。近 年来，以高集成化和高处理量化为目的，广泛使用具备多个处理室(腔 室)的多腔室型基板处理装置。在这种基板处理装置中，多个处理室 和搬送室通过闸阀连接，利用搬送室内所具备的搬送机构，将被处理 基板连续地依次搬入各处理室，在各处理室内，对被处理基板实施各 自的工艺处理。
在将上述那样的基板处理装置设置在清洁室内时，在清洁室的地 面上配置能够载置处理室的大小的支承架，将处理室载置在该支承架 上，并且在支承架的内部空间配置控制设备、匹配器、真空泵、各种
电缆、气体管等。例如，在下述专利文献l、 2中记载了支承处理室的 支承架。
但是，如果如上述那样将处理室载置在支承架上，则处理室就会 位于清洁室的地面上方。并且，最近，处理室的大型化日益进展，处 理室的顶部进一步增高，操作者难以在直接站立在地面上的状态下进 行处理室的维护操作。因此，在现有技术中，沿着支承架组装脚手架， 操作者站在该脚手架上进行处理室的维护操作。
专利文献l:日本特开平7-193115号公报
专利文献2:日本特开平8-335540号公报
但是，在现有技术中，为了组装脚手架，需要与处理室的支承架 邻接设置脚手架用的支承架，在其上铺设脚手架，所以脚手架用的支承架成为障碍，无法放置例如维护操作用的工具或测定设备等，无法 有效利用脚手架下的空间。
特别是在随着被处理基板大型化、基板处理装置日益大规模化的 今天，存在支承架在清洁室的地面所占的面积进一步扩大的趋势，如 果不能利用脚手架下的空间，则很有可能导致出现需要进一步增大清 洁室的地面面积的问题。
此外，在为大型处理室的情况下，收容在处理室的下方空间即收 容在支承架内的设备，例如真空泵、匹配器等也必然增大，所以处理 室被支承在更高的位置上。在这种环境下，操作者能够进入处理室的 下方空间，进行维护操作等，能够利用维护用的脚手架的下方空间。 但是，在现有技术中，与支承架邻接的脚手架用的架阻碍操作者的通 行，还存在操作性下降的问题。

发明内容
因此，本发明是鉴于这种问题而完成的，其目的在于，提供一种 例如能够有效利用维护操作等中使用的脚手架的下方空间的基板处理 装置和该基板处理装置使用的支承架。
为了解决上述问题，根据本发明的一个观点，提供一种支承架， 其用于支承具备对被处理基板实施规定处理的处理室的基板处理装 置，该支承架配置在地面上，其特征在于在距上述地面规定高度的 部位，以从上述处理室的周围向外侧伸出的方式直接设置有脚手架。 该脚手架例如具备安装在上述支承架的外侧的多个支承托架、和被水 平支承在上述支承托架上的脚手架板。
为了解决上述问题，根据本发明的另一观点，提供一种基板处理 装置，其具备对被处理基板实施规定处理的处理室、和配置在地面上 的用于支承上述处理室的支承架，上述基板处理装置的特征在于，具 备多个支承托架，其在距上述地面规定高度的部位，以从上述处理 室的周围向外侧伸出的方式直接安装在上述支承架的外侧；和被水平 支承在上述支承托架上的脚手架。
根据本发明，由于在支承基板处理装置的支承架上直接设置脚手 架，所以，不需要在脚手架板的下方空间设置用于支承该脚手架板的架或腿。由此，能够有效利用脚手架板的下方空间。并且，通过在支 承架上直接设置脚手架，能够在容易进行维护操作的位置形成脚手架。
此外，优选上述各支承托架由型钢形成。由此，支承托架的刚性 提高，能够增大由该支承托架支承的脚手架上的最大负载荷重。
优选各支承托架相对于支承架装卸自如。由此，能够仅在需要脚 手架板的位置安装支承托架。并且，能够在取下支承托架的状态下输 送支承架，所以能够抑制输送成本。
此外，优选上述处理室由基体部和在该基体部上装卸自如的盖体
部构成，还具备能够使从上述基体部脱离的上述盖体部滑动至上述基
体部侧面的避让部位的导轨，在上述导轨的周围也设置有脚手架，使 得能够在与上述处理室的周围的脚手架之间通行。由此，操作者能够
一边在处理室的周围的脚手架与导轨的周围的脚手架之间通行， 一边 进行基体部内部的维护，并且能够进行从基体部在导轨上避让的盖体 部的维护。
