技术总结
本发明涉及一种微波通信工程领域的微波负载，尤其是能够在常用旋磁材料上制备的，应用于高频段、高功率场合的氮化钽薄膜微波负载及其制备方法。通过在现有的镍锌铁氧体基氮化钽薄膜微波负载制作工艺中，首先对镍锌铁氧体基片进行表面处理，即利用中频磁控溅射的方法在基片表面镀上一层2‑100微米厚的氮化铝薄膜缓冲层后，再进行其余工艺操作完成整个镍锌铁氧体基氮化钽薄膜微波负载的制备。本发明在拥有良好的频率特性的同时，其额定功率在10瓦到30瓦之间，满足微波通信领域对微波负载的高功率要求，并且氮化铝薄膜缓冲层的制备工艺成熟简单且与之前氮化钽薄膜微波负载的制备工艺可以很好的兼容。
技术研发人员：张怀武;赵祖静;杨雪梅
受保护的技术使用者：电子科技大学
技术研发日：2016.03.21
技术公布日：2019.03.05