等离子体发生装置以及使用了该等离子体发生装置的清洗净化装置制造方法
【专利摘要】清洗净化装置(40)检测在使用等离子体发生装置(1)时所产生的非正常事件，基于其检测结果来控制等离子体放电。
【专利说明】等离子体发生装置以及使用了该等离子体发生装置的清洗净化装置
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种等离子体发生装置以及使用了该等离子体发生装置的清洗净化
>J-U ρ?α装直。
【背景技术】
[0002]以往，已知如下一种技术:通过在含有气泡的液体中进行放电来使气泡产生自由基等以重整液体(例如参照专利文献I)。在专利文献I所公开的水中放电方法中，对在放电容器内的水中以非接触状态相对配置的电极施加交流脉冲电压，通过在电位反转时感应出而在放电容器内产生的电场来进行水中放电。通过这样进行水中放电,气泡中产生有效成分，含有该气泡的液体被重整。
[0003]专利文献1:日本特开2001-9463号公报
【发明内容】
[0004]然而，根据以往技术`，存在以下的可能性:在液体中放电时使用者误使用。另外，在正常使用时也有可能随着某些误动作而产生漏液等。因此，期望一种针对这种不正确的使用状况的对策。
[0005]本发明是为了解决上述问题而完成的，其目的在于提供一种能够避免使用者的误使用、伴随装置的误动作而产生的非正常事件的等离子体发生装置以及使用了该等离子体发生装置的清洗净化装置。
_6] 用于解决问题的方案
[0007]本发明的第一方式所涉及的清洗净化装置使用了等离子体发生装置，该等离子体发生装置具备:液体容纳部，其容纳至少含水的液体；气体容纳部，其容纳气体；隔离壁部，其将上述液体容纳部与上述气体容纳部隔开，形成有允许上述气体容纳部中的上述气体的流通来将上述气体引导到上述液体容纳部的气体通路；第一电极，其被配置于上述气体容纳部；第二电极，其被配置成与上述第一电极隔开距离，且至少与上述第一电极成对一侧的部分与上述液体容纳部中的上述液体相接触；气体供给部，其以经由上述气体通路向上述液体容纳部加压输送上述气体容纳部的上述气体的方式，来向上述气体容纳部供给至少含氧的气体；以及等离子体电源部，其在上述第一电极与上述第二电极之间供给规定的电压来使上述第一电极与上述第二电极之间产生放电，由此在上述液体容纳部中的上述液体内将导入到上述气体容纳部的上述气体等离子体化，该清洗净化装置的特征在于，检测在使用上述等离子体发生装置时所产生的非正常事件，基于其检测结果来控制等离子体放电。
[0008]本发明的第二方式所涉及的清洗净化装置的特征在于，上述清洗净化装置的主体具备开闭式的盖，仅在上述盖闭合时产生等离子体放电。
[0009]本发明的第三方式所涉及的清洗净化装置的特征在于，具备检测电动剃刀的重量的重量检测部，仅在检测到上述电动剃刀的重量时产生等离子体放电。[0010]本发明的第四方式所涉及的清洗净化装置的特征在于，具备检测电动剃刀的驱动音的收音部，仅在检测到上述电动剃刀的驱动音时产生等离子体放电。
[0011]本发明的第五方式所涉及的清洗净化装置的特征在于，具备检测是否存在清洗水的清洗水检测部，仅在上述液体容纳部中存在清洗水时产生等离子体放电。
[0012]本发明的第六方式所涉及的清洗净化装置的特征在于，具备检测发热的发热检测部，当检测到异常发热时强制停止等离子体放电。
[0013]本发明的第七方式所涉及的清洗净化装置的特征在于，具备检测漏液的漏液检测部，当检测到漏液时强制停止等离子体放电。
[0014]本发明的第八方式所涉及的清洗净化装置的特征在于，具备检测漏电的漏电检测部，当检测到漏电时强制停止等离子体放电。
