发光层700上。
[0050]防反射层900设置在基板100的下表面上。防反射层900以预定图案设置在基板100的下表面上。
[0051]具体地，防反射层900形成在红色(R)像素、绿色(G)像素、蓝色(B)像素和白色(W)像素中的每一者的TET区中。由于薄膜晶体管200形成在基板100的上表面上的各像素的TFT区中，所以外部光由于用于形成薄膜晶体管200的多个信号线而被反射。为了减小或防止外部光从TFT区被反射，使防反射层900形成在各像素的TFT区中。防反射层900可以形成为覆盖各像素的整个TFT区。
[0052]同时，红色(R)像素、绿色(G)像素、蓝色⑶像素和白色(W)像素中的每一者的显示区也发生外部光的反射。在红色(R)像素、绿色(G)像素和蓝色(B)像素的情况下，滤色层400形成在第一电极600与基板100之间，由此相当大的量的外部光在滤色层400中被吸收。因而，在红色(R)像素、绿色(G)像素和蓝色(B)像素中的每一者的显示区中几乎不产生由于外部光反射而引起的问题，由此在红色(R)像素、绿色(G)像素和蓝色(B)像素中的每一者的显示区中可以不需要防反射层900。
[0053]然而，由于在白色(W)像素中没有形成滤色层400，所以在白色(W)像素中可能会产生由于外部光反射而引起的问题。为此，在白色(W)像素的显示区中有利地形成防反射层 900。
[0054]因而，在第一电极600与基板100之间具有滤色层400的像素(例如，红色(R)像素、绿色(G)像素和蓝色(B)像素)的显示区中没有形成防反射层900，在第一电极600与基板100之间没有形成滤色层400的像素(例如，白色(W)像素)的显示区中形成有防反射层900，由此通过使外部光的反射减小或最小化以及使发射的光的损失减小提高了亮度。也就是说，在红色(R)像素、绿色(G)像素和蓝色(B)像素中的每一者的显示区中没有形成防反射层900，使得可以降低上述显示区中发射的光的损失，由此提高了亮度。
[0055]换言之，在红色(R)像素、绿色(G)像素、蓝色⑶像素和白色(W)像素中的每一者的TFT区中形成有防反射层900，在红色(R)像素、绿色(G)像素和蓝色(B)像素中的每一者的显示区中没有形成防反射层900，由此可以减小或防止外部光的反射以及使光的损失减小或最小化，由此提尚了壳度。
[0056]防反射层900没有在基板100的下表面的整个区域中形成，而是在预定部分中被图案化。也就是说，难于如在相关技术中那样施加膜型防反射层。因此，通过涂覆且图案化可涂覆材料层来得到根据本发明的实施方案的防反射层900，现在将不作详细描述。
[0057]图3为示出根据本发明的一个实施方案的防反射层的截面图。图4为示出根据本发明的一个实施方案的防反射层的功能的概念图。
[0058]如图3所示，根据本发明的一个实施方案的防反射层900可以包括第一取向层910、四分之一波板(QWP)920、第二取向层930以及线性偏振层(P0L)940。
[0059]第一取向层910设置在基板100的下表面上，并且四分之一波板920设置在第一取向层910的下表面上。
[0060]由于第一取向层910沿第一方向取向，所以第一取向层910使四分之一波板920的材料取向，由此使四分之一波板920具有预定的偏振功能。现在将描述上述第一取向层910和四分之一波板920的制造工艺。
[0061]第一取向层910可以由光取向材料例如丙烯酸酯基材料或环氧树脂基材料形成，但不限于这些材料。
[0062]四分之一波板920可以由反应性液晶原形成，并且四分之一波板920可以具有45°或-45°的透射轴。四分之一波板920可以用于使90°的线性偏振转换成圆偏振，以及使圆偏振转换为0°的线性偏振。
[0063]第二取向层930设置在四分之一波板920的下表面上，并且线性偏振层940设置在第二取向层930的下表面上。
[0064]由于第二取向层930沿与第一方向不同的第二方向取向，所以第二取向层930使线性偏振层940的材料取向，由此使线性偏振层940具有预定的偏振功能。现在将描述上述第二取向层930和线性偏振层940的制造工艺。
[0065]第二取向层930可以由光取向材料例如丙烯酸酯基材料或环氧树脂基材料形成，但不限于这些材料。
[0066]线性偏振层940可以由反应性液晶原和双色染料的混合物形成，或者可以由溶致液晶和双色染料的混合物形成。线性偏振层940可以具有90°的透射轴。线性偏振层940使入射光随透射轴以约90°被线性偏振。
