用于增强钨沉积填充的钨的原子层蚀刻的制作方法

技术总结
本发明涉及用于增强钨沉积填充的钨的原子层蚀刻。本发明提供了使用沉积‑蚀刻‑沉积工艺将钨沉积到高深宽比的特征中的方法，该工艺整合了多种沉积技术与在蚀刻期间交替的表面改性的脉冲和去除的脉冲。

技术研发人员：黎照健;克伦·雅各布斯·卡纳里克;萨曼莎·坦;阿南德·查德拉什卡;泰赫-婷·苏;杨文兵;迈克尔·伍德;迈克尔·达内克
受保护的技术使用者：朗姆研究公司
文档号码：201610643282
技术研发日：2016.08.08
技术公布日：2017.02.22