此外，还可以在上述处理室的周围的脚手架和上述导轨的周围的 脚手架之间，设置阻碍这些脚手架间的通行的门。通过由门限制向这 些脚手架的移动，能够使得除必要的情况外无法进入导轨的周围的脚 手架，能够提高维护操作的安全性。
在这种情况下，具备检测上述门的开闭状态的传感器、和根据上 述传感器的检测结果控制上述盖体部的装卸动作的控制部，上述控制 部进行限制，使得在上述传感器检测出上述门为开状态的期间，无法 进行上述盖体部的装卸动作。由此，能够将例如装卸动作中盖体部与 脚手架板上的操作者接触等事故防患于未然，能够进一步提高维护操 作的安全性。
此外，上述门可以为由外门和相对于该外门自由转动的内门构成 的双重门结构，上述外门以比上述脚手架窄的宽度构成，由靠近上述 脚手架外侧设置的支柱部枢轴支承，上述内门由上述外门的门前端一 侧枢轴支承。由此，即使关闭外门，也会在脚手架的内侧(外门的门 前端与支承架之间)形成不存在门的间隙。因此，即使在盖体部的一 部分向支承架或导轨的外侧(脚手架一侧)伸出的情况下，也能够在 使盖体部沿导轨滑动时，关闭外门和内门，禁止进入导轨的周围的脚手架，并且能够防止外门与内门的干扰。此外，在盖体部关闭时，通 过在打开内门的状态下关闭外门，能够关闭脚手架内侧的间隙。由此， 能够限制操作者进入导轨的周围的脚手架。
此外，可以在上述门上设置锁定机构，上述控制部进行锁定，使 得在检测出上述盖体部为闭状态的期间和进行上述盖体部的装卸动作 期间，上述门不打开。在盖体部为闭状态时，导轨上不存在盖体部， 所以在导轨附近出现大的空间，有可能导致操作者掉下。在如上所述 有可能导致操作者掉下的情况下，通过将门锁定，能够强制性地使操 作者无法进入导轨的周围的脚手架。
根据本发明，通过在支承基板处理装置的支承架上直接设置脚手 架，脚手架板的下方空间也能够得到有效利用，并且能够在容易进行 处理室等的维护操作的位置形成脚手架。


图1是表示本发明的第一实施方式涉及的基板处理装置的外观结 构的立体图。
图2是从上方观察图1所示的基板处理装置时的平面图。 图3是图1所示的基板处理装置的正面图。
图4是用于说明图1所示的基板处理装置的支承架的结构的立体图。
图5是用于说明图4所示的支承托架的安装例的立体图。 图6是从侧面观察图5所示的支承托架与梁部件的连接部的图。 图7是表示本发明第二实施方式涉及的基板处理装置的结构的立 体图，是从上方观察基板处理装置时的平面图。
图8是表示图7所示的门的结构例的概略的立体图。
图9是从上方观察图8所示的门的平面图。
图10是表示图7所示的门的另一结构例的概略的立体图。
符号说明
100基板处理装置
102 (102A 102C) 闸阀
104、 106 闸阀110(110A 110C)
112(112A 112C)
113(113A 113C)
114(114A 114C)
120搬送室
130负载锁定室
140支承架
142梁部件
144柱部件
160脚手架
162支承托架
164脚手架板
166围栏
170底板
172紧固部件
200基板处理装置
202(202A 202C)
210(210A1、 210A2
212门主体
214支柱部
216铰链部
218传感器
220双重门
222外门
224内门
260、262脚手架
290控制部
S 1间隙
处理室 基体部 滑动机构 盖体部
导轨
210B1、 210B2、 210CO
门
具体实施例方式
下面，参照附图详细说明本发明的优选实施方式。其中，在本说明书和附图中，对实质上具有相同功能结构的构成要素标注相同符号， 并省略重复说明。
(第一实施方式涉及的基板处理装置的结构例)
首先，参照附图对将本发明用于具备多个处理室的多腔室型的基 板处理装置时的实施方式进行说明。图1是表示本实施方式涉及的基
板处理装置的外观结构的概略的立体图。图2是图1所示的基板处理 装置的平面图(图1的箭头A)，图3是正面图(图1的箭头B)。图l 图3所示的基板处理装置100具备三个用于对作为被处理基板的平板 显示器用基板(FPD基板)实施等离子体处理的处理室110 (110A IIOC)。
