T区和显示区两者中。钝化膜300可以由单层绝缘膜形成，或者可以由无机绝缘层和有机绝缘层的双层绝缘结构形成。
[0116]滤色层400在钝化膜300 (尤其是在显示区中)上被图案化。滤色层400可以包括分别形成为用于红色(R)像素、绿色(G)像素和蓝色(B)像素的红色(R)滤色片、绿色(G)滤色片和蓝色(B)滤色片。
[0117]偏振层500设置在滤色层400上。偏振层500形成在TFT区和显示区两者中，以由此使基板100的表面偏振化。在钝化膜300和偏振层500的预定区中形成有接触孔，由此经由接触孔使薄膜晶体管200的漏电极240露出。
[0118]第一电极600设置在偏振层500上。第一电极600经由接触孔与漏电极240接触。第一电极600可以用作正极。
[0119]堤坝层650设置在第一电极600上。堤坝层650设置在TFT区上，以由此限定显示区。
[0120]发光层700设置在第一电极600上，并且在通过堤坝层650限定的显示区上被图案化。发光层700被形成为发射白色光。
[0121]第二电极800设置在发光层700上。第二电极800可以形成为用作公共电极。因而，第二电极800可以设置在包括堤坝层650的基板100的整个区域上。第一电极800可以用作负极。
[0122]尽管在图中未示出，在第二电极800上可以设置有防止水分从外部渗入的封装层，在封装层上可以设置有密封层，以及在密封层上可以设置有保护基板。
[0123]防反射层900设置在基板100的下表面上。防反射层900没有形成在显示区中，而是形成在TFT区中。防反射层900的详细结构与上述防反射层的结构相同，由此将省略对防反射层900的结构的详细描述。
[0124]如图1OB所示，白色(W)像素被构造有基板100、薄膜晶体管200、钝化膜300、偏振层500、第一电极600、堤坝层650、发光层700、第二电极800以及防反射层900。
[0125]与前述红色(R)像素、绿色(G)像素和蓝色(B)像素不同，白色(W)像素没有设置有滤色层400。另外，由于在白色(W)像素中没有形成滤色层400，所以防反射层900不仅形成在白色(W)像素的TFT区中而且形成在白色(W)像素的显示区中以减小或防止白色(W)像素的显示区中的外部光反射。
[0126]图11为示出根据本发明的另一实施方案的OLED装置的截面图。如图11所示，防反射层900没有设置在基板100的下表面上，而是设置在基板100的上表面上。
[0127]如图11所示，OLED可以包括基板100、防反射层900、薄膜晶体管200、钝化膜300、滤色层400、偏振层500、第一电极600、发光层700、第二电极800以及密封层850。
[0128]防反射层900设置在基板100的上表面上。以如上述那些方式相同的方式，防反射层900没有形成在红色(R)像素、绿色(G)像素和蓝色(B)像素中的每一者的显示区中，而是形成在各像素的TFT区和白色(W)像素的显示区中。
[0129]薄膜晶体管200设置在防反射层900上。钝化膜300、滤色层400、偏振层500、第一电极600、发光层700和第二电极800可以具有与上述那些层类似或相同的结构，由此将省略详细描述。
[0130]密封层850设置在第二电极800上，以由此密封OLED装置。在这种情况下，密封层850被设置成密封防反射层900的整个侧表面以减小或防止防反射层900暴露于外部。如果防反射层900的侧表面暴露于外部，则外部水分可能会渗入防反射层900的露出侧表面。为此，防反射层900的整个侧表面由密封层850密封，以由此减小或防止外部水分的渗入。为此，防反射层900没有设置在基板100的整个上表面上。也就是说，在基板100的边缘中没有形成防反射层900。因此，密封层850形成在基板100的没有防反射层900的边缘中。
[0131]OLED装置的以上描述涉及底发射型装置，其中图像通过朝基板100的向下方向发射的光进行显示，但不限于该方法。根据本发明的OLED装置可以应用于顶发射型装置，其中图像通过朝基板100的向上方向发射的光进行显示。
[0132]根据本发明的实施方案，防反射层900没有形成在具有滤色层的像素的显示区中，而是形成在没有滤色层的像素的显示区中，由此可以通过使外部光的反射最小化以及降低光损失来提高亮度。
