透明导电薄膜的制作方法

本发明涉及导电薄膜技术领域，尤其涉及用于电容性触摸面板等的透明导电薄膜。

背景技术：

目前透明导电薄膜绝大部分是通过在基材相对的两表面上设置硬涂层来避免其表面被刮伤，提高其防损伤的能力。

在实际生产过程中，即使是透明导电薄膜的两表面上含有硬涂层，在将其卷曲透明导电薄膜使其为筒状时，存在相邻的透明导电薄膜表面彼此产生压接和褶皱的问题。

技术实现要素：

基于此，本发明旨在提供一种既能保证基材的表面不容易受到损伤，又能解决在卷取透明导电薄膜使其为筒状时，存在相邻的透明导电薄膜相对两表面彼此产生压接和褶皱的问题的透明导电薄膜。

一种透明导电薄膜，其具有：基材，所述基材包括第一表面和第二表面，所述第一表面上依次形成有第一硬涂层和第一透明导体层，和所述第二表面上依次形成有第二硬涂层和第二透明导体层，所述第一硬涂层远离所述基材的表明上层嵌设有多个颗粒，所述颗粒的粒径小于颗粒所在第一硬涂层的厚度；所述第一透明导体层的表面具有多个凸部，所述凸部起因于所述第一硬涂层的表面上嵌设有多个颗粒。

在其中一个实施例中，所述颗粒的粒径为10nm～1μm，所述第一硬涂层和/第二硬涂层的厚度为0.5～3μm。

在其中一个实施例中，所述第一透明导体层和第一硬涂层之间设置有第一光学调整层，和/或所述第二透明导体层和第二硬涂层之间设置有第二光学调整层。

在其中一个实施例中，所述第一透明导体层远离第一光学调整层的表面上设置有第一金属层，和/或所述第二透明导体层远离第二光学调整层的表面上设置有第二金属层。

在其中一个实施例中，所述第二硬涂层远离所述基材的表面嵌入多个颗粒。

在其中一个实施例中，所述第一透明导体层和第一硬涂层之间设置有第一光学调整层，和/或所述第二透明导体层和第二硬涂层之间设置有第二光学调整层。

在其中一个实施例中，所述第一透明导体层远离第一光学调整层的表面上设置有第一金属层，和/或所述第二透明导体层远离第二光学调整层的表面上设置有第二金属层。

一种透明导电薄膜，其具有：基材，所述基材包括第一表面和第二表面，所述第一表面上依次形成有第一硬涂层、第一光学调整层和第一透明导体层，和所述第二表面依次形成有第二硬涂层、第二光学调整层和第二透明导体层，所述第一光学调整层远离所述第一硬涂层的表面上嵌设有多个颗粒，所述颗粒的粒径小于颗粒所在的第一光学调整层的厚度，所述第一透明导体层的表面具有多个凸部，所述凸部起因于所述第一光学调整层的表面上嵌设有多个颗粒。

在其中一个实施例中，所述第二光学调整层远离所述第二硬涂层的表面上嵌设有多个颗粒。

其中一个实施例中，所述颗粒的粒径为50nm～1μm。

其中所述第一透明导体层远离第一光学调整层的表面上设置有第一金属层，和/或所述第二透明导体层远离第二光学调整层的表面上设置有第二金属层。

上述透明导电薄膜通过在第一硬涂层、第二硬涂层表面上均嵌设有多个颗粒既能保证基材的表面不容易受到损伤，又能解决在卷取透明导电薄膜使其为筒状时，存在相邻的透明导电薄膜相对两表面彼此产生压接和褶皱的问题。