[0015]本发明的第九方式所涉及的清洗净化装置的特征在于，具备检测清洗水的电阻值的电阻值检测部，如果该电阻值为水以外的液体的电阻值则强制停止等离子体放电。
[0016]本发明的第十方式所涉及的等离子体发生装置是使用于上述清洗净化装置的等离子体发生装置。
【专利附图】
【附图说明】 [0017]图1是示意性地表示本发明的第一实施方式所涉及的等离子体发生装置的结构的包含一部分截面的图。
[0018]图2是表示本发明的第一实施方式所涉及的等离子体发生装置的第一电极侧的电位与第二电极侧的电位之间的关系的图。
[0019]图3是示意性地表示用于说明本发明的第一实施方式所涉及的等离子体发生装置的动作的一个状态的部分放大截面图。
[0020]图4是示意性地表示图3所示的状态之后的状态的部分放大截面图。
[0021]图5是示意性地表示本发明的第一实施方式所涉及的清洗净化装置的结构的包含一部分截面的图。
[0022]图6是使用了本发明的第一实施方式所涉及的等离子体发生装置的清洗净化装置的一部分的立体图。
[0023]图7是使用了本发明的第一实施方式所涉及的等离子体发生装置的清洗净化装置的侧截面图。
[0024]图8是图7的A-A截面图。
[0025]图9是使用了本发明的第一实施方式所涉及的等离子体发生装置的清洗净化装置的侧截面图。
[0026]图10是本发明的第二实施方式所涉及的清洗净化装置的说明图，(a)是表示安装头部之前的状态的图，(b)是表示安装头部之后的状态的图。
[0027]图11是本发明的第三实施方式所涉及的清洗净化装置的说明图。
[0028]图12是本发明的第四实施方式所涉及的清洗净化装置的说明图，(a)是示意性地表示清洗净化装置的结构的包含一部分截面的图，(b)是表示浮子构造的机械开关的图。
[0029]图13是本发明的第五实施方式所涉及的清洗净化装置的说明图。
[0030]图14是本发明的第六实施方式所涉及的清洗净化装置的说明图。[0031]图15是本发明的第七实施方式所涉及的清洗净化装置的说明图。
[0032]图16是本发明的第八实施方式所涉及的清洗净化装置的说明图。
【具体实施方式】
[0033]下面，参照附图来详细说明本发明的实施方式。
[0034](第一实施方式)
[0035]本实施方式所涉及的清洗净化装置是以使用能够高效地大量产生自由基的等离子体发生装置I为前提的。因此，首先，详细说明该等离子体发生装置I。
[0036]《等离子体发生装置》
[0037]本实施方式所涉及的等离子体发生装置I如图1所示那样具备大致圆筒状的壳体构件2。壳体构件2的形状并不限于圆筒状，例如也可以为方筒状。在壳体构件2的内侧配置有陶瓷构件3，由该陶瓷构件3对壳体构件2的内部空间进行上下分割。壳体构件2的内部空间中的陶瓷构件3的上侧的区域成为容纳含水的液体17的液体容纳部4。另一方面，陶瓷构件3的下侧的区域成为容纳气体的气体容纳部5。这样，陶瓷构件3相当于将液体容纳部4和气体容纳部5隔开的隔离壁部。
[0038]在液体容纳部4的外周端部安装有堵塞壳体构件2与陶瓷构件3的间隙的环状的密封构件6。由此，液体容纳部4内的液体17不会从壳体构件2与陶瓷构件3之间的间隙漏出到气体容纳部5内。
[0039]在壳体构件2的顶壁部(液体容纳部4侧的壁部)2a设置有向液体容纳部4导入液体17的液体导入口 7。另外，设置有将导入到液体容纳部4内的液体17送出到外部的液体排出口 8。
[0040]在壳体构件2的侧壁2b的下部设置有将气体容纳部5与外部连通的气体导入口
9。在该气体导入口 9中贯穿有配管(气体导入路径)10，经由配管10将气体容纳部5与气体供给部11相连接。在本实施方式中，将至少含氧(02)的气体从气体供给部11供给到气体容纳部5内。在陶瓷构件3上形成有气体通路3a。因此，从气体供给部11导入到气体容纳部5内的气体等经过该气体通路3a而被送出到液体容纳部4内。