各处理室110由基体部112 (112A 112C)和盖体部114 (114A 114C)构成。其中，基体部112设置有用于载置例如一边约为3m的 FPD用基板的载置台，盖体部114以装卸自如的方式设置在该基体部 112上，具备向处理室110内供给反应能量的电极、用于形成处理气体 气氛的喷淋头等。在进行处理室110内部的维护操作时，将盖体部114 从盖体部112取下。由此，能够交换或调整处理室110的顶部开放的 处理室110内部的部件。其中，各处理室110，可以以进行相同处理(例 如蚀刻处理等)的方式构成，也可以以进行互不相同的处理(例如蚀 刻处理和灰化处理等)的方式构成。
各处理室110通过闸阀102 (102A 102C)与截面为多边形(例 如截面为矩形)的搬送室120的侧面连接。搬送室120上还通过闸阀 104连接有负载锁定室130。这样一来，在本实施方式的基板处理装置 100中，多个处理室110和负载锁定室130以包围搬送室120的方式配 置。并且，基板搬出搬入机构(在此省略图示)通过闸阀106与负载 锁定室130连接。
上述多个处理室110、搬送室120和负载锁定室130载置在配置于 清洁室地面上的呈箱状的支承架140上，进行高度调节，使得距清洁 室的地面为规定高度，例如为1800mm。由此， 一边将FPD用基板保 持在该搬送高度(经过路线)， 一边搬入基板处理装置100。
此外，通过将各室载置在支承架140上，能够确保各室的下方、 即支承架140内的空间。在各空间内配设有例如控制各室的驱动部的控制设备、高频电源、匹配器、其他电力设备、测定设备、包括真空 泵的排气装置、各种电缆、气体管等。
支承架140为了稳定地支承各室而具有足够的强度，例如由以金 属制的方管或H型钢为代表的型钢构成。此外，在多个处理室110、 搬送室120和负载锁定室130为大型情况下等，可以将例如由型钢构 成的梁部件架在支承架140的上表面，在其上载置各室。由此，能够 防止各室的框体的变形。
此外，基板处理装置100还具备例如维护操作中使用的脚手架 160。具体而言，以在距清洁室的地面规定高度(例如1800mm)从支 承架140向其外侧水平伸出的方式具备该脚手架160。如上所述，在本 实施方式的基板处理装置100中，多个处理室110和负载锁定室130 以包围搬送室120的方式配置，这些室载置在支承架140上。因此， 如图l、图2所示，脚手架160位于处理室IIO和负载锁定室130的周 围。操作者能够在该脚手架160上移动至目的地点，进行各处理室110、 搬送室120和负载锁定室130的维护。
这种本实施方式的脚手架160通过直接固定在支承架140上而被 支承，其特征在于不具备支承其本身的架或腿。下面描述脚手架160 的更具体的结构例。
通过本实施方式的基板处理装置100，在对FPD用基板进行等离 子体处理时，首先利用基板搬出搬入机构(未图示)将FPD用基板搬 入负载锁定室130内。此时，如果在负载锁定室130内存在处理结束 的FPD用基板，则从负载锁定室130内搬出该处理结束的FPD用基板， 更换为未处理的FPD用基板。将FPD用基板搬入负载锁定室130内后， 关闭闸阀106。
接着，将负载锁定室130内减压至规定的真空度后，打开搬送室 120与负载锁定室130间的闸阀104。接着，利用搬送室120内的搬送 机构(未图示)，将负载锁定室130内的FPD用基板搬入搬送室120 内，然后关闭闸阀104。
接着，打开搬送室120与处理室IIO之间的闸阀102，利用上述搬 送机构将未处理FPD用基板搬入到处理室110内的载置台上。此时， 如果存在处理结束的FPD用基板，则搬出该处理结束的FPD用基板，更换为未处理的FPD用基板。
在处理室110内，从喷淋头向载置在载置台上的FPD用基板供给 处理气体，同时向下部电极或上部电极中的任一个或者两个电极供给 高频电力，在上部电极与下部电极间产生处理气体的等离子体。由此， 对FPD用基板实施规定的等离子体处理。 (脚手架的结构例)
