半导体功率器件的导线强化焊接结构的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种半导体功率器件的导线强化焊接结构，包括框架内引线，所述框架内引线的表面具有焊接区，所述焊接区焊接有导线，所述焊接区两侧的框架内引线上设有向上的翻边，所述框架内引线、翻边及导线与焊接区连接的一端的外围设有塑封层。本发明通过设置翻边及塑封层，使框架内引线形成锁定结构，形成过程简单，框架内引线的锁定结构在塑封后通过塑封料的反作用力，可以有效提高导线跟框架内引线之间的结合力，从而改善导线的剥离强度，提高功率产品的可靠性。
【专利说明】半导体功率器件的导线强化焊接结构
【技术领域】
[0001] 本发明涉及半导体封装领域，具体涉及一种半导体功率器件的导线强化焊接结 构。
【背景技术】
[0002] 在半导体功率器件封装过程中，主要使用铝线、铝带等金属线将芯片和引线框架 的内引线之间实现有效焊接，以满足功率器件工作时的大电压、大电流等高电性能要求。封 装结构示意图如图la和图lb所示，包括：用以散热和承载芯片2的框架载片台1 ;用以电 连结的框架内引线3 ;用以连结芯片2与框架内引线3的铝线4或铝带5 ;用以将芯片2粘 接在框架载片台1的装片胶6。
[0003] 由于功率产品在工作时器件内部温度较高、有时外部工作环境也比较恶劣，要求 铝线4或铝带5跟框架内引线3之间的焊接可靠性比较高，但是在功率产品可靠性中，实际 应用时还是因为热应力、湿气、过程质量控制的波动等使铝线4、铝带5跟框架内引线3之间 产生剥离，导致产品的电参数、功能失效。针对此失效，业内虽然通过键合参数、钢嘴结构、 材料、过程分层控制等方面改善焊接可靠性，但是还不能非常有效地避免铝线4、铝带5跟 框架内引线3之间的剥离。
【发明内容】
[0004] 在下文中给出关于本发明的简要概述，以便提供关于本发明的某些方面的基本理 解。应当理解，这个概述并不是关于本发明的穷举性概述。它并不是意图确定本发明的关 键或重要部分，也不是意图限定本发明的范围。其目的仅仅是以简化的形式给出某些概念， 以此作为稍后论述的更详细描述的前序。
[0005] 本发明实施例的目的是针对上述现有技术的缺陷，提供一种能够避免导线与框架 内引线之间的剥离，提高半导体功率器件可靠性的半导体功率器件的导线强化焊接结构。
[0006] 为了实现上述目的，本发明采取的技术方案是：
[0007] -种半导体功率器件的导线强化焊接结构，包括框架内引线，所述框架内引线的 表面具有焊接区，所述焊接区焊接有导线，所述焊接区两侧的框架内引线上设有向上的翻 边，所述框架内引线、翻边及导线与焊接区连接的一端的外围设有塑封层。
[0008] 与现有技术相比，本发明的有益效果是：
[0009] 本发明通过设置翻边及塑封层，使框架内引线形成锁定结构，形成过程简单，框架 内引线的锁定结构在塑封后通过塑封料的反作用力，可以有效提高导线跟框架内引线之间 的结合力，从而改善导线的剥离强度，提高功率产品的可靠性。
【专利附图】
【附图说明】
[0010] 为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现 有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本 发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可 以根据这些附图获得其他的附图。
[0011] 图la是本发明实施例提供的半导体功率器件铝线键合后结构示意图；
[0012] 图lb是本发明实施例提供的半导体功率器件铝带键合后结构示意图；
[0013] 图2a是本发明实施例提供的铝线键合后半导体功率器件的导线强化焊接结构一 种制作状态下的结构示意图；
[0014] 图2b是本发明实施例提供的铝线键合后的半导体功率器件的导线强化焊接结构 的另一种制作状态下结构示意图；
[0015] 图2c是本发明实施例提供的铝线键合后半导体功率器件的导线强化焊接结构的 结构示意图；
[0016] 图3a是本发明实施例提供的铝带键合后半导体功率器件的导线强化焊接结构一 种制作状态下的结构示意图；
[0017] 图3b是本发明实施例提供的铝带键合后半导体功率器件的导线强化焊接结构另 一种制作状态下的结构示意图；
[0018] 图3c是本发明实施例提供的铝带键合后半导体功率器件的导线强化焊接结构的 结构示意图。
【具体实施方式】
[0019] 为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例 中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是 本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。在本发明的一个附图或一种实施方式中描述 的元素和特征可以与一个或更多个其它附图或实施方式中示出的元素和特征相结合。应当 注意，为了清楚的目的，附图和说明中省略了与本发明无关的、本领域普通技术人员已知的 部件和处理的表示和描述。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有付出创造 性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0020] 参见图2c和图3c，一种半导体功率器件的导线强化焊接结构，包括框架内引线3， 框架内引线3的表面具有焊接区，所述焊接区焊接有导线，所述焊接区两侧的框架内引线3 上设有向上的翻边30,框架内引线3、翻边30及导线与焊接区连接的一端的外围设有塑封 层7。