附图说明

图1为本发明第一实施例所提供的透明导电薄膜的截面示意图。

图2为本发明第二实施例所提供的透明导电薄膜的截面示意图。

图3为本发明第三实施例所提供的透明导电薄膜的截面示意图。

图4为本发明第四实施例所提供的透明导电薄膜的截面示意图。

图5为本发明第五实施例所提供的透明导电薄膜的截面示意图。

图6为本发明第六实施例所提供的透明导电薄膜的截面示意图。

图7为本发明第七实施例所提供的透明导电薄膜的截面示意图。

图8为本发明第八实施例所提供的透明导电薄膜的截面示意图。

图9为本发明第九实施例所提供的透明导电薄膜的截面示意图。

图10为本发明第十实施例所提供的透明导电薄膜的截面示意图。

具体实施方式

本发明提供的透明导电薄膜可以用于手机、平板电脑等需要电容式触控面板的显示终端。

如图1所示，本发明中第一实施例中的透明导电薄膜10具备基材11、第一硬涂层12、第一透明导体层14、第二硬涂层22和第二透明导体层24。所述基材11包括第一表面和第二表面，第一硬涂层12和第一透明导体层14依次设置在基材11的第一表面上(即图1中上表面)，第二硬涂层22和第二透明导体层24设置在基材11的第二表面上(即图1中的下表面)。所述第一硬涂层12远离所述基材11的表面嵌设有多个颗粒16，而第二硬涂层22的远离所述基材11的表面并没有嵌入颗粒。颗粒16的粒径小于所述颗粒16所在的第一硬涂层12的厚度。本发明中所述的颗粒16嵌设在第一硬涂层12远离所述基材11的表面是指颗粒16仅有部分埋入第一硬涂层12中，还有部分未埋入第一硬涂层12中，即颗粒16还有部分处于露出的状态。

基材11可以由非晶性聚合物薄膜或者结晶性聚合物薄膜形成。因为基材11的材质可以为非结晶性材质或者结晶性材质，因此在实际生产过程中可以根据实际需要灵活选择，从而降低生产成本。第一硬涂层12的远离基材11的表面嵌设有多个颗粒16，且颗粒16可以无规则地嵌设在第一硬涂层12的远离基材11的表面上，当然颗粒16也可以一定的规则例如均匀地嵌设在第一硬涂层12的远离基材11的表面上，因此第一硬涂层12的远离基材11的表面中嵌设有颗粒16的部分会相对于不嵌设有颗粒16的部分凸起。由于第一透明导体层14设置在第一硬涂层12远离基材11的表面上，所以第一透明导体层14的表面形状反映了第一硬涂层12的远离基材11表面形状，在有颗粒16位置处具有凸部18，而不含颗粒16的位置处是平坦的；由于第二透明导体层24设置在第二硬涂层22远离基材11的表面上，所以第二透明导体层24的表面形状反映了第二硬涂层12的远离基材11表面形状，所以第二透明导体层24的整个表面都是平坦的。所述凸部18在第一硬涂层12中的分布密度为50～5000个/mm²。

在本发明有的一些实施例中，第一硬涂层12、第二硬涂层22的厚度优选为500nm～3000nm，便于在保证透明导电薄膜抗损伤性能不降低的情况下，降低导电薄膜的整体厚度，为后续提供超薄电子产品或者移动终端提供条件。

在一些实施例中，所述颗粒16的粒径为10nm～1μm。由于当颗粒16粒径太大会导致透明导电薄膜10的雾度值过大，使其光透过率降低，严重影响透明导电薄膜10的外观和光学效果；而当颗粒16的粒径太小时，又会导致透明导电薄膜10卷绕成筒状时其抗压接和褶皱的能力下降，导致压接不良的问题增大，达不到预期的作用，因此将颗粒的粒径设置在10nm～1μm，既能保证透明导电薄膜10的防压接的效果，要有能使得透明导电薄膜10的雾度值不会提高太多，以致降低其光透过率，影响光线效果。

在一些实施例中，颗粒为16为球状，且其直径为10nm～1μm。本发明中球状颗粒可以降低工艺难度，适于批量生产，另外球状颗粒16可以减少导电薄膜在卷绕成筒状时由于不定形颗粒的尖锐的轮廓刺破导电薄膜现象的出现，提高生产良率，降低成本。

