一种半导体器件和电子装置的制作方法

文档序号:11836839阅读:来源:国知局
技术总结
本发明提供一种半导体器件和电子装置,涉及半导体技术领域。包括P型半导体衬底;第一N阱位于P型半导体衬底内;第二N阱位于P型半导体衬底内与第一N阱间隔;P阱位于半导体衬底内与第二N阱相邻且接触并与第一N阱间隔;第一N+注入区和第一P+注入区彼此间隔位于第一N阱内;第二P+注入区和第二N+注入区彼此间隔位于第二N阱内;第三P+注入区、第四P+注入区和第三N+注入区彼此间隔位于P阱内,其中,第二P+注入区为半导体器件的阳极,第四P+注入区和第三N+注入区为阴极,第一N+注入区和第三P+注入区相连接,第一P+注入区和第二N+注入区相连接。该半导体器件可实现优异的ESD防护性能及对SCR器件的快速触发。

技术研发人员:钟雷;李宏伟;罗婵;季林燕;程惠娟
受保护的技术使用者:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
文档号码:201510176176
技术研发日:2015.04.14
技术公布日:2016.11.23

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