[0021] 本发明通过设置翻边及塑封层，使框架内引线形成锁定结构，框架内引线的锁定 结构在塑封后通过塑封料的反作用力，可以有效提高导线跟框架内引线之间的结合力，从 而改善导线的剥离强度，提高功率产品的可靠性。
[0022] 参见图2a和图3a，本实施例中，翻边30在坚直方向的高度为框架内引线3的厚度 的2. 5-3. 5倍。优选为3. 0倍。
[0023] 为了对塑封料具有较强的锁定力，本发明在框架内引线两侧形成垂直坚起的翻 边，翻边高度从框架内引线下表面开始计算，至少是框架内引线厚度的2. 5倍，导线焊接在 框架内引线的翻边之间。
[0024] 参见图2b和图3b，本实施例中，为了进一步加强对塑封料的锁定力，通过反作用 力从而改善导线在框架内引线上焊接点的剥离强度，翻边30与框架内引线3表面的夹角为 5 ?85°。
[0025] 本实施例中，为了便于制作，框架内引线3与翻边30为一体结构。
[0026] 本发明更优选的实施例如下：
[0027] 参见图2c和图3c，框架内引线3包括间隔距离依次设置的第一框架内引线31、第 二框架内引线32及第三框架内引线33,导线包括第一导线和两个第二导线，第一框架内引 线31的焊接区焊接有第一导线，第三框架内引线33的焊接区分别焊接有两个第二导线，第 三框架内引线33的两侧设有向上的翻边30,第一框架内引线31、第二框架内引线32、第三 框架内引线33、翻边30、第一导线与第一框架内引线31焊接区连接的一端、两个第二导线 与第三框架内引线33焊接区连接的一端的外围设有塑封层7。
[0028] 本发明两个第二导线焊接在两个翻边30之间，塑封料将第一框架内引线31、第二 框架内引线32、第三框架内引线33、翻边30、第一导线与第一框架内引线31焊接区连接的 一端、两个第二导线与第三框架内引线33焊接区连接的一端进行塑封，形成塑封层，实现 对框架内引线3的锁定结构，塑封后通过塑封料的反作用力，可以有效提高导线跟框架内 引线之间的结合力，从而改善导线的剥离强度，提高功率产品的可靠性。
[0029] 参见图2a、图2b和图2c，第一导线及两个第二导线均为铝线4。
[0030] 参见图3a、图3b和图3c，第一导线为铝线4,两个第二导线均为铝带5。
[0031] 参见图2c和图3c，实际使用中，导线可以为铝线4、铝带5或铝线4与铝带5的组 合。
[0032] 参见图la和图lb，实际使用中，本发明的半导体功率器件的导线强化焊接结构还 包括框架载片台1，框架载片台1上固定连接有芯片2,可以采用装片胶6将芯片2粘接在 框架载片台1上，导线远离框架内引线3的一端与芯片2焊接。
[0033] 本发明在半导体功率器件封装过程中所用铝质焊线在焊接过程中，改善铝质焊线 与框架内引线焊点连接的牢固强度，本发明尤其适用于功率较大或/和可靠性比较高的Μ OSFET(Metal-〇xide_Semiconductor Field-Effect Transistor,金氧半场效晶体管）、 IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor),绝缘栅双极型晶体管）、SiC等芯片使用错线 或铝带焊接到框架内引线上。
[〇〇34] 最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽 管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然 可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替 换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精 神和范围。
【权利要求】
1. 一种半导体功率器件的导线强化焊接结构，包括框架内引线，所述框架内引线的表 面具有焊接区，所述焊接区焊接有导线，其特征在于，所述焊接区两侧的框架内引线上设有 向上的翻边，所述框架内引线、翻边及导线与焊接区连接的一端的外围设有塑封层。
2. 根据权利要求1所述的半导体功率器件的导线强化焊接结构，其特征在于，所述翻 边在坚直方向的高度为所述框架内引线的厚度的2. 5-3. 5倍。
3. 根据权利要求2所述的半导体功率器件的导线强化焊接结构，其特征在于，所述翻 边在坚直方向的高度为所述框架内引线的厚度的3. 0倍。
4. 根据权利要求1所述的半导体功率器件的导线强化焊接结构，其特征在于，所述翻 边与框架内引线表面的夹角为5?85°。
5. 根据权利要求1所述的半导体功率器件的导线强化焊接结构，其特征在于，所述框 架内引线与所述翻边为一体结构。
6. 根据权利要求1-5任一项所述的半导体功率器件的导线强化焊接结构，其特征在 于，所述框架内引线包括间隔距离依次设置的第一框架内引线、第二框架内引线及第三框 架内引线，所述导线包括第一导线和两个第二导线，所述第一框架内引线的焊接区焊接有 第一导线，所述第三框架内引线的焊接区分别焊接有两个第二导线，所述第三框架内引线 的两侧设有向上的翻边。
7. 根据权利要求6所述的半导体功率器件的导线强化焊接结构，其特征在于，所述第 一导线和两个第二导线均为铝线。
8. 根据权利要求6所述的半导体功率器件的导线强化焊接结构，其特征在于，所述第 一导线为铝线，两个所述第二导线为铝带。
9. 根据权利要求6所述的半导体器件的导线焊点强化结构，其特征在于，还包括框架 载片台，所述框架载片台上固定连接有芯片，所述导线远离所述框架内引线的一端与所述 芯片焊接。
【文档编号】H01L23/495GK104103619SQ201410308021
【公开日】2014年10月15日 申请日期:2014年6月30日 优先权日:2014年6月30日
【发明者】石海忠, 顾夏茂, 郇林香, 毛倩, 施清云 申请人:南通富士通微电子股份有限公司