本发明中第一硬涂层12远离基材的表面上嵌设有颗粒16的有益效果为：可以使得设置在其表面的第一透明导体层14的表面形成凸起18，因此可以防止透明导电薄膜卷绕成筒状时，透明导电薄膜10的相对的两表面是凸起18和第二硬涂层24的表面接触，即是点和面的接触，而不是面对面接触，因此可以减少透明导电薄膜的压接损伤。

本发明的透明导电薄膜10的基材11当使用双折射率小并且均匀的非晶性聚合物薄膜时，因此可解决透明导电薄膜10中的颜色不均匀的问题。由于第一透明导体层14的表面具有凸部18，因此在卷绕透明导电薄膜10成筒状时，第一透明导体层14与第二导体层24成为点和面接触。由此可减少第一导体层14与第二导体层24产生压接。

为了避免本发明的透明导电薄膜10的损伤、压接，可利用卷对卷工艺(roll to roll process)来制造长条的透明导电薄膜10。另外，可以以长条的透明导电薄膜10卷绕成的透明导电薄膜筒的形态进行保存、运输以及加工。因此本发明的透明导电薄膜10生产效率高。

本发明第二实施例中的透明导电薄膜20如图2所示。透明导电薄膜20和第一实施例中的透明导电薄膜10基本相同，不同之处在于：透明导电薄膜20在第一透明导体层14和第一硬涂层12之间设置有第一光学调整层13，在第二透明导体层24和第二硬涂层22之间设置有第二光学调整层23。在其他实施例中，也可以只在第一透明导体层14和第一硬涂层12之间设置有第一光学调整层13或者只在在第二透明导体层24和第二硬涂层22之间设置有第二光学调整层23。如此可以简化工艺，节省材料。

在本发明的一些其他实施例中，第一光学调整层13和/或第二光学调整层23为含有有机硅类聚合物、丙烯酸酯类聚合物、芳环或萘环聚合物、氧化锆、氧化钛、氧化锑等中的一种或几种的涂层，可以根据实际生产需要选择合适的光学调整层材料。

第一光学调整层13可以在后工序中将第一透明导体层14图案化后，使有第一透明导体层14的部分和没有其的部分的反射率之差减少，使第一透明导体层14的图案难以辨认，提高光透过率。第二光学调整层23的功能也相同。

第一光学调整层13和/或第二光学调整层23的厚度优选为100nm～2000nm，便于在保证透明导电薄膜透光率不降低的情况下，可尽可能的降低导电薄膜的整体厚度，为后续提供超薄电子产品或者移动终端提供条件。

本发明第三实施例中的透明导电薄膜30如图3所示。透明导电薄膜30和第二实施例中的透明导电薄膜20基本相同，不同之处在于：透明导电薄膜30在其第一透明导体层14远离第一光学调整层13的表面上设置有第一金属层15，在所述第二透明导体层24远离第二光学调整层23的表面上设置有第二金属层25。在本发明其他实施例中，也可以第一透明导体层14远离第一光学调整层13的表面上设置有第一金属层15或者只第二透明导体层24远离第二光学调整层23的表面上设置有第二金属层25。如此可以简化工艺，节省材料。

在透明导电薄膜30中设置有第一金属层15和第二金属层25便于将本发明的透明导电性薄膜30用于触摸面板时，用于在触摸面板的非显示区域形成电极走线。如此可以避免使用与透明导体层(14或24)相同的阻抗较大的材料(常用的是氧化铟锡(ITO))来制作边框电极走线，而导致信号传输的灵敏度下降，功耗增加的问题。

本发明第四实施例中的透明导电薄膜40如图4所示。透明导电薄膜40和第一实施例中的透明导电薄膜10基本相同，不同之处在于：透明导电薄膜40在其第二硬涂层远离基材11的表面嵌设有多个颗粒26。颗粒26可以无规则地分布第二硬涂层22的远离基材11的表面上，当然颗粒26也可以一定的规则例如均匀地分布第二硬涂层22的远离基材11的表面上，因此第二硬涂层22的远离基材11的表面中含有颗粒26的部分会相对于不含颗粒16的部分凸起。由于第二透明导体层24设置在第二硬涂层22远离基材11的表面上，所以第二透明导体层24的表面形状反映了第二硬涂层22的远离基材11表面形状，在有颗粒26位置处具有凸部28，而不含颗粒26的位置处27是平坦的；所述凸部28在第二硬涂层22中的分布密度为50～5000个/mm²。颗粒26的材质和粒径等性质和颗粒16是相同的。

