本公开涉及显示技术领域，尤其涉及一种电致发光显示面板、掩膜板及制作方法。
背景技术：
现有技术的电致发光显示面板的触控电极通常包括多个块状的触控电极以及与每一触控电极一一对应相连的触控引线，各触控电极之间相互间隔独立，该种触控电极制作时，通常先通过光刻工艺在相邻触控电极之间的间隙处形成倒梯形的光刻胶挡墙，进而再通过蒸镀工艺形成触控电极，由于有倒梯形光刻胶挡墙间隔，进而可以形成相互独立的触控电极。
但该种形成触控电极的工艺对倒梯形的光刻胶挡墙的坡度角有一定的要求，致使形成触控电极的工艺复杂且形成的挡墙的稳定性差，即，现有技术存在电致发光显示面板的触控电极制作工艺复杂以及触控性能不稳定的问题。
技术实现要素：
本公开提供一种电致发光显示面板、掩膜板及制作方法，以至少部分地改善电致发光显示面板的触控电极制作工艺复杂，以及由于倒梯形光刻胶阻隔触控电极所导致的触控性能不稳定的问题。
根据本公开的一个方面，本公开实施例提供一种电致发光显示面板的制作方法，包括：
在图案化的掩膜版遮挡下，采用蒸镀工艺在预设发光层的至少一侧形成具有与所述掩膜版的图案相对应图案的电极层，其中，所述预设发光层为用于形成所述电致发光显示面板发光层的膜层。
可选地，还包括根据所要形成的所述电极层的图案，形成具有图案化的所述掩膜版的步骤。
可选地，所述根据所要形成的电极层的图案，形成具有图案化的所述掩膜版的步骤，具体包括：根据所要形成的所述电极层的图案划分的至少两部分子图案，分别形成对应所述子图案的所述掩膜版。
可选地，所述电极层为阴极层，所述阴极层复用为触控电极层。
可选地，所述触控电极层包括多个相互间隔的子触控电极以及与每一所述子触控电极一一对应相连的触控引线，所述掩膜板包括第一子掩膜板和第二子掩膜板，其中，所述第一子掩膜板包括与所述子触控电极相匹配的图案，所述第二子掩膜板包括与所述触控引线相匹配的图案；
在图案化的掩膜版遮挡下，采用蒸镀工艺在预设发光层的至少一侧形成具有与所述掩膜版的图案相对应图案的电极层，具体包括：
在所述第一子掩膜板的遮挡下，采用蒸镀工艺在所述预设发光层之上形成所述子触控电极的图案；
在所述第二子掩膜板的遮挡下，采用蒸镀工艺在形成有所述子触控电极的所述电致发光显示面板形成所述触控引线的图案，其中，所述触控引线与所述子触控电极一一对应相连；
或者，所述分别在所述第一子掩膜板和所述第二子掩膜板的遮挡下，采用蒸镀工艺在所述有机显示面板的所述预设发光层一侧形成触控电极，具体包括：
在所述第二子掩膜板的遮挡下，采用蒸镀工艺在所述预设发光层之上形成所述触控引线的图案；
在所述第一子掩膜板的遮挡下，采用蒸镀工艺在形成有所述触控引线的所述电致发光显示面板形成所述子触控电极的图案，其中，所述触控引线与所述子触控电极一一对应相连。
可选地，所述第一子掩膜板具体设置有呈阵列分布的块状第一开口，且对于每一行的所述第一开口，在由该行中部沿该行长轴方向向两侧边延伸，各所述第一开口在垂直于该行方向上的开口长度依次递减；所述第二子掩膜板包括呈两列多行排布的第二开口组，每一所述第二开口组包括多行第二开口，对于每一组的所述第二开口，在垂直于行向且指向下一行所述第二开口的方向上，各所述第二开口由侧边沿该行长轴方向向向中部延伸的长度依次递增；
所述在所述第一子掩膜板的遮挡下，采用蒸镀工艺在所述预设发光层之上形成所述子触控电极的图案；在所述第二子掩膜板的遮挡下，采用蒸镀工艺在形成有所述子触控电极的所述电致发光显示面板形成所述触控引线的图案，具体包括：
在所述第一子掩膜板的遮挡下，采用蒸镀工艺在所述预设发光层之上形成多个呈阵列分布的所述子触控电极，对于每一行的所述子触控电极，在由该行中部沿该行长轴方向向两侧延伸，各所述子触控电极在垂直于该行方向上的开口长度依次递减；