[0041]这样，气体供给部11具有以下的功能:以经由气体通路3a向液体容纳部4加压输送气体容纳部5的气体的方式向气体容纳部5供给至少含氧的气体。在本实施方式中,将气体通路3a的孔径设为约I μ m~10 μ m左右，使得液体容纳部4所容纳的液体17不会从气体通路3a漏出到气体容纳部5内。
[0042]另外，等离子体发生装置I具备第一电极12和第二电极13。第一电极12被配置于气体容纳部5。第二电极13被配置成与第一电极12隔开距离，且至少与第一电极12成对的一侧的部分与液体容纳部4中的液体17相接触。具体地说，将环状的第一电极12和环状的第二电极13分别配置在气体容纳部5和液体容纳部4中。
[0043]环状的第一电极12如图1所示那样在陶瓷构件3的气体容纳部5侧的表面3b被配置成中心为气体通路3a。该第一电极12的表面被电介质(未图示)所覆盖。另外，第二电极13以至少与第一电极12成对的一侧的部分与液体容纳部4中的液体17相接触的方式配置于液体容纳部4。该第二电极13也被配置成中心为气体通路3a。即，第一电极12和第二电极13被配置成同心状。[0044]这样，通过将环状的第一电极12配置于气体容纳部5，使得第一电极12与被导入到液体容纳部4的液体17不接触。另一方面，通过将环状的第二电极13配置于液体容纳部4，使得第二电极13 (至少包括与第一电极12成对的一侧的部分)与被导入到液体容纳部4的液体17相接触。
[0045]而且，第一电极12以及第二电极13分别经由引线14与等离子体电源部15(参照图1)电连接，来在该第一电极12与第二电极13之间施加规定的电压。此外，如图2所示，使位于液体17中的第二电极13侧的电位低于位于气体中的第一电极12侧的电位。
[0046]接着，对等离子体发生装置I的动作以及羟基自由基的生成方法进行说明。
[0047]首先，以经由气体通路3a向液体容纳部4加压输送气体容纳部5的气体的方式将含氧的气体供给到气体容纳部5 (供给气体的步骤)。在本实施方式中，如图1所示，将以空气为基础而含氧的气体(流量约0.01L/min~1.0L/min (10cc/min~1000cc/min))从气体供给部11经由配管10送入到气体容纳部5。此时，送入气体的压力约为0.0098MPa~
0.49MPa (0.lkgf/cm2 ~5kgf/cm2)左右。
[0048]这样，气体供给部11具备供给大气中的气体(空气)的功能。此外，气体的供给流量是由设置于气体供给部11的流量控制部来控制的。也可以在气体供给部11设置不仅能够供给大气中的气体还能够供给其它种类的气体(例如，氧浓度不同的气体)的功能。由此，能够从各种气体中选择性地供给一种或者多种气体。
[0049]通过将气体供给到气体容纳部5，气体容纳部5的压力变为大气压加上该压力的约0.1lMPa~0.59MPa(l.1kgf/cm2~6kgf/cm2)左右，成为正压状态。通过使气体容纳部5为正压,形成了从气体容纳部5经过气体通路3a流向液体容纳部4的气流。另外，通过使气体容纳部5为正压，也抑制了液体容纳部4所容纳的液体17从气体通路3a漏出到气体容纳部5内。然后，通过如上所述那样供给含氧的气体，如图3所示，在气体通路3a的液体容纳部4侧(图1的上侧)的开口端3c，含氧的气泡16生长(生长气泡的步骤)。
[0050]接着，由等离子体电源部15对第一电极12和第二电极13施加规定的电压。该电压优选为能够在大气压下辉光放电的电压(功率:约IOff~100W左右)。通过对第一电极12和第二电极13施加规定的电压,在大气压或者大气压以上的压力的气体环境下,在第一电极12与第二电极13之间产生放电。通过该放电，在液体容纳部4的液体17中的气体区域处生成等离子体，基于液体中含有的水、气体中含有的氧来生成臭氧、羟基自由基等(生成羟基自由基的步骤)。此外，关于在大气压下生成等离子体的技术，例如在文献A(岡崎幸子，“大気圧夕'' 口一放电7° 7 ^ i ? O応用”，评论演讲:20th JSPFAnnual Meeting)中有所报告。