相对于第一实施例中的透明导电薄膜10，第四实施例中透明导电薄膜40，在第一硬涂层12远离基材11的表面上和第二硬涂层22远离基材11的表面上均嵌设有颗粒，可以使得第一透明导体层14表面和第二透明导体层24的表面分别形成凸起18和28，因此可以防止透明导电薄膜40卷绕成筒状时，透明导电薄膜40的相对的两表面是凸起18和凸起28相互接触，即是点与点的接触，而不是点对面接触，因此可以进一步提高透明导电薄膜的防压接效果。

本发明第五实施例中的透明导电薄膜50如图5所示。透明导电薄膜50和第四实施例中的透明导电薄膜40基本相同，不同之处在于：透明导电薄膜50在第一透明导体层14和第一硬涂层12之间设置有第一光学调整层13，在第二透明导体层24和第二硬涂层22之间设置有第二光学调整层23。在其他实施例中，也可以只在第一透明导体层14和第一硬涂层12之间设置有第一光学调整层13或者只在在第二透明导体层24和第二硬涂层22之间设置有第二光学调整层23。如此可以简化工艺，节省材料。

第一光学调整层13可以在后工序中将第一透明导体层14图案化后，使有第一透明导体层14的部分和没有其的部分的反射率之差减少，使第一透明导体层14的图案难以辨认，提高光透过率。第二光学调整层23的功能也相同。

第一光学调整层13和/或第二光学调整层23的厚度优选为100nm～2000nm，便于在保证透明导电薄膜透光率不降低的情况下，可尽可能的降低导电薄膜的整体厚度，为后续提供超薄电子产品或者移动终端提供条件。

本发明第六实施例中的透明导电薄膜60如图6所示。透明导电薄膜60和第五实施例中的透明导电薄膜50基本相同，不同之处在于：透明导电薄膜60在其第一透明导体层14远离第一光学调整层13的表面上设置有第一金属层15，在所述第二透明导体层24远离第二光学调整层23的表面上设置有第二金属层25。在本发明其他实施例中，也可以第一透明导体层14远离第一光学调整层13的表面上设置有第一金属层15或者只第二透明导体层24远离第二光学调整层23的表面上设置有第二金属层25。如此可以简化工艺，节省材料。

在透明导电薄膜60中设置有第一金属层15和第二金属层25便于将本发明的透明导电性薄膜60用于触摸面板时，用于在触摸面板的非显示区域形成电极走线。如此可以避免使用与透明导体层(14或24)相同的阻抗较大的材料(常用的是氧化铟锡(ITO))来制作边框电极走线，而导致信号传输的灵敏度下降，功耗增加的问题。

本发明第七实施例中的透明导电薄膜70如图7所述。透明导电薄膜70和第二实施例中的透明导电薄膜20基本相同，不同之处在于：透明导电薄膜70中的颗粒是16是嵌设在第一光学调整层13远离第一硬涂层12的表面上，所述颗粒16的粒径小于颗粒16所在的第一光学调整层13的厚度。本实施例中所述的颗粒16嵌设在第一光学调整层32远离所述第一光学调整层13的表面是指颗粒16仅有部分埋入第一光学调整层13中，还有部分未埋入第一光学调整层13中，即颗粒16还有部分处于露出的状态。

相对于透明导电薄膜12,而言，透明导电薄膜70通过颗粒16嵌设在第一光学调整层13远离第一硬涂层12的表面上可以保证第一硬涂层12的厚度均匀，在保证其抗损伤作用不降低的情况下可以确保在第一透明导体14表面形成凸部18，使得透明导电薄膜70卷绕成筒状时其抗压接和褶皱能力不变。

