1.一种硅片水膜去水装置，其特征在于：包括水槽(1)，所述水槽(1)的一端为硅片(2)的输入端(101)，所述水槽(1)的另一端为硅片(2)的输出端(102)，所述水槽(1)内转动设置有用于输送硅片(2)的输送辊(3)，所述水槽(1)外设有用于驱动输送辊(3)转动的电机(4)，所述水槽(1)上设有压平板(5)，所述压平板(5)位于所述输送辊(3)上方，所述压平板(5)具有水平段(501)和导向段(502)，所述导向段(502)位于水槽(1)上靠近输入端(101)的一端，所述水平段(501)为平面，所述导向段(502)沿硅片(2)的输送方向为向下倾斜的第一斜面，所述导向段(502)的低端与所述水平段(501)固定连接，所述压平板(5)下底面设有分液板(6)，所述分液板(6)位于导向段(502)处，所述分液板(6)下底面与所述水平段(501)下底面相互水平设置，所述分液板(6)沿输送辊(3)轴向的两侧均设有第二斜面，所述分液板(6)两侧的第二斜面沿硅片(2)的输送方向由内向外逐渐向上倾斜，所述水槽(1)上设有用于控制压平板(5)靠近或者远离输送辊(3)的调节机构。
2.根据权利要求1所述的硅片水膜去水装置，其特征在于：所述调节机构包括固定设置在水槽(1)上的支架(7)和螺杆(8)，所述压平板(5)滑动设置支架(7)上，所述螺杆(8)的一端与所述支架(7)螺纹连接，所述螺杆(8)的另一端与所述压平板(5)转动连接。
3.根据权利要求2所述的硅片水膜去水装置，其特征在于：所述压平板(5)上设有滑块(503)，所述支架(7)上设有沿水槽(1)竖直方向设有滑槽(701)，所述滑块(503)滑动设置在滑槽(701)内。
4.根据权利要求2所述的硅片水膜去水装置，其特征在于：所述螺杆(8)远离压平板(5)的一端设有手轮(9)。