一种瞬态电压抑制器(TVS)芯片结构的制作方法

文档序号:11320142阅读:来源:国知局
技术总结
本实用新型公开了一种瞬态电压抑制器(TVS)芯片结构,其特征在于:包括N+结构层、N‑结构层、P结构层、P+结构层、玻璃保护层、金属面层。所述芯片N+结构层正面设置为N‑结构层,N‑结构层正面设置为P‑结构层,P‑结构层正面设置为P+结构层;台面附近区域设置辅助沟槽结构,辅助沟槽结构的表面覆盖有玻璃保护层。金属面层包括上金属面层和下金属面层。P+结构层正面设置上金属面层,N+结构层背面设置下金属面层。本实用新型结构得益的效果:当外加最高反向电压时,N型基区耗尽层被限制在基区以内,其击穿电压高于主体结击穿电压,使主体结区域先击穿,漏电流分布于主体结区域,而辅助结区域不发生击穿,从而解决了单扩散结结构在生产高电压芯片时的漏电大,击穿电压低,易损坏的问题,提高了高电压瞬态电压抑制器的耐压性能,同时提高瞬态电压抑制器的抗浪涌能力及可靠性。

技术研发人员:朱世良
受保护的技术使用者:杭州东沃电子科技有限公司
文档号码:201720137083
技术研发日:2017.02.16
技术公布日:2017.10.13

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