本发明第八实施例中的透明导电薄膜80如图8所述。透明导电薄膜80和第七实施例中的透明导电薄膜70基本相同，不同之处在于：透明导电薄膜70在其第一透明导体层14远离第一光学调整层13的表面上设置有第一金属层15，在所述第二透明导体层24远离第二光学调整层23的表面上设置有第二金属层25。在本发明其他实施例中，也可以第一透明导体层14远离第一光学调整层13的表面上设置有第一金属层15或者只第二透明导体层24远离第二光学调整层23的表面上设置有第二金属层25。如此可以简化工艺，节省材料。

在透明导电薄膜80中设置有第一金属层15和第二金属层25便于将本发明的透明导电性薄膜80用于触摸面板时，用于在触摸面板的非显示区域形成电极走线。如此可以避免使用与透明导体层(14或24)相同的阻抗较大的材料(常用的是氧化铟锡(ITO))来制作边框电极走线，而导致信号传输的灵敏度下降，功耗增加的问题。

本发明第九实施例中的透明导电薄膜90如图9所述。透明导电薄膜90和第七实施例中的透明导电薄膜70基本相同，不同之处在于：透明导电薄膜90在其第二光学调整层23远离第二硬涂层22的表面嵌设有多个颗粒26。颗粒26可以无规则地分布第二光学调整层23远离第二硬涂层22的表面上，当然颗粒26也可以一定的规则例如均匀地分布第二光学调整层23的远离第二硬涂层22的表面上，因此第二光学调整层23远离第二硬涂层22的表面中含有颗粒26的部分会相对于不含颗粒26的部分凸起。由于第二透明导体层24设置在第二光学调整层23远离第二硬涂层22的表面上，所以第二透明导体层24的表面形状反映了第二光学调整层23远离第二硬涂层22表面形状，在有颗粒26位置处具有凸部28，而不含颗粒26的位置处27是平坦的；所述凸部28在第二光学调整层22中的分布密度为50～5000个/mm²。颗粒26的材质和粒径等性质和颗粒16是相同的。

相对于第七实施例中的透明导电薄膜70，第九实施例中透明导电薄膜90，在第一光学调整层13远离第一硬涂层12的表面上和第二光学调整层层23远离第二硬涂层22的表面上均嵌设有颗粒，可以使得第一透明导体层14表面和第二透明导体层24的表面分别形成凸起18和28，因此可以防止透明导电薄膜90卷绕成筒状时，透明导电薄膜90的相对的两表面是凸起18和凸起28相互接触，即是点与点的接触，而不是点对面接触，因此可以进一步提高透明导电薄膜的防压接效果。

本发明第十实施例中的透明导电薄膜100如图10所述。透明导电薄膜100和第九实施例中的透明导电薄膜90基本相同，不同之处在于：透明导电薄膜100在其第一透明导体层14远离第一光学调整层13的表面上设置有第一金属层15，在所述第二透明导体层24远离第二光学调整层23的表面上设置有第二金属层25。在本发明其他实施例中，也可以第一透明导体层14远离第一光学调整层13的表面上设置有第一金属层15或者只第二透明导体层24远离第二光学调整层23的表面上设置有第二金属层25。如此可以简化工艺，节省材料。

在透明导电薄膜100中设置有第一金属层15和第二金属层25便于将本发明的透明导电性薄膜100用于触摸面板时，用于在触摸面板的非显示区域形成电极走线。如此可以避免使用与透明导体层(14或24)相同的阻抗较大的材料(常用的是氧化铟锡(ITO))来制作边框电极走线，而导致信号传输的灵敏度下降，功耗增加的问题。

在本发明的一些实施例中，第一硬涂层12、第二硬涂层22都含有粘结性树脂，且两者之一或者两者的折射率均为1.35～2.0，优选为1.35～1.65。在另外一些实施例中，所述第一折射率调整层13、第二折射率调整层23也含有粘结性树脂，且两者之一或者两只的光折射率均为1.5～2.0，优选1.55～1.85。通过设置有以上折射率的硬涂层和折射率调整层，可以提高导电薄膜10的透光率，为后续其应用到触控面板中提高视觉效果提供了条件。

