一种蓝宝石晶片褪镀工艺的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种蓝宝石晶片褪镀工艺，用于蓝宝石加工过程中的褪镀返工，包括如下步骤：第一步、高温脱墨；第二步、降温；第三步、使用碱性光学玻璃清洗剂进行清洗脱膜；第四步、使用去离子水漂洗；第五步、使用碱性水基环保清洗剂清洗；第六步、使用柠檬酸溶液浸泡去残留；第七步、使用去离子水二次漂洗。本发明避免采用强酸溶剂通过氧化还原进行褪镀，通过新型的清洗剂结合加热处理，实现蓝宝石镜片表面镀层的物理剥离，褪镀效果好，有效解决了现有技术中蓝宝石晶片难以褪镀返工、褪镀成本高的问题，具有环保、安全的优点。
【专利说明】—种蓝宝石晶片褪镀工艺
【技术领域】
[0001]本发明属于蓝宝石加工【技术领域】，具体涉及一种蓝宝石晶片褪镀工艺。
【背景技术】
[0002]在蓝宝石晶片生产中，由于镀膜、丝印等工艺不合格，需要对蓝宝石晶片表面的油墨及镀层进行褪镀处理，然后进行重新镀膜、丝印。
[0003]现有的蓝宝石褪镀技术，通常采用无机酸腐蚀、强氧化还原反应、和有机溶剂浸泡等方法的来祛除蓝宝石表面的油墨及镀层，由于蓝宝石油墨附着力强，往往出现褪镀不干净的现象，影响重新镀膜、丝印的效果。同时，由于褪镀使用的溶剂具有高强度的腐蚀性，因此对褪镀处理的设备要求较高 ，要求耐强酸强碱，另因使用到的都是强酸和具体刺激性气味的化学品，对员工的操作和废液处理带来了极大的安全隐患和环境影响，同时也导致褪镀的成本较高，甚至褪镀的成本超过了褪镀处理的蓝宝石晶片本身的价值。
【发明内容】
[0004]本发明解决的技术问题是:提供一种高品质，安全环保的蓝宝石镜片褪镀工艺，用以解决传统强腐蚀性酸碱溶剂对蓝宝石晶片褪镀存在的成本高、安全隐患高和环境影响大的技术缺陷。
[0005]本发明采用如下技术方案实现:一种蓝宝石晶片褪镀工艺，包括如下步骤:
[0006]第一步、闻温脱墨,将监宝石晶片加热至450~480 C，利用闻温将油墨炭化，从而达到物理分离的效果；
[0007]第二步、降温，将蓝宝石晶片的温度降至80~100°C，为了方便后续运转物料，防止高温烫伤；
[0008]第三步、脱膜，使用质量比100%的碱性光学玻璃清洗剂对蓝宝石晶片进行清洗，有效被除广品表面锻层；
[0009]第四步、漂洗，使用去离子水对蓝宝石晶片进行漂洗，去除产品表面具有腐蚀的清洗液残留；
[0010]第五步、清洗，使用质量比为10~15%的碱性水基环保清洗剂对蓝宝石晶片进行清洗，有效去除产品表面脏污；
[0011]第六步、去残留,使用柠檬酸溶液对蓝宝石晶片进行浸泡,有效中和碱性清洗剂；
[0012]第七步、二次漂洗，使用去离子水对蓝宝石晶片进行漂洗，去除表面清洗液残留。
[0013]进一步的，所述第一步中的高温脱墨采用加压炉对蓝宝石晶片进行加热，并保温120 ~140min。
[0014]进一步的，所述第二步中的降温采用降温罩对蓝宝石晶片进行降温。
[0015]进一步的，所述第三步中，将碱性光学玻璃清洗剂加热至110~120°C对蓝宝石晶片进行清洗。
[0016]进一步的，所述第三步在超声波清洗机中进行，在40KHZ的超声波环境下清洗90 ~10min0
[0017]进一步的，所述第五步中，将碱性水基环保清洗剂加热至80°C对蓝宝石晶片进行清洗。
[0018]进一步的，所述第五步在超声波清洗机中进行，在40KHZ的超声波环境下清洗30 ~40mino
[0019]进一步的,所述第六步中采用质量比为I %的柠檬酸溶液浸泡10~15min。
[0020]进一步的，所述第三步和第七步中的漂洗均采用常温去离子水进行，漂洗60~90s。
[0021]本发明采用上述技术方案避免采用强酸溶剂对蓝宝石晶片进行褪镀，不通过强氧化还原反应，采用新型的清洗剂结合加热处理，实现蓝宝石镜片表面镀层的剥离，褪镀效果好，有效解决了现有技术中蓝宝石晶片难以褪镀返工、褪镀成本高的问题，具有环保、安全的优点，具有广泛的市场经济价值。
[0022]以下结合【具体实施方式】对本发明做进一步说明。
【具体实施方式】
[0023]实施例