这里，参照附图详细说明本实施方式的脚手架160的具体的结构 例。图4是用于说明基板处理装置的支承架的立体图。其中，如图4 所示，处理室110、搬送室120和负载锁定室130载置在支承架140的 上侧。
如图4所示，在支承架140上，以在距清洁室的地面规定高度从 处理室110的周围向外侧伸出的方式直接安装有多个支承托架162。但 是，在不设置脚手架160的部位，不安装支承托架162。例如，为了不 妨碍FPD用基板相对于负载锁定室130的搬出搬入，可以在该闸阀106 的下方不设置脚手架160。因此，在该部位不安装支承托架162。
此外，在本实施方式中，多个支承托架162安装在构成支承架140 上端部的梁部件142上。在这些多个支承托架162之上铺设有多个脚 手架板164，由此形成脚手架160。支承托架162具有高刚性，例如由 H型钢构成。并且，优选脚手架板164的变形量小且质量轻，例如由 网状结构的铝或不锈钢构成。此外，优选对脚手架板164的表面实施 防滑加工。
在此，参照

支承托架162的具体安装例。图5是用于说 明支承托架162的安装例的立体图，放大显示支承托架162与梁部件 142的连接部。图6是从侧面观察图5所示的连接部的图。如图5和图 6所示，为了稳定地支承处理室110、搬送室120和负载锁定室130， 本实施方式的梁部件142由具有高刚性的例如H型钢构成。此外，还 优选支承该梁部件142的柱部件144也由H型钢构成。
底板170以横跨在梁部件142的两个凸缘之间的方式焊接在梁部 件142上。并且，利用螺栓等紧固部件172将支承托架162的端部紧 固在底板170上。由此，多个支承托架162可靠且牢固地安装在支承 架140上。通过在安装于支承架140的梁部件142上的多个支承托架162之 上铺设多个脚手架板164并进行固定，脚手架板164被水平支承，形 成脚手架160。并且，还可以在脚手架160上设置用于防止操作者掉下 的围栏。具体而言，例如如图6所示，可以沿着脚手架160外侧的侧 面安装围栏166。由此，能够提高脚手架160的安全性。
但是，在本实施方式中，多个支承托架162安装在支承架140上 端的梁部件142上，所以脚手架160的高度与支承架140的高度基本 相同。相对于此，在将脚手架160设置在更低位置的情况下，可以将 例如与梁部件142相同的梁部件以梁部件142与地面之间水平的方式 安装在柱部件144上，并在其上安装支承托架162。
此外，可以根据处理室110、搬送室120和负载锁定室130的形状， 特别是根据高度尺寸，调节脚手架160的安装高度，使脚手架160构 成为台阶状。
如上所述，在本实施方式中，由于在支承基板处理装置100的支 承架140上直接设置脚手架160，所以不需要支承脚手架板164的架或 腿。因此，在脚手架160的下侧形成没有障碍物的空间，所以能够在 此放置例如维护操作用的工具或测定设备等，能够对清洁室内进行有 效利用。
此外，通过在支承架140上直接设置脚手架160，能够在易于进行 维护操作的位置形成脚手架。例如能够以与处理室110之间没有大的 间隙的方式设置脚手架，并且，与现有方式的在处理室旁边独立地组 装脚手架的情况相比，能够设置更稳定的脚手架。
此外，由于脚手架160位于距清洁室的地面约1800mm的高度， 操作者能够不受脚手架160阻碍地在脚手架160下通过。因此，能够 安全且迅速地进入支承架140的内侧，固然能够有效地进行载置于支 承架140上的处理室110、搬送室120和负载锁定室130的维护，也能 够有效地进行收容在支承架140内的器材的维护。
并且，根据本实施方式，通过增减支承托架162的数量，能够简 单地应对基板处理装置IOO所需求的脚手架160的最大负载荷重。
并且，由于支承托架162通过紧固部件172与支承架140紧固， 所以能够在清洁室内设置支承架140之前，取下支承托架162和脚手架164。因此，能够抑制支承架140的运输成本。