在所述第二子掩膜板的遮挡下，在每一所述子触控电极的下端均形成与该所述子触控电极相连的触控引线，同一行所述子触控电极对应的所述触控引线位于该行所述子触控电极与下一行所述子触控电极之间的间隙处。
根据本公开的另一方面，本公开实施例还提供一种电致发光显示面板，采用前述的制作方法制作。
可选地，所述电致发光显示面板的电极层为阴极层，且该所述阴极层复用为触控电极层；所述触控电极层包括多个相互间隔的子触控电极以及与每一所述子触控电极一一对应相连的触控引线。
可选地，所述触控电极层具体包括多个呈阵列分布的所述子触控电极以及与所述子触控电极同层设置的多条触控引线；
对于每一行的所述子触控电极，在由该行中部沿该行长轴方向向两侧延伸，各所述子触控电极在垂直于该行方向上的开口长度依次递减，每一所述子触控电极的下端均设置有与该所述子触控电极接触的触控引线，同一行所述子触控电极对应的所述触控引线位于该行所述子触控电极与下一行所述子触控电极之间的间隙处。
可选地，所述触控电极为自容触控电极。
根据本公开的还一方面，本公开实施例提供一种掩膜板，具有与本公开实施例二所述的电致发光显示面板的电极层相对应的图案。
可选地，所述电极层为阴极层，所述阴极层复用为触控电极层，且所述触控电极层多个相互间隔的子触控电极以及与每一所述子触控电极一一对应相连的触控引线；所述掩膜板包括：第一子掩膜板以及第二子掩膜板，其中，
所述第一子掩膜板设置有呈阵列分布的块状第一开口，且对于每一行的所述第一开口，在由该行中部沿该行长轴方向向两侧边延伸，各所述第一开口在垂直于该行方向上的开口长度依次递减；
所述第二子掩膜板包括呈两列多行排布的第二开口组，每一所述第二开口组包括多行第二开口，对于每一组的所述第二开口，在垂直于行向且指向下一行所述第二开口的方向上，各所述第二开口由侧边沿该行长轴方向向向中部延伸的长度依次递增；
所述第二子掩膜板与所述第一子掩膜板垂直正对时，所述第二子掩膜板的每一所述第二开口组在所述第一子掩膜板上的正投影位于所述第一掩膜板的相邻两行所述第一开口之间的间隙，且每一组的所述第二开口的正投影依次与所述第一子掩膜板的所述第一开口对应接触，所述第一开口与所述第二开口的组合构成用于形成所述子触控电极的图案以及对应相连的触控引线的图案。
可选地，位于所述第一子掩膜板中部的至少部分所述第一开口为标准第一开口，所述标准第一开口以外的其它所述第一开口为补偿第一开口；
各个所述补偿第一开口在面向下一行所述第一开口的端部均设置有第一补偿区域，每一所述补偿第一开口与对应的所述第一补偿区域构成的图案与所述标准第一开口的图案相同，其中，所述第一补偿区域为厚度减薄的区域。
可选地，位于所述第一子掩膜板中部的至少相邻对称设置的部分所述第一开口为标准第一开口。
可选地，每一所述第二开口组的与下一行所述第二开口组距离最近的所述第二开口为标准第二开口，所述标准第二开口以外的其它所述第二开口为补偿第二开口，每一所述补偿第二开口在面向相对列的所述第二开口的端部设置有第二补偿区域，每一所述补偿第二开口与对应的所述第二补偿区域构成的图案与所述标准第二开口的图案相同，其中，所述第二补偿区域为厚度减薄的区域。
可选地，所述第一补偿区域的厚度为所述第一子掩膜板厚度的一半；所述第二补偿区域的厚度为所述第二子掩膜板厚度的一半。
本公开实施例有益效果如下：本公开实施例的技术方案通过图案化的掩膜板的遮挡下，采用蒸镀工艺在预设发光层的至少一侧形成具有掩膜板的图案相对应图案的电极层，不需要通过先形成光刻胶，以及将光刻胶刻蚀成倒梯形的光刻胶挡墙，再进行蒸镀工艺以形成相互间隔的电极图案，而且由于形成倒梯形的光刻胶挡墙需要对坡度角有一定的要求，通常需要较复杂的制作工艺，且不能保证倒梯形的光刻胶当前的结构稳定性，因此，通过本公开例提供的电极发光显示面板的制作方法制作触控电极时，可以简化电极层的制作工艺以及可以使形成的电极层的性能稳定；且采用本公开实施例提供的掩膜板经过掩膜板制作的电极层，不需要光刻胶刻蚀工艺，可以兼容现有显示面板量产制作时的蒸镀、封装工艺，更利于显示面板的量产。