[0024]本实施例对Φ5.50mm*0.3mm蓝宝石晶片丝印后进行褪镀返工，褪镀过程中采用的去离子水电阻为18ΜΩ.cm ，超声波清洗机的电流控制在:2.5±0.5A ;按以下步骤进行褪镀。
[0025]I)高温脱墨:使用加压炉将蓝宝石晶片加热至450~480°C，保温时间120~140mino
[0026]2)降温:使用保温罩将蓝宝石晶片的温度降至80~100°C即可。
[0027]3)脱膜:将蓝宝石晶片浸入超声波清洗机的清洗槽，采用质量比为100%的碱性光学玻璃清洗剂(采购于广东山之风环保科技有限公司的WIN-19C光学玻璃清洗剂，其主要成分包括氢氧化钠、助剂、表面活性剂)加热至110~120°C，在40KHZ的超声波环境下对蓝宝石晶片清洗清洗90~lOOmin。将清洗剂加热是为了防止降温后的蓝宝石晶片遇冷将清洗剂蒸发，并且加热的清洗剂更有利于油墨的脱膜效果。
[0028]4)漂洗:将脱膜后的蓝宝石晶片使用常温去离子水漂洗60s~90s。
[0029]5)清洗:再次将蓝宝石晶片浸入超声波清洗机的清洗槽，这次采用质量比为10%的弱碱性水基环保清洗剂(采购于广东山之风环保科技有限公司的WIN-152B光学玻璃清洗剂)加热至80°C，在40KHZ的超声波环境下对蓝宝石晶片清洗清洗30~40min。
[0030]6)清洗去残留:将清洗后的蓝宝石晶片使用质量比为1%的常温柠檬酸溶液浸泡10 ~15min0
[0031]7) 二次漂洗:最后将蓝宝石晶片使用常温去离子水再次进行漂洗60~90s即完成蓝宝石的褪镀工艺，检验后即可可进行再次镀膜、丝印。
[0032]褪镀后的蓝宝石晶片检视在以下条件下进行:在检验灯光照度为800~1200LUX，产品距眼睛30cm，产品距光源40cm，检验时间为15s，检验角度为:眼睛视线与玻璃表面垂直，上下左右旋转30-750，要求在检验背景为黑色背景的情况下，采用上述工艺褪镀的蓝宝石晶片均能达到晶片表面无油墨残留，无脏污，水滴角测试在18-22°之间，透光率测试波长范围410mn-750mn的测试平均值≥85T%，即可以满足蓝宝石晶片再次丝印、镀膜工艺要求。
【权利要求】
1.一种蓝宝石晶片褪镀工艺，其特征在于包括如下步骤: 第一步、高温脱墨，将蓝宝石晶片加热至450~480°C ； 第二步、降温，将蓝宝石晶片的温度降至80~100°C ； 第三步、脱膜，使用质量比100%的碱性光学玻璃清洗剂对蓝宝石晶片进行清洗； 第四步、漂洗，使用去离子水对蓝宝石晶片进行漂洗； 第五步、清洗，使用质量比为10~15%的碱性水基环保清洗剂对蓝宝石晶片进行清洗； 第六步、去残留,使用柠檬酸溶液对蓝宝石晶片进行浸泡； 第七步、二次漂洗，使用去离子水对蓝宝石晶片进行漂洗。
2.根据权利要求1所述的一种蓝宝石晶片褪镀工艺，其特征在于:所述第一步中的高温脱墨采用加压炉对蓝宝石晶片进行加热，并保温120~140min。
3.根据权利要求1所述的一种蓝宝石晶片褪镀工艺，其特征在于:所述第二步中的降温采用降温罩对蓝宝石晶片进行降温。
4.根据权利要求1所述的一种蓝宝石晶片褪镀工艺，其特征在于:所述第三步中，将碱性光学玻璃清洗剂加热至110~120°C对蓝宝石晶片进行清洗。
5.根据权利要求4所述的一种蓝宝石晶片褪镀工艺，其特征在于:所述第三步在超声波清洗机中进行，在40KHZ的超声波环境下清洗90~lOOmin。
6.根据权利要求1所述的一种蓝宝石晶片褪镀工艺，其特征在于:所述第五步中，将碱性水基环保清洗剂加热至80°C对蓝宝石晶片进行清洗。
7.根据权利要求7所述的一种蓝宝石晶片褪镀工艺，其特征在于:所述第五步在超声波清洗机中进行，在40KHZ的超声波环境下清洗30~40min。
8.根据权利要求1所述的一种蓝宝石晶片褪镀工艺，其特征在于:所述第六步中采用质量比为I %的柠檬酸溶液浸泡10~15min。
9.根据权利要求1所述的一种蓝宝石晶片褪镀工艺，其特征在于:所述第三步和第七步中的漂洗均采用常温去离子水进行，漂洗60~90s。
【文档编号】C30B33/10GK104178816SQ201410387687
【公开日】2014年12月3日 申请日期:2014年8月8日 优先权日:2014年8月8日
【发明者】周群飞, 饶桥兵, 阳畯 申请人:蓝思科技股份有限公司