基材

基材11可以由非晶性聚合物薄膜或结晶性聚合物薄膜形成。优选由非晶性聚合物薄膜形成。由于非晶性聚合物薄膜比结晶聚合物薄膜双折射率小并且均匀，可消除本发明的透明导电薄膜中的颜色不均匀。用于本发明的非晶性聚合物薄膜的面内的双折射率优选为0～0.001，进一步优选为0～0.0005。用于本发明的非晶性聚合物薄膜的面内的双折射率的偏差优选为0.0005以下，进一步优选为0.0003以下。前述双折射率和其偏差可通过选择适宜的种类的非晶性聚合物薄膜而达成。

形成非晶性聚合物薄膜的材料没有特别的限制，优选为聚碳酸酯或聚环烯烃或聚酰亚胺。由非晶性聚合物薄膜形成的基材11的厚度例如为20μm～200μm。非晶性聚合物薄膜也可以在表面具有例如由聚氨酯或聚丙烯酸酯类等聚合物形成的薄的易粘结层(未图示)。

硬涂层

第一硬涂层12形成在基材11的第一表面上，第二硬涂层22形成在基材11的第二表面上。所述第一硬涂层12和第二硬涂层22均包含粘结剂树脂。该粘结剂树脂包含例如基于紫外线、电子射线的固化性树脂组合物。固化性树脂组合物优选包含丙烯酸缩水甘油酯系聚合物与丙烯酸进行加成反应而得到的聚合物。或者，固化性树脂组合物优选包含多官能丙烯酸酯聚合物(季戊四醇、二季戊四醇等)。固化性树脂组合物还包含聚合引发剂。第一硬涂层12、第二硬涂层22的厚度为500nm-3000nm。

透明导电薄膜的第一硬涂层12背向基材11的表面上、第二硬涂层22背向基材11的表面上嵌设有多个颗粒16、26。该颗粒16、26是在第一硬涂层12和第二硬涂层22的成型过程中分别嵌设在第一硬涂层12远离基材11的表面上、第二硬涂层22远离基材11的表面上。颗粒16和26例如由丙烯酸类聚合物、有机硅聚合物、苯乙烯聚合物、或无机二氧化硅形成。颗粒16和26的形状例如为球状。当颗粒16和26为球状时，其直径优选为10nm～1μm。当颗粒16和26不为球状时(例如为不定形)，其高度(与基材11的表面垂直的方向的尺寸)优选为10nm～1μm。颗粒16和26不为球状时(例如为不定形时)、该优选的高度为最频粒径(表示粒径分布的极大值的粒径)是优选的。

第一硬涂层12的表面的算术平均粗糙度Ra优选为0.0005μm～0.05μm，最大高度Rz优选为0.05μm～2.5μm。第二硬涂层22的表面的算术平均粗糙度Ra、以及最大高度Rz也同样。

光学调整层

本发明的一些实施例中的透明导电薄膜，在第一硬涂层12与第一透明导体层14之间具有第一光学调整层13(index matching layer)。另外，在第二硬涂层22与第2透明导体层24之间具有第2光学调整层23。关于第一光学调整层13，在后工序中将第一透明导体层14图案化后，使有第一透明导体层14的部分和没有其的部分的反射率之差减少，使第一透明导体层14的图案难以辨认。第二光学调整层23的功能也相同。

第一光学调整层13的光学优选设定为在第一硬涂层12的光学与第一透明导体层14的光学之间的数值。形成第一光学调整层13的材料例如为有机硅类聚合物、丙烯酸酯类聚合物、芳环或萘环聚合物、氧化锆、氧化钛、氧化锑中的一种或者几种的涂层。第一光学调整层13的厚度为100nm～2000nm。对于第二光学调整层23也同样。