附图说明
图1为本公开实施例提供的电致发光显示面板的制作发光流程示意图；
图2为本公开实施例提供的一种触控电极的结构示意图；
图3为本公开实施例提供的第一子掩膜板的结构示意图；
图4为本公开实施例提供的第二子掩膜板的结构示意图；
图5为本公开实施例提供的设置有第一补偿区域的第一子掩膜板的结构示意图；
图6为本公开实施例提供的设置有第二补偿区域的第二子掩膜板的结构示意图；
图7为本公开实施例提供的一种电致发光显示面板的结构示意图。
具体实施方式
为了使得本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
为了保持本公开实施例的以下说明清楚且简明，本公开省略了已知功能和已知部件的详细说明。
参见图1，本公开实施例提供一种电致发光显示面板的制作方法，包括：
步骤S100，在图案化的掩膜版遮挡下，采用蒸镀工艺在预设发光层的至少一侧形成具有与掩膜版的图案相对应图案的电极层，其中，预设发光层为用于形成电致发光显示面板发光层的膜层。
本公开实施例通过图案化的掩膜板的遮挡下，采用蒸镀工艺在预设发光层的至少一侧形成具有掩膜板的图案相对应图案的电极层，不需要通过先形成光刻胶，以及将光刻胶刻蚀成倒梯形的光刻胶挡墙，再进行蒸镀工艺以形成相互间隔的电极图案，而且由于形成倒梯形的光刻胶挡墙需要对坡度角有一定的要求，通常需要较复杂的制作工艺，且不能保证倒梯形的光刻胶当前的结构稳定性，因此，通过本公开例提供的电极发光显示面板的制作方法制作触控电极时，可以简化电极层的制作工艺以及可以使形成的电极层的性能稳定；且采用本公开实施例一提供的掩膜板经过掩膜板制作的电极层，不需要光刻胶刻蚀工艺，可以兼容现有显示面板量产制作时的蒸镀、封装工艺，更利于显示面板的量产。
在具体实施时，可以先形成发光层，再在发光层之上形成电极层，或者，也可以先形成电极层，再在电极层之上形成发光层。
具体的，电致发光显示面板可以为有机发光显示面板(Organic Light-Emitting Diode，OLED)，也可以为量子点发光显示面板(Quantum Dot Light Emitting Diodes，QLED)。
具体的，电极层可以为电致发光显示面板的阳极层或阴极层。
可选地，在形成电极层之前，电致发光显示面板的制作方法还包括：根据所要形成的电极层的图案，形成具有图案化的掩膜版的步骤。
可选地，根据所要形成的电极层的图案，形成具有图案化的掩膜版的步骤，具体包括：根据所要形成的电极层的图案划分的至少两部分子图案，分别形成对应子图案的掩膜版。
例如，电极层为阴极层，该阴极层复用为触控电极层。触控电极层具体可以包括多个相互间隔的子触控电极以及与每一子触控电极一一对应相连的触控引线，掩膜板包括第一子掩膜板和第二子掩膜板，其中，第一子掩膜板包括与子触控电极相匹配的图案，第二子掩膜板包括与触控引线相匹配的图案。在具体实施时，可以是先形成子触控电极的图案，再形成触控引线的图案；也可以是先形成触控引线的图案，再形成子触控电极的图案。
可选地，在图案化的掩膜版遮挡下，采用蒸镀工艺在预设发光层的至少一侧形成具有与掩膜版的图案相对应图案的电极层，具体包括：
在第一子掩膜板的遮挡下，采用蒸镀工艺在预设发光层之上形成子触控电极的图案；
在第二子掩膜板的遮挡下，采用蒸镀工艺在形成有子触控电极的电致发光显示面板形成触控引线的图案，其中，触控引线与子触控电极一一对应相连；