此外，本实施方式的脚手架160以包围处理室110和负载锁定室 130的方式设置，但并不限定于此，例如可以根据基板处理装置100 的设置状况，仅在必要的部位设置脚手架160。
(第二实施方式)
下面，参照

本发明的第二实施方式。图7是表示第二实 施方式涉及的基板处理装置的结构例的概略的平面图。如图7所示， 该基板处理装置200与第一实施方式的基板处理装置100同样，在搬 送室120的周围，设置有多个处理室110和负载锁定室130。
图7所示的各处理室110 (110A 110C)由基体部112 (112A 112C)和自由地从该基体部112取下的盖体部114 (114A 114C)构 成(参照图1)。并且，在这些处理室110 (110A 110C)中分别设置 有向其侧面延伸伸出的一对导轨202 (202A 202C)。这些一对导轨 202 (202A 202C)用于使从基体部112取下的盖体部114滑动至基体 部112侧面的避让部位(使盖体部114即使以滑动机构113为轴以翻 过来的方式旋转，也不与基体部112发生干扰的部位)。
盖体部114 (114A 114C)分别在其侧部设置有一对滑动机构113 (113A 113C)。滑动机构113 U13A 113C)具备例如围绕水平轴自 由旋转地支承盖体部114 (114A 114C)的支承部件(未图示)。并且， 支承部件也作为沿着导轨202 (202A 202C)自由滑动的滑块发挥作 用。其中，图7所示的盖体部114B、 114C为关闭状态，盖体部114A 为沿着导轨202A滑动的状态。
在进行处理室110的维护操作时，利用开闭机构(未图示)使盖 体部114从基体部112脱离后，利用滑动机构113使其在导轨202上 滑动移动。接着，使盖体部114以滑动机构113的支承部件(未图示) 为轴，在平行的导轨202间旋转180°，使其翻转过来。由此，基体部 112和盖体部114均为内部向上，所以，在操作者登上脚手架260、 262 的状态下，能够进行设置在基体部112与盖体部114的内部的各种部 件的维护。
此外，在图7所示的支承基板处理装置200的支承架140上，以 从各处理室110的周围伸出的方式设置有例如维护操作中使用的脚手架260。该脚手架260与第一实施方式同样构成。即，由多个支承托架 162和铺设在这些支承托架162上的多个脚手架板164构成，其中，该 支承托架162在距清洁室的地面规定高度，以从处理室的周围向外侧 伸出的方式直接安装在支承架140上。
并且，在图7所示的基板处理装置200中，进一步在各处理室110 侧面的导轨202周围，也设置脚手架262。使得能够在这些导轨202 周围的脚手架262与处理室110的脚手架260之间通行，这些脚手架 260、 262合在一起构成基板处理装置200周围的脚手架。这样，通过 不仅设置处理室110周围的脚手架260，也在导轨202周围设置脚手架 262，操作者能够在这些脚手架260、 262之间通行，不仅能够进行各 处理室110的基体部112的内部的维护，还能够进行位于导轨202上 的盖体部114的内部的维护。
对于这样的导轨202周围的脚手架262，也可以与处理室110周围 的脚手架260同样构成。其中，根据处理室110的结构，有时可以不 用支承架140支承导轨202，在这种情况下，在导轨202的周围不安装 脚手架262的支承托架，所以，对于脚手架262而言，另外设置用于 支承脚手架板的支承架，以代替由支承托架支承脚手架板。
但是，在操作者位于导轨202周围的脚手架262上时，由于使盖 体部114沿着导轨202滑动移动有可能会导致盖体部114与操作者接 触，因而不优选。此外，在基体部112的盖体部114关闭时，由于在 导轨202上不存在盖体部114，所以在例如一对导轨202间等导轨202 附近出现大的空间。如果此时操作者位于导轨202周围的脚手架262 上，有可能导致例如由于步行而掉在导轨202间等。为了应对该问题， 可以考虑在脚手架262的导轨202 —侧设置围栏，但是该围栏有可能 妨碍盖体部114的维护操作。
