有机发光二极管显示基板及显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及显示技术领域，特别是涉及一种有机发光二极管显示基板及显示
目.0
【背景技术】
[0002]目前，有源矩阵有机发光二极管(ActiveMatrix/Organic Light EmittingD1de，缩写为AMOLED)的结构如图1a所示，其中10为阵列基板的衬底基板；20为薄膜晶体管的漏电极；30为有机平坦层；31为无机绝缘层；40为有机发光二极管的阳极；50为有机发光层；60为像素界定层(Pixel Define Layer，PDL)，用于限定多个像素区域101，如图1b所示；70为有机发光二极管的阴极。
[0003]柔性有机发光二极管显示基板一般采用薄膜封装的方式，封装薄膜100中的无机绝缘层起到阻隔水氧的作用。但是无机绝缘层机械性能较差，较小半径的弯折过程中容易断裂，导致水氧容易从正面进入，发生侵蚀。一旦正面水氧侵蚀发生，则会迅速扩散至周边区域，损坏有机发光二极管，尤其是有机发光层的性能，导致显示基板无法正常显示。
【实用新型内容】
[0004]本实用新型提供一种有机发光二极管显示基板及显示装置，用以解决薄膜封装中的无机绝缘层容易断裂，导致水氧容易从正面进入，发生侵蚀的问题。
[0005]为解决上述技术问题，本实用新型实施例中提供一种有机发光二极管显示基板，包括像素界定层，用于限定多个像素区域，其中，所述像素界定层包括多个位于显示区域的子像素界定层，相邻的子像素界定层之间间隔第一间隙，所述子像素界定层用于限定至少一个像素区域。
[0006]如上所述的有机发光二极管显示基板，优选的是，相邻的子像素界定层之间设置有水氧阻隔层，所述水氧阻隔层填充所述第一间隙。
[0007]如上所述的有机发光二极管显示基板，优选的是，所有子像素界定层限定的像素区域个数相同。
[0008]如上所述的有机发光二极管显示基板，优选的是，每个像素区域包括薄膜晶体管、阳极和设置在所述阳极上的有机发光层；
[0009]所述薄膜晶体管上覆盖有第一有机平坦层，所述第一有机平坦层上设置有第一无机绝缘层，所述阳极设置在所述第一无机绝缘层上。
[0010]如上所述的有机发光二极管显示基板，优选的是，所述第一有机平坦层包括多个子平坦层，相邻的子平坦层之间间隔第二间隙，所述第一间隙和第二间隙的位置对应。
[0011]如上所述的有机发光二极管显示基板，优选的是，所述水氧阻隔层的材料为金属。
[0012]如上所述的有机发光二极管显示基板，优选的是，所述水氧阻隔层的材料为Al。
[0013]如上所述的有机发光二极管显示基板，优选的是，所述显示基板还包括封装薄膜，所述封装薄膜包括:
[0014]第二无机绝缘层；
[0015]覆盖所述第二无机绝缘层的第二有机平坦层；
[0016]覆盖所述第二有机平坦层的第三无机绝缘层。
[0017]如上所述的有机发光二极管显示基板，优选的是，所述显示基板具体包括:
[0018]衬底基板；
[0019]设置在衬底基板上的薄膜晶体管；
[0020]覆盖所述薄膜晶体管的第一有机平坦层，所述第一有机平坦层包括多个子平坦层；
[0021]设置在所述第一有机平坦层上的第一无机绝缘层；
[0022]设置在所述第一无机绝缘层上的有机发光二极管的阳极，所述阳极通过贯穿所述第一无机绝缘层和第一平坦层的过孔与所述薄膜晶体管的漏电极电性连接；
[0023]设置在所述阳极上的像素界定层，所述像素界定层包括多个位于显示区域的子像素界定层；
[0024]设置在所述阳极上、位于所述像素区域内的有机发光层；
[0025]覆盖所述有机发光二极管的阴极；
[0026]覆盖所述阴极的封装薄膜。
[0027]本实用新型实施例中还提供一种显示装置，包括如上所述的有机发光二极管显示基板。
[0028]本实用新型的上述技术方案的有益效果如下:
[0029]上述技术方案中，设置有机发光二极管显示基板的像素界定层包括多个位于显示区域的子像素界定层，每个子像素界定层限定至少一个像素区域，相邻的子像素界定层之间间隔第一间隙，当有机发光二极管显示基板弯折时，即使发生断裂，也优先在所述第一间隙处发生断裂，对应像素区域的无机封装层不易发生断裂，从而水氧不能够从正面进入，侵蚀有机发光二极管。
【附图说明】
[0030]为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0031]图1a表不现有技术中有机发光一■极管显不基板的结构不意图；
[0032]图1b表示现有技术中像素界定层的俯视图；
[0033]图2a表不本实用新型实施例中有机发光一■极管显不基板的结构不意图一；