或者，分别在第一子掩膜板和第二子掩膜板的遮挡下，采用蒸镀工艺在有机显示面板的预设发光层一侧形成触控电极，具体包括：
在第二子掩膜板的遮挡下，采用蒸镀工艺在预设发光层之上形成触控引线的图案；
在第一子掩膜板的遮挡下，采用蒸镀工艺在在形成有触控引线的电致发光显示面板形成子触控电极的图案，其中，触控引线与子触控电极一一对应相连。
由于掩膜板通常由多个包括蒸镀开口的掩膜板条经过拉伸以及焊接在掩膜框架上制作形成，而对于电极层的图案较为复杂时，若直接通过一个掩膜板上的图案掩膜形成该电极层的图案，则可能在拉伸掩膜条时会导致掩膜条上的蒸镀开口发生形变，进而无法形成预设的电极层图案，因此，可以根据电极层的图案划分的至少两部分子图案，相应的，制作至少两个掩膜板，其中，一个掩膜板对应电极层的一个子图案，进而形成预设的电极层的图案。当然，应该理解的是，划分的至少两部分子图案，应为拉伸方向上不容易发生形变的图案，以下进行具体详细说明。
可选的，电极层为阴极层，阴极层复用为触控电极层。需要形成的触控电极层具体包括多个相互间隔的子触控电极以及与每一子触控电极一一对应相连的触控引线。
具体的，例如，参见图2所示，触控电极层包括多个呈阵列分布的子触控电极30以及与子触控电极30同层设置的多条触控引线31，即，电极层划分为子触控电极30的子图案和触控引线31的子图案，对于每一行的子触控电极30，在由该行中部沿该行长轴方向向两侧延伸，如，在图2中沿OE和沿OF方向延伸，各子触控电极30在垂直于该行方向上的开口长度依次递减，每一子触控电极30的下端均设置有与该子触控电极30接触的触控引线31，同一行子触控电极30对应的触控引线31位于该行子触控电极30与下一行子触控电极30之间的间隙处。
相应的，掩膜板包括第一子掩膜板1和第二子掩膜板2，其中，第一子掩膜板1包括与子触控电极相匹配的图案，第二子掩膜板2包括与触控引线相匹配的图案，具体的，参见图3所示，第一子掩膜板1设置有呈阵列分布的块状第一开口10，且对于每一行的第一开口10，在由该行中部沿该行长轴方向向两侧边延伸，各第一开口10在垂直于该行方向上的开口长度依次递减，即，如图3中所示，由该行中部沿轴AB向图3中的左侧边延伸，以及由该行中部沿轴AC向图3中的右侧边延伸，各第一开口在垂直于该行长轴方向上的开口长度依次递减；参见图4所示，第二子掩膜板2包括呈两列多行排布的第二开口组20，每一第二开口组20包括多行第二开口201，对于每一组的第二开口201，在垂直于行向且指向下一行第二开口201的方向上，各第二开口201由侧边沿该行长轴方向向向中部延伸的长度依次递增；
基于上述需要形成的触控电极层的图案，以及形成的第一掩膜板图案和第二掩膜板图案，在图案化的掩膜版遮挡下，采用蒸镀工艺在预设发光层的至少一侧形成具有与掩膜版的图案相对应图案的电极层，具体包括：
在第一子掩膜板的遮挡下，采用蒸镀工艺在预设发光层之上形成多个呈阵列分布的子触控电极，对于每一行的子触控电极，在由该行中部沿该行长轴方向向两侧延伸，各子触控电极在垂直于该行方向上的开口长度依次递减；
在第二子掩膜板的遮挡下，在每一子触控电极的下端均形成与该子触控电极相连的触控引线，同一行子触控电极对应的触控引线位于该行子触控电极与下一行子触控电极之间的间隙处。
需要说明的是，本公开实施例一在形成触控电极层之前，制作方法还包括：通过蒸镀工艺形成显示面板的发光层。以及在形成触控电极层之后，制作方法还包括：通过蒸镀工艺形成薄膜封装层。本公开实施例一中，通过掩膜板进行蒸镀形成触控电极，可以使触控电极的制作工艺与显示面板的发光层以及封装膜层的制作工艺兼容，有利于显示面板的量产制作。
