1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：
提供衬底基板；
在所述衬底基板上形成薄膜晶体管；
在形成有所述薄膜晶体管的衬底基板上形成第一导电层，所述第一导电层与所述薄膜晶体管的漏极电连接；
制作发光材料块；以及
将所述发光材料块转移到所述第一导电层的表面。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述制作发光材料块的步骤包括：在晶圆上制作发光材料块。
3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述制作发光材料块的步骤还包括：将所述发光材料块单粒化。
4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，将所述发光材料块转移到所述第一导电层的表面的步骤包括：
拾取所述发光材料块，并将所述发光材料块结合至所述第一导电层的表面。
5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，将所述发光材料块结合至所述第一导电层的表面的步骤包括：
将导电胶涂敷在所述发光材料块的表面或所述第一导电层的表面，并将所述发光材料块附着至所述第一导电层的表面。
6.如权利要求1-5之一所述的方法，其特征在于，所述发光材料块至少包括用于发射红光的发光材料块、用于发射绿光的发光材料块和用于发射蓝光的发光材料块。
7.如权利要求1-5之一所述的方法，其特征在于，在所述衬底基板上形成薄膜晶体管的步骤包括：
在所述衬底基板上形成栅线和栅极；
在所述栅线和栅极上依次形成绝缘层、非晶硅层、数据线、源极和漏极；以及
形成钝化层。
8.如权利要求1-5之一所述的方法，其特征在于，在所述衬底基板上形成薄膜晶体管的步骤包括：
在所述衬底基板上形成数据线、源极和漏极；
在所述栅线和栅极上依次形成绝缘层、非晶硅层、栅线和栅极；以及
形成钝化层。
9. 一种显示装置的制作方法，其特征在于，包括：
如权利要求1-8之一所述的显示基板的制作方法；以及
在所述发光材料块的背离所述第一导电层的表面形成第二导电层。
10.如权利要求9所述的方法，其特征在于，在所述发光材料块的背离所述第一导电层的表面形成第二导电层之后，所述方法还包括：
封装所述显示基板。
11.一种显示基板，其特征在于，包括：
衬底基板；
形成在所述衬底基板上的多条栅线和多条数据线；所述多条栅线和多条数据线限定多个像素；
其中每个所述像素包括薄膜晶体管、第一导电层和发光材料块；所述薄膜晶体管的栅极与栅线电连接，源极与数据线电连接，漏极与所述第一导电层电连接；所述发光材料块位于所述第一导电层的表面上。