[0121]光学透镜501聚集来自被拍摄体的图像光(入射光)并在固态成像器件503的成像表面上形成图像。由此，信号电荷被存储在固态成像器件503中一段时间。快门装置502控制固态成像器件503的曝光期间和遮光期间。
[0122]驱动电路504提供用于控制固态成像器件503的信号传输操作和快门装置502的快门操作的驱动信号。根据从驱动电路504提供的驱动信号(时序信号)，固态成像器件503进行信号传输。信号处理电路505对从固态成像器件503输出的信号进行各种类型的信号处理。经过信号处理的视频信号被存储在诸如存储器等存储媒介中，或被输出至监控器。
[0123]电子装置500还包括沿光学透镜501光轴的方向驱动光学透镜501的透镜驱动单元(未示出)。透镜驱动单元与光学透镜501结合在一起形成用于调整焦点的调焦机构。在电子装置500中，附图中未示出的系统控制器控制调焦机构以及上述的各个部件等。
[0124]关于对调焦机构的控制，例如，信号处理电路505进行计算处理，以基于从本发明的固态成像器件中的焦点检测像素输出的焦点检测信号来计算焦点的偏移方向和偏移量。在接收此计算的结果后，系统控制器通过经由透镜驱动单元沿光学透镜501的光轴的方向移动光学透镜501来进行焦点控制，以获得焦点(对焦)。
[0125]在根据本发明的实施例的电子装置500的固态成像器件503中，能够在保持焦点检测像素的AF性能的同时提高成像像素的灵敏度。因此，能够实现更高的图像质量。
[0126]应当注意的是，本发明的实施例不限于上述实施例，且可以在不偏离本发明的范围的情况下对本发明进行各种修改。
[0127]另外，还能够以下述结构实现本发明。
[0128](1)
[0129]一种固态成像器件，其包括:
[0130]像素阵列单元，所述像素阵列单元包括多个像素；
[0131]第一微透镜，所述第一微透镜形成在各所述像素中；
[0132]膜，所述膜被形成为覆盖各所述像素的所述第一微透镜；以及
[0133]第二微透镜，所述第二微透镜形成在所述像素之中的焦点检测像素的所述膜上。
[0134](2)
[0135]根据(1)所述的固态成像器件，其中，所述膜被形成为这样的蚀刻阻挡膜:所述蚀刻阻挡膜被构造用于在形成所述第二微透镜时防止对所述焦点检测像素之外的所述像素的所述第一微透镜的蚀刻。
[0136](3)
[0137]根据(1)或(2)所述的固态成像器件，其中，所述膜具有大约1.4至2.0的折射率。
[0138](4)
[0139]根据⑴至(3)中任一项所述的固态成像器件，其中，所述膜由S1、SiN和S1N中的一者形成。
[0140](5)
[0141]根据(1)至(4)中任一项所述的固态成像器件，其中，所述第二微透镜被形成为由彼此相邻的多个焦点检测像素共用。
[0142](6)
[0143]根据(1)至(5)中任一项所述的固态成像器件，其中，所述第二微透镜的折射率高于所述第一微透镜的折射率。
[0144](7)
[0145]根据⑴至(6)中任一项所述的固态成像器件，其中，各所述像素的所述第一微透镜形成在同一层中。
[0146](8)
[0147]—种制造固态成像器件的方法，所述固态成像器件包括具有多个像素的像素阵列单元，
[0148]所述方法包括:
[0149]在各所述像素中形成第一微透镜；
[0150]形成覆盖各所述像素的所述第一微透镜的膜；以及
[0151]在所述像素之中的焦点检测像素的所述膜上形成第二微透镜。
[0152](9)
[0153]—种电子装置，其包括固态成像器件，
[0154]所述固态成像器件包括:
[0155]像素阵列单元，所述像素阵列单元包括多个像素；
[0156]第一微透镜，所述第一微透镜形成在各所述像素中；
[0157]膜，所述膜被形成为覆盖各所述像素的所述第一微透镜；以及
[0158]第二微透镜，所述第二微透镜形成在所述像素之中的焦点检测像素的所述膜上。
[0159]附图标记列表
[0160]10 CMOS图像传感器
[0161]11像素阵列单元
[0162]31成像像素
[0163]32焦点检测像素
[0164]51半导体基板
[0165]52光电转换单元
[0166]53a遮光膜
[0167]55微透镜
[0168]56 膜
[0169]57微透镜
[0170]71微透镜
[0171]81微透镜
[0172]82微透镜
[0173]500电子装置
[0174]503固态成像器件
【主权项】
1.一种固态成像器件，其包括: 像素阵列单元，所述像素阵列单元包括多个像素； 第一微透镜，所述第一微透镜形成在各所述像素中； 膜，所述膜被形成为覆盖各所述像素的所述第一微透镜；以及 第二微透镜，所述第二微透镜形成在所述像素之中的焦点检测像素的所述膜上。2.如权利要求1所述的固态成像器件，其中，所述膜被形成为这样的蚀刻阻挡膜:所述蚀刻阻挡膜被构造用于在形成所述第二微透镜时防止对所述焦点检测像素之外的所述像素的所述第一微透镜的蚀刻。3.如权利要求1所述的固态成像器件，其中，所述膜具有大约1.4至2.0的折射率。4.如权利要求1所述的固态成像器件，其中，所述膜由S1、SiN和S1N中的一者形成。5.如权利要求1所述的固态成像器件，其中，所述第二微透镜被形成为由彼此相邻的多个所述焦点检测像素共用。6.如权利要求1所述的固态成像器件，其中，所述第二微透镜的折射率高于所述第一微透镜的折射率。7.如权利要求1所述的固态成像器件，其中，各所述像素的所述第一微透镜形成在同一层中。8.—种制造固态成像器件的方法，所述固态成像器件包括具有多个像素的像素阵列单元， 所述方法包括以下步骤: 在各所述像素中形成第一微透镜； 形成覆盖各所述像素的所述第一微透镜的膜；以及 在所述像素之中的焦点检测像素的所述膜上形成第二微透镜。9.一种电子装置，其包括固态成像器件， 所述固态成像器件包括: 像素阵列单元，所述像素阵列单元包括多个像素； 第一微透镜，所述第一微透镜形成在各所述像素中； 膜，所述膜被形成为覆盖各所述像素的所述第一微透镜；以及 第二微透镜，所述第二微透镜形成在所述像素之中的焦点检测像素的所述膜上。
【专利摘要】本发明涉及能够在保持焦点检测像素的自动对焦特性的同时提高成像像素的灵敏度的固态成像器件、所述固态成像器件的制造方法以及电子装置。所述固态成像器件设置有：具有多个像素的像素阵列部；针对各像素形成的第一微透镜；膜，所述膜被形成为覆盖每个所述像素的所述第一微透镜；以及第二微透镜，所述第二微透镜被形成在所述像素之中的各焦点检测像素的所述膜上。本技术例如能够应用于CMOS图像传感器。
【IPC分类】H01L27/14, H04N5/369, G02B3/00
【公开号】CN105378926
【申请号】CN201580001336
【发明人】澁田宏和
【申请人】索尼公司
【公开日】2016年3月2日
【申请日】2015年5月29日
【公告号】WO2015190321A1