沿着高度Η的方向超出外壳12的出口 5 -点点。在根据图4的实 施方式中，第一电极4的出口 5具有两个不同的出口高度5a、5b，它们与表面2和有效区域 9的距离不同。一个出口高度5a通过管状第一电极4的出口形成，另外的出口高度5b通过 第一电极4的管状外壳12的出口形成。工艺气体通道3设置在第一电极4的内部中，而另 外的环状工艺气体通道13布置在第一电极4的外壁和外壳12的内壁之间。从电极头4a 的两个出口高度5a、5b出现，来自工艺气体通道3和来自另外的工艺气体通道13的两个工 艺气体均被转化为等离子体且两者都作为受电场驱动和受工艺气体自身的动力学能量驱 动的结果到达基底11的表面2。
[0067] 在表5中展示的装置1的第五实施方式中，图4的电极头4a又被修改至如下程 度：使外壳12与高度Η的方向相反地更长且使外壳12更接近于基底11的表面2。现在管 状第一电极4的第一出口高度5a比外壳12的第二出口高度5b离基底11的表面2更远。 与第四实施方式相比，在第二出口高度5b和表面2之间的距离小得多。结果，可在集中的 更窄的区域中将等离子体施加至基底11的表面2。在其它方面，图4和5的装置1对应于 图1的那些。
[0068] 在图6中，以透视图展示图1-5的接地的第二电极7的另外的实施方式。第二电 极7具有导电芯14,其作为棒形成且连接至交变电压源6的接地电势。芯14完全被气密 性内层15圈起，且内层15在离外部多孔层17 -定距离处被环形气体通道16圈起。由箭 头标识的气体物流被引导通过环形气体通道16。所述气体物流具有防止、或至少减少在第 二电极7上的等离子体沉积物的作用。气体分子从接地的第二电极7迀移通过外部多孔层 17。出现的气体分子防止从基底11的表面2反射的或以某些其它方式到达第二电极7的 工艺气体成分的沉积。结果，第二电极7的寿命可大大增加。
[0069] 标记列表
[0070] 1 装置
[0071] 2 表面
[0072] 3工艺气体通道
[0073] 4第一电极
[0074] 4a电极头
[0075] 5 出口
[0076] 5a出口高度
[0077] 5b出口高度
[0078] 6交变电压源
[0079] 7第二电极
[0080] 8电介质
[0081] 9有效区域
[0082] 11 基底
[0083] 12 外壳
[0084] 13另外的工艺气体通道
[0085] 14 芯
[0086] 15气密性内层
[0087] 16环形气体通道
[0088] 17外部多孔层
[0089] B宽度的方向 [0090] Η高度的方向 [0091] L 纵向方向
【主权项】
1. 用于表面（2)的等离子体处理的装置，其具有 第一电极⑷和 第二电极（7)以及在第一电极⑷和第二电极（7)之间的交变电压源（6)，以及至少在 第一电极⑷和第二电极（7)之间形成的电场， 布置在第一电极（4)的前面且待处理的表面（2)可位于其中的有效区域（9)， 且第二电极（7)布置得比第一电极（4)更接近于有效区域（9)， 特征在于 设置在第一电极（4)处的具有至少一个出口（5)的用于至少一个工艺气体物流的至少 一个工艺气体通道（3)，并且所述至少一个出口（5)指向有效区域（9)的方向，并且所述至 少一个工艺气体物流撞击在电场上且所述电场将所述至少一个工艺气体物流转化为等离 子体物流且所述等离子体物流撞击在有效区域（9)上。2. 根据权利要求1的装置， 特征在于 第一电极（4)作为棒形成并且布置在工艺气体通道（3)的内部中。3. 根据权利要求1或2的装置， 特征在于 第一电极（4)作为管形成并圈起另外的工艺气体通道（13)，且工艺气体通道（3)和另 外的工艺气体通道（13)彼此平行地排列。4. 根据权利要求2和3任一项的装置， 特征在于 第一电极⑷比外壳（12)更接近于有效区域（9)。5. 根据权利要求2或3的装置， 特征在于 外壳（12)比第一电极（4)更接近于有效区域（9)。6. 根据权利要求1-5之一的装置， 特征在于 第二电极（7)是接地的且被电介质⑶包围。7. 根据权利要求1-6之一的装置， 特征在于 第二电极（7)作为棒形成且被气密性内层（15)包围，并且在气密性内层（15)和气体 能渗透的介电外层（17)之间设置气体通道（16)。8. 根据前述权利要求之一的装置， 特征在于 多个第一电极（4)以多个行一个在另一个后面地布置，所述多个行各自在纵向方向 (L)上排列，并且设置多个棒状第二电极（7)，所述多个棒状第二电极（7)各自沿着第一电 极⑷的行之一在纵向方向（L)上延伸。9. 用等离子体处理表面（2)的方法， 其中在第一电极⑷和第二电极（7)之间施加交变电压， 至少在两个电极（4)之间产生电场， 将待处理的表面（2)定位在第一电极（4)的前面， 且第二电极（7)布置得比第一电极（4)更接近于表面（2)， 特征在于 使至少一个工艺气体物流通过至少一个工艺气体通道（3)且 所述至少一个工艺气体物流撞击在所述电场上且 所述电场将所述至少一个工艺气体物流转化为等离子体物流且 所述至少一个工艺气体物流在有效区域（9)的方向上离开设置在至少一个工艺气体 通道（3)的末端处的至少一个出口（5)且 所述等离子体物流撞击在有效区域（9)上。10. 根据权利要求9的方法， 特征在于 所述工艺气体物流在作为棒形成的第一电极（4)的外部周围流动。11. 根据权利要求9或10的方法， 特征在于 另外的工艺气体物流流动通过作为管形成的第一电极（4)。12. 根据权利要求9-11之一的方法， 特征在于 气体物流沿着第二电极（7)流动且流动通过气体能渗透的介电外层（17)到外部。13. 根据权利要求9-12之一的方法， 特征在于 在第一电极⑷和第二电极（7)之间产生交变电场。
【专利摘要】本发明公开用于表面的等离子体处理的装置和用等离子体处理表面的方法。用于表面(2)的等离子体处理的装置具有：第一电极(4)和第二电极(7)以及在第一电极(4)和第二电极(7)之间的交变电压源(6)、以及至少在第一电极(4)和第二电极(7)之间形成的电场、布置在第一电极(4)的前面且待处理的表面(2)可位于其中的有效区域(9)，且第二电极(7)布置得比第一电极(4)更接近于有效区域(9)，特征在于，设置在第一电极(4)处的具有至少一个出口(5)的用于至少一个工艺气体物流的至少一个工艺气体通道(3)，并且所述至少一个出口(5)指向有效区域(9)的方向，并且所述至少一个工艺气体物流撞击在电场上且所述电场将所述至少一个工艺气体物流转化为等离子体物流且所述等离子体物流撞击在有效区域(9)上。
【IPC分类】H01J37/32
【公开号】CN105551924
【申请号】CN201510695465
【发明人】M.黑内尔
【申请人】德莎欧洲公司
【公开日】2016年5月4日
【申请日】2015年10月23日
【公告号】CA2907303A1, DE102014221521A1, EP3012090A1, US20160118230