因此，在本实施方式中，例如如图7所示，优选在各处理室110 周围的脚手架260与各导轨202周围的脚手架262之间，设置阻碍在 这些脚手架260、 262间通行的多个门210 (210A1、 210A2、 210Bl、 210B2、 210Cl)。由此，能够使得除必要情况外无法进入各导轨202 周围的脚手架262。
以下，参照

这种门210的具体结构例。图8是表示门210的结构例的概略的外观立体图，图9是从上方观察门210的平面图。 门210构成为，用铰链部216将门主体212枢轴支承在例如图8所示 的立起的支柱部214上。支柱部214可以设置在处理室110周围的脚 手架260上，还可以设置在导轨202周围的脚手架262上。在将支柱 部214设置在处理室110周围的脚手架260上时，例如可以安装在多 个支承托架162 (在图8中省略图示)上。
此外，如图9所示，在门210上设置有检测门主体212的开闭状 态的传感器218。作为这种传感器218，可以列举例如非接触式开关或 限位开关等。在使用非接触式开关作为传感器218的情况下，将传感 器218安装在门主体212上，使得例如在门主体212完全关闭时，支 柱部214的金属部进入传感器218的检测范围。
该传感器218与控制基板处理装置200整体的控制部290电连接， 控制部290能够根据来自传感器218的检测信号掌握门210的开闭状 态。并且，控制部290也与各处理室110的盖体部114的开闭机构电 连接。因此，控制部290能够根据门210的开闭状态控制盖体部114 在导轨202上的滑动动作。作为这种联锁控制的具体例有下述例子。
控制部290，例如根据来自门210A1和门210A2的各传感器218的 信号，在检测出门210A1、210A2两者均关闭的期间，允许处理室110A 的盖体部114A沿着导轨202A滑动。
此时，例如在盖体部114A的开闭机构为手动方式的情况下，例如 能够解除开闭结构的制动，由操作者进行盖体部114A的滑动动作。此 外，在盖体部114A的开闭机构为自动方式的情况下，控制部290控制 盖体部114A的开闭机构，使盖体部114A沿着导轨202A滑动移动。
相对于此，在检测出门210A1和门210A2中的至少一个门为打开 的期间，控制部290禁止盖体部114A的滑动动作。
在这种情况下，在基体部112的盖体部114关闭时，将能够进入 盖体部114滑动的导轨202周围的脚手架262的门210全部关闭，在 操作者正在导轨202周围的脚手架262上进行操作时，需要打开能够 进入该脚手架262的门210。
例如，在操作者位于门210A1和门210A2之间的脚手架262上的 情况下，将两个门210A1、 210A2中的至少一个打开，在操作者不位于该脚手架262上的情况下，可以关闭两个门210A1、 210A2。
由此，在两个门210A1、 210A2关闭时，由于操作者不位于导轨 202A周围的脚手架262上，所以，即使使盖体部114沿着导轨202A 滑动，也不存在操作者与盖体部114接触的可能性。并且，即使在使 盖体部114沿着导轨202滑动至基体部112时，也不会发生操作者从 脚手架262掉下的危险。
此外，例如可以在门210上设置能够根据来自控制部290的控制 进行开锁、上锁的锁定机构，根据盖体部114的开闭动作，控制门210 的锁定机构。即，在基体部112的盖体部114关闭时、或者在盖体部 114正在沿着导轨202滑动时，自动地在门210上上锁，强制地使操作 者无法进入导轨202周围的脚手架262。并且，可以在导轨202周围的 脚手架262上设置面传感器，直接检测有无操作者，根据该检测结果， 控制盖体部114的滑动动作。