本公开实施例还提供一种电致发光显示面板，采用上述实施例提供的制作方法制作。在该电致发光显示面板中，电极层具体可以为阳极或阴极。当然，该电致发光显示面板具体还可以包括发光层，电极层可以设置在发光层之下；或者也可以设置在发光层之上；或者，可以在发光层之下和发光层之上分别形成电极层，一个可以为发光层之下的阳极层，另一个可以为发光层之上的阴极层。
可选地，电极层为位于发光层之上的阴极层，具体参见图7所示，电致发光显示面板可以包括衬底基板51，位于衬底基板51之上的阳极52，位于阳极层52之上的发光层53，位于发光层53之上的阴极层(复用触控电极层3)。该触控电极层3具体设置在发光层53之上；触控电极包括多个相互间隔的子触控电极以及与每一子触控电极一一对应相连的触控引线。
具体的，参见图2所示，触控电极层3具体包括多个呈阵列分布的子触控电极30以及与子触控电极30同层设置的多条触控引线31；对于每一行的子触控电极30，在由该行中部沿该行长轴方向向两侧延伸，各子触控电极30在垂直于该行方向上的开口长度依次递减，每一子触控电极30的下端均设置有与该子触控电极30接触的触控引线31，同一行子触控电极30对应的触控引线31位于该行子触控电极30与下一行子触控电极30之间的间隙处。
可选的，子触控电极30的形状可以为方形。
当然，子触控电极和触控引线还可以为其它的形状，本公开不依此为限。
可选地，触控电极为自容触控电极。
可选地，电致发光显示面板包括有源矩阵有机发光显示面板。
本公开实施例还提供一种掩膜板，该掩膜板包括与上述实施例的电致发光显示面板的电极层相对应的图案。
可选的，电致发光显示面板的电极层为阴极层，阴极层复用为触控电极层，且触控电极层多个相互间隔的子触控电极以及与每一子触控电极一一对应相连的触控引线。
例如，参见图2所示，触控电极层具体包括多个呈阵列分布的子触控电极30以及与子触控电极30同层设置的多条触控引线31，即，电极层划分为子触控电极30的子图案和触控引线31的子图案，对于每一行的子触控电极30，在由该行中部沿该行长轴方向向两侧延伸，各子触控电极30在垂直于该行方向上的开口长度依次递减，每一子触控电极30的下端均设置有与该子触控电极30接触的触控引线31，同一行子触控电极30对应的触控引线31位于该行子触控电极30与下一行子触控电极30之间的间隙处。
相应的，掩膜板包括第一子掩膜板和第二子掩膜板，其中，第一子掩膜板包括与子触控电极相匹配的图案，第二子掩膜板包括与触控引线相匹配的图案。
相应的，制作该电极层图案的掩膜板包括：第一子掩膜板以及第二子掩膜板，其中，
参见图3所示，第一子掩膜板1设置有呈阵列分布的块状第一开口10，且对于每一行的第一开口10，在由该行中部沿该行长轴方向(如图1中AB所指)向两侧边延伸，各第一开口10在垂直于该行方向上的开口长度依次递减，即，如图3中所示，由该行中部沿轴AB向图3中的左侧边延伸，以及由该行中部沿轴AB向图3中的右侧边延伸，各第一开口在垂直于该行长轴方向上的开口长度依次递减；
参见图4所示，第二子掩膜板2包括呈两列多行排布的第二开口组20，每一第二开口组20包括多行第二开口201，对于每一组的第二开口201，在垂直于行向且指向下一行第二开口201的方向上，各第二开口201由侧边沿该行长轴方向向向中部延伸的长度依次递增；
第二子掩膜板2与第一子掩膜板1垂直正对时，第二子掩膜板2的每一第二开口组20在第一子掩膜板1上的正投影位于第一掩膜板1的相邻两行第一开口10之间的间隙，且每一组的第二开口201的正投影依次与第一子掩膜板1的第一开口10对应接触，第一开口10与第二开口201的组合构成用于形成子触控电极30的图案以及对应相连的触控引线31的图案。
