一种SiC晶须的制备方法

文档序号:8196591阅读:810来源:国知局
专利名称:一种SiC晶须的制备方法
技术领域
本发明涉及SiC晶须领域,特别是涉及一种SiC晶须的制备方法。
背景技术
SiC晶须是一种高度取向性的短纤维单晶体,作为复合材料的补强增韧材料。SiC晶须的制备方法普遍采用碳热还原的方法,即硅源和碳源及催化剂,按一定比例混合,在非氧化性气氛,高温条件下反应,合成产物通过除碳和酸洗等工艺除去杂质。自从20世纪70年代中期美国犹他大学的Cutler教授发明稻壳生产SiC晶须以来,稻壳制SiC晶须得到了很大的发展,所生产的SiC中SiC晶须的含量由最初的仅占10%提高到2(Γ25%。日本东海碳素公司、美国罗斯阿拉莫斯公司等采用稻壳作为原料,并形成了较大的生产规模,目前SiC晶须生产过程中存在成本高,产率低,能耗大等问题,进一步研究SiC晶须的制备方法
是很有必要的。

发明内容
本发明的目的是提供一种SiC晶须的制备方法,采用新型催化剂,解决SiC晶须生产中成本大,制备工艺复杂等问题,降低生产成本,提高生产效率和产品质量。为实现上述目的,本发明是通过以下技术方案实现的—种SiC晶须的制备方法,以埃肯娃微粉为娃源、石墨为碳源、Na3AlF6为催化剂,在石墨坩埚内,按摩尔比C/Si= (7. 5 8):1,Si/Al= (4 6):1的比例加入SiO2微粉和Na3AlF6,石墨坩埚的内壁即是SiC晶须生长的基底,在热压炉中,充入氩气作为SiC晶须生长的保护气体。将埃肯硅微粉和Na3AlF6混合后放入石墨坩埚内,用石墨盖盖好后,放入真空碳管炉内,抽真空至10 12Pa,充入氩气进行洗气再抽真空,最后充入氩气保持石墨坩埚内压力高于外界O. 02 O. 03Mpa,升温速率为10 12°C /分钟,在1300°C 1500°C之间保温I 3小时,至SiC晶须表面光滑、长径比达60 200时合成结束,随炉冷却至室温,除去产物中过量未反应的SiO2和C即可。与现有技术相比,本发明的有益效果是原料来源广、成本低,不存在环境污染,制备出的晶须长径比达6(Γ200、晶须表面光滑,制备工艺简单,通过控制生产过程中的温度和气氛即可控制晶须的生长。
具体实施例方式下面结合具体实施方式
对本发明作进一步说明本发明一种SiC晶须的制备方法,是以埃肯娃微粉为娃源、石墨为碳源、Na3AlF6为催化剂,在石墨坩埚内,按摩尔比C/Si= (7. 5 8): 1,Si/Al= (4 6):1的比例加入SiO2微粉和Na3AlF6,石墨坩埚的内壁即是SiC晶须生长的基底,首先在气-固界面SiC通过二维成核生成片状晶芽,然后在此基础上沿一维方向沉积生长成SiC晶须,在热压炉中,充入氩气作为SiC晶须生长的保护气体。将埃肯硅微粉和Na3AlF6筛分后按比例充分混合后放入石墨坩埚内,用石墨盖盖 好后,放入真空碳管炉内,抽真空至10 12Pa,充入氩气进行洗气再抽真空,最后充入氩气保持石墨坩埚内压力高于外界O. 02 O. 03Mpa,升温速率为10 12V /分钟,在1300°C 1500°C之间保温I 3小时,至SiC晶须表面光滑、长径比达60 200时合成结束,随炉冷却至室温,除去产物中过量未反应的SiO2和C即可。
权利要求
1.一种SiC晶须的制备方法,其特征在于,以埃肯娃微粉为娃源、石墨为碳源、Na3AlF6 为催化剂,在石墨坩埚内,按摩尔比C/Si= (7. 5 8) :1,Si/Al= (4 6):1的比例加入 SiO2微粉和Na3AlF6,石墨坩埚的内壁即是SiC晶须生长的基底,在热压炉中,充入氩气作为 SiC晶须生长的保护气体。
2.根据权利要求I所述的一种SiC晶须的制备方法,其特征在于,将埃肯硅微粉和Na3AlF6混合后放入石墨坩埚内,用石墨盖盖好后,放入真空碳管炉内,抽真空至10 12Pa,充入氩气进行洗气再抽真空,最后充入氩气保持石墨坩埚内压力高于外界O. 02 O. 03Mpa,升温速率为10 12°C /分钟,在1300°C 1500°C之间保温I 3小时,至SiC 晶须表面光滑、长径比达60 200时合成结束,随炉冷却至室温,除去产物中过量未反应的 SiO2和C即可。
全文摘要
本发明涉及SiC晶须领域,特别是涉及一种SiC晶须的制备方法,其特征在于,以埃肯硅微粉为硅源、石墨为碳源、Na3AlF6为催化剂,在石墨坩埚内,按摩尔比C/Si=(7.5~8)1,Si/Al=(4~6)1的比例加入SiO2微粉和Na3AlF6,石墨坩埚的内壁即是SiC晶须生长的基底,在热压炉中,充入氩气作为SiC晶须生长的保护气体。放入真空碳管炉内,充入氩气,在1300℃~1500℃之间保温1~3小时。与现有技术相比,本发明的有益效果是原料来源广、成本低,不存在环境污染,制备出的晶须长径比达60~200、晶须表面光滑,制备工艺简单,通过控制生产过程中的温度和气氛即可控制晶须的生长。
文档编号C30B29/36GK102978706SQ201210540660
公开日2013年3月20日 申请日期2012年12月13日 优先权日2012年12月13日
发明者崔曦文, 柏杉, 洪艳萍, 闵庆峰, 蒋明学 申请人:中冶焦耐工程技术有限公司
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