如此根据第二实施方式，能够得到与第一实施方式同样的效果。 并且，通过在处理室110周围的脚手架260与导轨202周围的脚手架 262上设置门210，使得仅在必要时才能够进入导轨202周围的脚手架 262，由此能够进一步提高维护操作的安全性。
并且，设置在处理室110周围的脚手架260与导轨202周围的脚 手架262上的门的结构不限定于图8所示的结构，也可以为由在门的 内侧进一步设置有门的两个门构成的所谓双重门结构。例如如图7所 示，在盖体部114 (114A 114C)的滑动机构113 (113A 113C)不 向支承架140或导轨202的外侧伸出的情况下，即使使用图8所示的 门210，盖体部114滑动时，也不会与门210发生干扰。
但是，由于盖体部114或其滑动机构113的形状等，例如如图1 所示，有时盖体部114的滑动机构113的一部分会伸出到支承架140 或导轨202的外侧。在这种盖体部114沿着导轨202滑动时，有可能 导致盖体部114或滑动机构113的一部分对关闭的门210造成干扰。 因此，在这种情况下，通过使用两个门结构的门，例如图10所示的双 重门代替一个门结构的门210，能够防止盖体部114进行滑动时与门 210发生干扰。
下面，说明作为这种门的变形例的双重门的具体的结构例。图10是本实施方式的双重门的外观立体图。图IO所示的双重门220由两个 门构成，即由外门(主门)222、以及在外门222的旁边重叠设置的内 门(副门)224构成。外门222与图8所示的上述门210的门主体212 同样，例如利用铰链部216枢轴支承在立起的支柱部214上。
内门224是用于关闭外门222的门前端的外侧的门，即使在使内 门224与外门222重叠的状态下，如果关闭外门222，也不能穿过(不 能在脚手架260与脚手架262之间通行)。具体而言，内门224由安装 在外门222的门前端一侧的铰链部(未图示)枢轴支承，能够以门前 端为中心，向箭头R或L的方向转动。
根据如此构成的双重门220，通过关闭外门222，能够限制操作者 在脚手架260、 262间通行。并且，外门222的宽度比脚手架260、 262 的宽度窄，由此，即使完全关闭外门222，也能够在其门前端与支承架 140之间，即在脚手架260、 262的内侧形成间隙S，该间隙S用于防 止盖体部114进行滑动时与外门222之间的干扰。
具体而言，如果使内门224向箭头R的方向转动并与外门222重 叠，能够在脚手架260、 262的内侧形成不存在门的间隙S。相对于此， 如果使内门224向箭头L的方向转动，就会使内门224转动至外门222 的门前端的外侧，所以，通过内门224，能够堵住脚手架260、 262的 内侧的间隙S。
例如，在盖体部114关闭时，通过使内门224向箭头L方向转动， 并关闭外门222，将间隙S堵住。由此，能够限制操作者从各处理室 110周围的脚手架260进入各导轨202周围的脚手架262。
此外，在盖体部114进行滑动动作时，在使内门224与外门222 重叠的状态下，关闭外门222。由此，能够在外门222的门前端与支承 架140之间(与处理室110之间)确保间隙S，所以，能够防止滑动机 构113等与外门222发生干扰。g卩，即使呈滑动机构113的一部分向 外侧伸出的形状时，由于该伸出的部分在盖体部114进行滑动时通过 间隙S，所以不会与双重门220发生干扰。并且，在这种情况下，操作 者无法进入各导轨202周围的脚手架262。
并且，在盖体部114完全打开时，保持内门224与外门222重叠， 打开外门222，由此操作者能够从各处理室110周围的脚手架260进入各导轨202周围的脚手架262。
并且，通过在外门222和内门224附近设置非接触式开关或限位 开关等传感器，能够根据外门222和内门224的开闭状态，控制盖体 部114的滑动动作。
此外，对于第二实施方式中分别使用铰链门构成门210、双重门 220的情况进行了说明，但并不限于此，也可以分别由拉门或折叠门等 构成门210、双重门220。
以上，参照