本公开实施例提供的掩膜板，包括第一子掩膜板以及第二子掩膜板，其中，第一子掩膜板包括多个呈阵列分布的块状第一开口，第二子掩膜板包括多行条状的第二开口，第一子掩膜板和第二子掩膜板相互配合，以通过第一子掩膜板的第一开口形成触控电极的图案，而通过第二子掩膜板的第二开口形成于每一触控电极一一对应的触控引线的图案，进而显示面板的触控电极可以通过该第一子掩膜板和第二子掩膜板的两次蒸镀工艺实现，不需要通过先形成光刻胶，以及将光刻胶刻蚀成倒梯形的光刻胶挡墙，再进行蒸镀工艺以形成相互间隔的触控电极，而且由于形成倒梯形的光刻胶挡墙需要对坡度角有一定的要求，通常需要较复杂的制作工艺，且不能保证倒梯形的光刻胶当前的结构稳定性，因此，通过本公开提供的掩膜板制作显示面板的触控电极时，可以简化触控电极的制作工艺以及可以使形成的触控电极的触控性能稳定；且采用本公开提供的掩膜板经过两次掩膜板制作的触控电极，不需要光刻胶刻蚀工艺，可以兼容现有显示面板量产制作时的蒸镀、封装工艺，更利于显示面板的量产。
需要说明的是，由于掩膜板是由多条掩膜条经过一一拉伸后再焊接在掩膜板的框架上，而本公开的第一子掩膜板设置的多个呈阵列分布的块状第一开口，第二子掩膜板设置有多行条状的第二开口，相比于通过一个掩膜板的图案形成相同的图案，本公开的第一子掩膜板和第二子掩膜板的图案设置可以避免掩膜板在制作过程中由于拉伸时导致图案的开口形状发生较大变化导致发生蒸镀不良的问题。
可选地，参见图5所示，位于第一子掩膜板1中部的至少部分第一开口为标准第一开口，标准第一开口以外的其它第一开口为补偿第一开口；各个补偿第一开口在面向下一行第一开口的端部均设置有第一补偿区域11，每一补偿第一开口与对应的第一补偿区域11构成的图案与标准第一开口的图案相同，其中，第一补偿区域11为厚度减薄的区域。本公开实施例中，各个第一补偿开口在面向下一行第一开口的端部均设置有第一补偿区域11，可以使第一子掩膜板1的对应各个区域的重量、应力基本保持相等，避免掩膜板制作过程中的张网时由于各个开口大小不一样致使制作的掩膜板出现褶皱不良，防止张网后的蒸镀工艺中因褶皱发生的蒸镀材料位置的偏移，保证蒸镀的材料正确的蒸镀到基板上。
可选的，位于第一子掩膜板1中部的至少相邻对称设置的部分第一开口为标准第一开口，如图5所示的第一行的中间两个开口。在此处，相邻对称设置指的是至少两个第一开口是相邻的，二者的几何中心沿着第一子掩膜板中部轴线对称分布，这并不限定标准第一开口在大小上是相同的或者不同的。
可选地，参见图6所示，每一第二开口组20的与下一行第二开口组20距离最近的第二开口为标准第二开口(如图6中第一行第一开口组的从上往下的第三个第二开口)，标准第二开口以外的其它第二开口为补偿第二开口(如图6中第一行第一开口组20的从上往下的第一个第二开口和第二个第二开口)，每一补偿第二开口在面向相对列的第二开口的端部设置有第二补偿区域202，每一补偿第二开口与对应的第二补偿区域202构成的图案与标准第二开口的图案相同，其中，第二补偿区域202为厚度减薄的区域。本公开实施例中，每一第二补偿开口在面向相对列的第二开口的端部设置有第二补偿区域202，可以使第二子掩膜板2的对应各个区域的重量、应力基本保持相等，避免掩膜板制作过程中的张网时由于各个开口大小不一样致使制作的第二子掩膜板出现褶皱不良，防止张网后的蒸镀工艺中因褶皱发生的蒸镀材料位置的偏移，保证蒸镀的材料正确的蒸镀到基板上。
可选地，第一补偿区域的厚度为第一子掩膜板厚度的一半；第二补偿区域的厚度为第二子掩膜板厚度的一半。
可选地，第一开口的形状为方形。
本公开实施例中，第一开口的形状为方形可以实现触控时还可以降低第一子掩膜板制作时的拉伸对第一子掩膜板形成的不良，进而以避免形成的触控电极发生不良。
显然，本领域的技术人员可以对本公开进行各种改动和变型而不脱离本公开的精神和范围。这样，倘若本公开的这些修改和变型属于本公开权利要求及其等同技术的范围之内，则本公开也意图包含这些改动和变型在内。