技术总结
本发明提供了一种阵列基板的制备方法，在基板上形成有源区材料层；在有源区材料层上形成源漏极材料层；采用灰阶掩膜板执行一次构图工艺，使源漏极材料层形成包括数据线的图形以及使有源区材料层形成位于源漏极材料层形成的图形下方的第一区域和位于第一区域外侧的第二区域；在形成有数据线、第一区域和第二区域的基板上形成栅绝缘层；在栅绝缘层上形成栅极材料层，采用一次构图工艺使成栅极材料层形成栅极的图形，且使栅极与第二区域的作为有源区的部分相对应；使第二区域的位于栅极两侧的区域导体化，用以将有源区分别与数据线、像素电极电连接；在形成有栅极的基板上形成像素电极。可减少一次掩膜工艺，使得工艺简单且降低生产成本。
技术研发人员：舒适;张斌;何晓龙;徐传祥
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司
文档号码：201610804271
技术研发日：2016.09.05
技术公布日：2016.12.07