了本发明的优选实施方式，但本发明并不限 定于此。只要是本领域技术人员在权利要求所记载的范围内能够得到 的各种变更例或修正例，当然可以明确地认为其属于本发明的技术范 围。
例如，作为基板处理装置以等离子体处理装置为例对本发明的实 施方式进行了说明，但本发明并不限定于此，也适用于溅射装置、涂 敷显影装置、洗净装置、CMP (Chemical Mechanical Polishing:化学 机械抛光)装置、PVD (Physical Vapor Deposition:物理气相沉积)装 置、曝光装置、离子注入装置等。
此外，本发明不仅能够适用于多腔室型基板处理装置，还能够适 用于由单一的处理室构成的基板处理装置。并且，不仅能够适用于对 基板逐一进行处理的单片式基板处理装置，还能够适用于对多片基板 一并进行处理的批量式处理装置。
此外，被处理基板不限定于上述FPD用基板，还可以是例如半导 体晶片、CD基板、印刷基板、陶瓷基板、太阳电池基板等。
产业上的可利用性
本发明能够适用于具备对被处理基板实施规定处理的处理室的基 板处理装置以及用于支承该基板处理装置的支承架。
权利要求
1.一种支承架，其用于支承具备对被处理基板实施规定处理的处理室的基板处理装置，该支承架配置在地面上，其特征在于在距所述地面规定高度的部位，以从所述处理室的周围向外侧伸出的方式直接设置有脚手架。
2. 如权利要求1所述的支承架，其特征在于，包括-安装在所述支承架的外侧的多个支承托架；和 被水平支承在所述支承托架上的脚手架板。
3. 如权利要求2所述的支承架，其特征在于 所述各支承托架由型钢形成。
4. 如权利要求3所述的支承架，其特征在于.-所述各支承托架相对于所述支承架装卸自如。
5. 如权利要求1 4中任一项所述的支承架，其特征在于 所述处理室由基体部和在该基体部上装卸自如的盖体部构成，还具备能够使从所述基体部脱离的所述盖体部滑动至所述基体部的侧面 的避让部位的导轨，在所述导轨的周围也设置有脚手架，使得能够在与所述处理室的 周围的脚手架之间通行。
6. 如权利要求5所述的支承架，其特征在于-在所述处理室的周围的脚手架和所述导轨的周围的脚手架之间，设置有阻碍这些脚手架间通行的门。
7. 如权利要求6所述的支承架，其特征在于 具备检测所述门的开闭状态的传感器、和根据所述传感器的检测结果控制所述盖体部的装卸动作的控制部，所述控制部进行限制，使得在所述传感器检测出所述门为开状态 的期间，无法进行所述盖体部的装卸动作。
8. 如权利要求7所述的支承架，其特征在于 在所述门上设置有锁定机构，所述控制部进行锁定，使得在检测出所述盖体部为闭状态的期间 和进行所述盖体部的装卸动作的期间，所述门不打开。
9. 如权利要求6所述的支承架，其特征在于所述门为由外门和相对于该外门旋转自如的内门构成的双重门结构，所述外门以比所述脚手架窄的宽度构成，由靠近所述脚手架外侧 设置的支柱部枢轴支承，所述内门由所述外门的门前端一侧枢轴支承。
10. —种基板处理装置，其具备对被处理基板实施规定处理的处理室、和配置在地面上的用于支承所述处理室的支承架，所述基板处 理装置的特征在于，包括-多个支承托架，其在距所述地面规定高度的部位，以从所述处理 室的周围向外侧伸出的方式直接安装在所述支承架的外侧；和被水平支承在所述支承托架上的脚手架。
全文摘要
本发明提供一种基板处理装置和其使用的支承架。提供能够有效利用基板处理装置的维护操作等中使用的脚手架的下方空间的支承架。在为了支承具备多个处理室(110)的基板处理装置(100)而设置在地面上的支承架(140)上，在距地面规定高度的部位以从处理室的周围向外侧伸出的方式直接设置有脚手架(160)。该脚手架具备安装在支承架的外侧的多个支承托架(162)、和被上述支承托架水平支承的脚手架板(164)。
文档编号H01L21/687GK101621023SQ200910158708
公开日2010年1月6日 申请日期2009年7月3日 优先权日2008年7月3日
发明者下健一, 中込阳一, 山田俊一 申请人:东京毅力科创株式会社