透明导体层

在没有第一光学调整层13时，第一透明导体层14形成在第一硬涂层12上。有第一光学调整层13时，第一透明导体层14形成在第一光学调整层13的表面上。第一透明导体层14由在可见光区域(380nm～780nm)中透射率高(80％以上)、且每单位面积的表面电阻值(单位：Ω/m²：ohms per square)为500Ω/m²以下的层形成。第一透明导体层14的厚度优选15nm～100nm、更优选的为15nm～50nm。第一透明导体层14例如由铟锡氧化物(ITO：Indium Tin Oxide)、铟锡氧化物、或者氧化铟-氧化锌复合物的任一种形成。第二透明导体层24形成于第二光学调整层23远离第2硬涂层23的表面上。第二透明导体层24的物性、材料与第一透明导体层14相同。没有第二光学调整层23时，第二透明导体层24形成在第二硬涂层22的表面上。有第二光学调整层23时，第二透明导体层24形成在第二光学调整层23的表面上。第二透明导体层24的物性、材料与第一透明导体层14相同。

金属层

第一金属层15形成在第一透明导体层14的表面上。第一金属层15在本发明的透明导电性薄膜用于例如触摸面板时，用于在触摸输入区域的外侧形成布线。关于形成第一金属层15的材料，有代表性的是铜、银，也可使用除此以外的导电性优异的任意的金属。第一金属层15的厚度优选为50nm～500nm、更优选为100nm～300nm。第二金属层25形成在第二透明导体层24的表面上。第二金属层25的用途、材料、厚度与第一金属层15相同。

第一金属层15的表面与第一透明导体层14的表面形状类似，具有无规则分布的凸部18。凸部18的分别密度优选为100个/mm²～2000个/mm²，更优选为100个/mm²～1000/mm²。第一金属层15的表面的算术平均粗糙度Ra优选为0.005μm～0.05μm，更优选为0.005μm～0.03μm。第一金属层15的表面的最大高度Rz优选为0.5μm～2.5μm、更优选为0.5μm～2.0μm。第一金属层15的表面的算术平均粗糙度Ra和最大高度Rz可通过调整颗粒16的形状、尺寸以及含量来改变。第二金属层25的表面反映第二透明导体层24的表面形状，具有无规则地分布的凸部28。第二金属层25的表面粗糙度与第一金属层15的表面粗糙度相同。

卷绕本发明的透明导电性薄膜60时，第一金属层15的表面与第二金属层25的表面接触。第一金属层15的表面有无规则地分布的凸部18，第二金属层25的表面有无规则分布的凸部28。因此，第一金属层15的表面与第二金属层25的表面成为点和点接触。由此，可防止第一金属层15与第二金属层25的压接。

制造方法

对本发明的透明导电薄膜60的制造方法的一个例子进行说明。该颗粒16、26是在第一硬涂层12和第二硬涂层22的成型过程中分别嵌设在第一硬涂层12远离基材11的表面上、第二硬涂层22远离基材11的表面上。颗。接着在第一硬涂层12的表面涂布光学调整剂、在第二硬涂层22的表面涂布光学调整剂。接着对第一硬涂层12上的光学调整剂和第二硬涂层22上的光学调整剂照射紫外线而使光学调整剂固化，形成第一光学调整层13和第二光学调整层23。接着利用溅射法等在第一光学调整层13的表面依次层叠第一透明导体层14和第一金属层15。第一透明导体层14和第一金属层15可通过在溅射装置内设置透明导体层用靶材和金属层用靶材而连续地层叠。对第二光学调整层23的表面也同样地操作，依次层叠第二透明导体层24和第二金属层25。

本发明通过在第一硬涂层、第二硬涂层表面上均嵌设有多个颗粒既能保证基材的表面不容易受到损伤，又能解决在卷取透明导电薄膜使其为筒状时，存在相邻的透明导电薄膜相对两表面彼此产生压接和褶皱的问题。另外通过设置有第一光学调整层和第二光学调整层可以调节中其光折射率，可以提高导电薄膜的透光率，以便提高其应用产品的可视效果，增强用户体验。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。