[0133]对本领域普通技术人员将明显的是，在不脱离发明的精神或范围的情况下，可以对本发明做出各种修改方案和变化方案。因此，意指的是，本发明覆盖所附权利要求和其等同物的范围内的本领域普通技术人员所提供的该发明的修改方案和变化方案。
【主权项】
1.一种有机发光显示(OLED)装置，包括: 在基板上的第一像素和第二像素，所述第一像素和第二像素均包括TFT区和显示区，所述第一像素和所述第二像素中的每一者的显示区包括第一电极、发光层和第二电极； 在所述第二像素的显示区中的滤色层；和 在所述第一像素和所述第二像素中但基本上排除所述第二像素的显示区的防反射层。
2.根据权利要求1所述的OLED装置，其中，所述第一像素为白色像素，所述第二像素为红色像素、绿色像素和蓝色像素中的任何一种。
3.根据权利要求1所述的OLED装置，其中，所述防反射层包括:在所述基板的第一表面上的第一取向层；在所述第一取向层上的四分之一波板；在所述四分之一波板上的第二取向层；和在所述第二取向层上的线性偏振层。
4.根据权利要求3所述的OLED装置，其中，所述防反射层还包括在所述基板与所述第一取向层之间的第三取向层和半波板。
5.根据权利要求1所述的OLED装置，其中，所述第二像素的显示区设置有取向层、半波板、四分之一波板中的至少任一种。
6.根据权利要求1所述的OLED装置，还包括在所述基板上的膜，在所述基板与所述膜之间具有粘合剂，其中，所述防反射层被设置在所述膜上。
7.根据权利要求1所述的OLED装置，其中，所述防反射层被设置在所述基板的表面上，所述基板上形成有所述第一电极、所述发光层和所述第二电极，所述防反射层的侧表面由密封层密封。
8.根据权利要求1所述的OLED装置，其中，所述发光层发射白色光。
9.根据权利要求1所述的OLED装置，其中，所述防反射层包括相位延迟器。
10.一种制造有机发光显示(OLED)装置的方法，所述有机发光显示(OLED)装置包括在基板上的第一像素和第二像素，所述第一像素和第二像素均包括TFT区和显示区，所述第一像素和所述第二像素中的每一者的显示区包括第一电极、发光层和第二电极，所述方法包括: 在所述第二像素的显示区中形成滤色层；和 在所述第一像素和所述第二像素中但基本上排除所述第二像素的显示区形成防反射层O
11.根据权利要求10所述的方法，其中，所述形成防反射层的工序包括: 在所述基板上形成第一取向层； 在所述第一取向层上形成四分之一波板； 在所述四分之一波板上形成第二取向层；和 在所述第二取向层上形成线性偏振层。
12.根据权利要求11所述的方法，还包括在形成所述第一取向层之前将膜附接在所述基板上。
13.根据权利要求11所述的方法，还包括: 在所述基板上形成第三取向层；和 在所述第三取向层上形成半波板。
14.根据权利要求10所述的方法，其中，在所述基板的与形成有所述第一电极、所述发光层和所述第二电极的表面相反的表面上形成所述防反射层。
15.根据权利要求11所述的方法，其中，在所述第二电极上形成所述防反射层。
16.根据权利要求15所述的方法，还包括在所述防反射层上形成密封层。
17.根据权利要求10所述的方法，其中，在所述第二像素的所述显示区中形成所述防反射层的一部分。
18.根据权利要求17所述的方法，其中，所述防反射层的所述部分为取向层、半波板、四分之一波板中的至少之一。
19.根据权利要求11所述的方法，其中，所述形成线性偏振层的工序包括: 将反应性液晶原和双色染料的混合物或者将溶致液晶和双色染料的混合物涂覆到所述第二取向层上； 通过使UV辐射到各像素的TFT区和所述第一像素的显示区来使用于各像素的TFT区和所述第一像素的显示区的所述混合物固化；和 从未被UV辐射的所述第二像素的显示区去除所述混合物。
【专利摘要】本发明所公开的为一种有机发光显示(OLED)装置及其制造方法，该OLED装置可以包括：在基板上的第一像素和第二像素，第一像素和第二像素均包括TFT区和显示区，第一像素和第二像素中的每一者的显示区包括第一电极、发光层和第二电极；在第二像素的显示区中的滤色层；以及，在第一像素和第二像素中但基本上排除第二像素的显示区的防反射层。
【IPC分类】H01L27-32, H01L51-56
【公开号】CN104637984
【申请号】CN201410641857
【发明人】朴沅基, 朴慧晶
【申请人】乐金显示有限公司
【公开日】2015年5月20日
【申请日】2014年11月7日
【公告号】EP2871689A1, US20150129852