[0034]图2b表不本实用新型实施例中有机发光一■极管显不基板的结构不意图一■;
[0035]图3a表示本实用新型实施例中像素界定层的俯视图一；
[0036]图3b表示本实用新型实施例中像素界定层的俯视图二。
【具体实施方式】
[0037]对于有机发光二极管显示基板，一般采用无机封装薄膜进行封装，本实用新型提供一种有机发光二极管显示基板，用以解决显示基板弯折时，无机封装薄膜容易断裂，导致水氧从正面进入，侵蚀有机发光二极管的问题。
[0038]所述有机发光二极管显示基板的像素界定层包括多个位于显示区域的子像素界定层，所述子像素界定层用于限定至少一个像素区域，相邻的子像素界定层之间间隔第一间隙。当显示基板弯折时，即使发生断裂，也优先在所述第一间隙处发生断裂，对应像素区域的无机封装薄膜不易发生断裂，从而水氧不能够从正面进入，侵蚀有机发光二极管，保证显不基板的显不性能。
[0039]下面将结合附图和实施例，对本实用新型的【具体实施方式】作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。
[0040]结合图2a和3a所示，本实用新型实施例中的有机发光二极管显示基板包括像素界定层60，像素界定层60包括多个位于显示区域的子像素界定层61，每个子像素界定层61用于限定至少一个像素区域101。每个像素区域101包括有机发光二极管，在有机发光二极管上方覆盖有封装薄膜100。所述封装薄膜100包括无机绝缘层，无机绝缘层用于阻隔水氧，保护有机发光二极管不被水氧侵蚀。有机发光二极管包括阳极40、阴极70和位于阳极40和阴极70之间的有机发光层50，一般地，阳极40和有机发光层50位于对应的像素区域101内，阴极70设置在有机发光层50和像素界定层60上，覆盖整个显示基板。当向阳极40施加特定的像素电压后，其与阴极70配合，形成驱动有机发光层50发光的电场。则，封装薄膜100具体覆盖在有机发光二极管的阴极70上。
[0041]相邻的子像素界定层61之间间隔第一间隙62，第一间隙62对应相邻两个像素区域101之间的位置设置，与像素区域101错开。
[0042]上述技术方案中，设置的第一间隙62使得显示基板弯折时，即使发生断裂，也优先在第一间隙62处发生断裂，对应像素区域101的封装薄膜100不易发生断裂，从而能够阻挡水氧从正面进入侵蚀有机发光二极管，保证显示基板的显示性能。
[0043]其中，封装薄膜100具体包括第二无机绝缘层80、第二有机平坦层90和第三无机绝缘层81，第二无机绝缘层80覆盖在有机发光二极管上，第二有机平坦层90和第三无机绝缘层81依次设置在第二无机绝缘层80上。第二无机绝缘层80和第三无机绝缘层81起到水氧阻隔的作用，保护有机发光二极管不被侵蚀，第二有机平坦层90能够为显示基板提供平坦的表面。
[0044]像素界定层60是有机发光二极管显示基板的特定结构，用于限定像素区域101。本实用新型的像素界定层60包括多个位于显示区域的子像素界定层61，通常采用在子像素界定61中形成镂空部的方式，来限定像素区域101。每个镂空部对应一个像素区域101，如图3a和图3b所示。图3a中每个子像素界定层61限定一个像素区域101，图3b中每个子像素界定层61限定六个像素区域101。需要说明的是，每个子像素界定层61限定的像素区域个数并不局限于一个和六个，还可以为两个、四个、五个、七个........
[0045]在实际应用过程中，可以设置所有子像素界定层61限定的像素区域101个数相同，以简化制作工艺。
[0046]优选地，在相邻的子像素界定层61之间还设置有水氧阻隔层71，水氧阻隔层71填充位于相邻子像素界定层61之间的第一间隙62，从而即使显示基板在第一间隙62处发生断裂，水氧阻隔层71也能够阻挡水氧通过第一间隙62从正面进入，侵蚀有机发光二极管的阴极70，并阻挡水氧从第一间隙扩散至周边区域，结合图2a和图3a所示。具体的，水氧阻隔层71的材料可以为具有阻隔水氧特性的材料，也可以为与水氧反应后的生成物具有阻隔水氧特性的材料(例如金属Al)。
[0047]需要说明的是:水氧阻隔层71填充第一间隙62是指:水氧阻隔层71覆盖第一间隙62的底部和侧面。具体的，水氧阻隔层71覆盖位于第一间隙62的底部和侧面的阴极70，当显示基板在第一间隙62处发生断裂时，水氧阻隔层71能够阻挡水氧通过第一间隙62从正面进入，侵蚀阴极70，并阻断水氧从第一间隙62扩散至周边区域。
[0048]有机发光二极管显示基板依驱动方式可分为无源矩阵驱动和有源矩阵驱动两种。有源矩阵有机发光二极管显示基板的每一像素区域101都有一存储电容，用于存储数据，让每一像素区域101皆维持在发光状态，功耗较低，适合