[0067]如上所述，根据本发明的一个实施方案的防反射层900可以通过使用四分之一波板920和线性偏振层940减小或防止外部光被反射，将参照图4进行详细描述。
[0068]如图4所示，四分之一波板920形成在基板100之下，并且线性偏振层940形成在四分之一波板920之下。如上所述，线性偏振层940使入射光以约90°被线性偏振。另外，四分之一波板920使90°的线性偏振转换成圆偏振并且使圆偏振转换为0°的线性偏振。
[0069]因此，当外部光穿过线性偏振层940时，外部光以90°被线性偏振，然后经线性偏振的光在穿过四分之一波板920时被圆偏振。然后，经圆偏振的光在穿过基板100后在TFT区的多个信号线和显示区的电极上被反射，并且然后经反射的光在穿过四分之一波板920的同时以0°被线性偏振。因为0°的线性偏振与线性偏振层940的透射轴基本正交，所以经以0°线性偏振的光没有穿过线性偏振层940，由此减小或防止了外部光的反射。
[0070]图5A至图5E为示出根据本发明的实施方案的形成防反射层的制造工序的图，上述制造工序涉及图3所示的防反射层的制造工序。
[0071]首先，如图5A所示，在基板100的下表面上形成第一取向层910。
[0072]通过如下步骤来得到第一取向层910:通过光取向材料例如丙烯酸酯基材料或环氧树脂基材料的涂覆工序形成光取向材料层；在烘箱中烘干溶剂；固化光取向材料层；以及通过摩擦或偏振UV辐射使光取向材料层沿第一方向取向。
[0073]然后，如图5B所不，在第一取向层910的下表面上形成四分之一波板920。
[0074]通过如下步骤得到四分之一波板920:用反应性液晶原涂覆第一取向层910的下表面；在烘箱中烘干溶剂；以及固化所涂覆的材料。可以通过UV辐射进行上述固化工序。
[0075]使第一取向层910沿第一方向取向。因而，在烘箱中的烘干工序期间通过第一取向层910使四分之一波板920取向，由此四分之一波板920可以具有45°或-45°的透射轴。
[0076]此后，如图5C所示，在四分之一波板920的下表面上形成第二取向层930。
[0077]通过如下步骤来得到第二取向层930:通过光取向材料例如丙烯酸酯基材料或环氧树脂基材料的涂覆工序形成光取向材料层；在烘箱中烘干溶剂；固化光取向材料层；以及通过摩擦或偏振UV辐射使光取向材料层沿第二方向取向。
[0078]如图?所示，在第二取向层930的下表面上形成线性偏振层940。
[0079]通过如下步骤得到线性偏振层940:将反应性液晶原和双色染料的混合物或溶致液晶和双色染料的混合物涂覆到第二取向层930的下表面上；在烘箱中烘干溶剂；以及固化所涂覆的材料。可以通过UV辐射进行上述固化工序。
[0080]使第二取向层930沿第二方向取向。因而，在烘箱中的烘干工序期间通过第二取向层930使线性偏振层940取向，由此线性偏振层940可以具有45°或-45°的透射轴。
[0081]如图5E所示，通过从第一取向层910、四分之一波板920、第二取向层930和线性偏振层940去除预定部分来对防反射层900进行图案化。
[0082]可以通过光刻胶涂覆、曝光、显影、蚀刻和剥离的光刻工艺来进行从第一取向层910、四分之一波板920、第二取向层930和线性偏振层940去除预定部分的工序。
[0083]如上所述，第一取向层910、四分之一波板920、第二取向层930和线性偏振层940的待去除的预定部分对应于红色(R)像素、绿色(G)像素和蓝色(B)像素的显示区。
[0084]图6A至图6D为示出根据本发明的另一实施方案的形成防反射层的制造工序的图，其涉及图3中所示的防反射层的制造工序。
[0085]首先，如图6A所示，在基板100的下表面上对第一取向层910进行图案化。第一取向层910没有形成在红色(R)像素、绿色(G)像素和蓝色(B)像素中的每一者的显示区中，而是形成在各像素的TFT区和白色(W)像素的显示区中。
[0086]通过如下步骤来得到第一取向层910:通过光取向材料例如丙烯酸酯基材料或环氧树脂基材料的涂覆工序形成光取向材料层；在烘箱中烘干溶剂；固化光取向材料层；通过使偏振UV光辐射到各像素的TFT区和白色(W)像素的显示区上来使各像素的TFT区和白色(W)像素的显示区的光取向材料层沿第一方向取向；以及从红色(R)像素、绿色(G)像素和蓝色(B)像素中的每一者的未被偏振UV光辐射的显示区去除光取向材料层。
[0087]然后，如图6B所不，在第一取向层910的下表面上形成四分之一波板920