一种过孔倒角预测方法与流程

文档序号:11521850阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明公开了一种过孔倒角预测方法,属于显示器领域。所述方法包括:分别测量M个钝化子层在相同的刻蚀条件下的刻蚀速率;根据M个钝化子层的刻蚀速率的大小,预测在钝化层上形成过孔时是否会产生倒角;钝化层包括层叠设置的N个子层,N个子层中M个子层与M个钝化子层一一对应,对应设置的子层与钝化子层的生长条件相同,N≥M>1,且M、N为正整数;M个子层中相邻的两个子层中位于下方的子层对应的钝化子层为第一钝化子层,位于上方的子层对应的钝化子层为第二钝化子层。通过测量至少两个钝化子层的刻蚀速率,然后再进行比较,即可预测在钝化层上刻蚀过孔是否会产生倒角;该方法判断简单,耗时短;另一方面,成本较低。

技术研发人员:李惠;王丹名;李扬;黄斗冬
受保护的技术使用者:成都京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
技术研发日:2017.03.22
技术公布日:2017.08.18
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