[0051]在本实施方式中，使气泡16内的气体(液体容纳部4的液体17中的气液边界面附近的气体)产生电位差来生成等离子体。这样，通过使易于生成羟基自由基的气液边界面的附近(气体通路3a的面向液体17的开口端3c附近)产生电位差，能够生成更多的臭氧、羟基自由基等。即，不只是在气体通路3a的面向液体17的开口端3c附近的气泡16处，在送出到液体容纳部4的气泡16内也能够生成臭氧、羟基自由基等。
[0052]这样生成的臭氧、羟基自由基等随着上述的气流而被送出到液体容纳部4。通过液体容纳部4内的液体17的流动，将含有羟基自由基等的气泡16从陶瓷构件(隔离壁部)3切断来释放到液体17中(气泡释放步骤)。具体地说，在气泡16生长的液体容纳部4中，通过导入液体17来产生液体17的流动(参照图3和图4的箭头18)。如图4所示，当沿箭头18方向流动的液体17撞上生长的气泡16时，液体17的流动作为切断力作用于气泡16，使气泡16从开口端3c释放到液体17中。被释放到液体17中的气泡16是微小气泡，因此不会立即被释放到大气中而会扩散到液体17的各个角落。而且，扩散后的微小气泡16的一部分容易溶解到液体17中。此时，气泡16中含有的臭氧等溶解到液体17中，由此液体的臭氧浓度会直线上升。[0053]另外，根据文献B (高橋正好，水环境Θ改善”，Aqua网络，2004.6)，报告了以下内容:通常含有臭氧、各种自由基的微小气泡16大多带负电。因此，气泡16的其它一部分容易吸附于液体17中含有的有机物、油脂物、染料、蛋白质、细菌等(未图不)。液体17中的有机物等被溶解于液体17中的臭氧或者各种自由基、吸附在有机物等上的气泡16所含有的臭氧或者各种自由基等分解。
[0054]例如，羟基自由基等具有约120kcal/mol左右的比较大的能量。该能量超过了氮原子和氮原子的双键(N=N)、碳原子和碳原子的双键(C=C)或者碳原子和氮原子的双键(C=N)等的键能(~100kcal/mol)。因此，由氮、碳等键合而成的有机物等会被该羟基自由基等容易地切断其键而分解。有助于这种有机物等的分解的臭氧、羟基自由基等没有氯等那样的残留性而会随着时间消失，因此也是照顾到环境的物质。
[0055]这样，在本实施方式所涉及的等离子体发生装置I中，将第一电极12配置于气体容纳部5，并且将第二电极13配置成至少与第一电极12成对的一侧的部分与液体容纳部4中的液体相接触。然后，通过在第一电极12与第二电极13之间产生放电，来在液体容纳部4中的液体17内的气体区域处生成等离子体，基于液体17中含有的水和气体中含有的氧来生成羟基自由基。根据这种结构和方法，能够不那么受液体17的电阻的影响地使第一电极12与第二电极13之间产生放电。因此，能够更可靠地将气体等离子体化，能够更稳定地大量生成臭氧、自由基等。
[0056]另外，根据本实施方式，对液体容纳部4导入液体17，在通过陶瓷构件3划分出的气体容纳部5中配置用于生成等离子体的第一电极12。因此，第一电极12完全不与液体17接触，不会受到液体17的电阻的影响。由此，能够使第一电极12与第二电极13之间稳定地产生放电，能够将被导入到气体容纳部5的含氧的气体可靠地等离子体化，来基于水和氧稳定地生成臭氧或者羟基自由基等。
[0057]另外，在本实施方式中，在气泡16内的气体(液体容纳部4的液体17中的气液边界面附近的气体)中生成臭氧、羟基自由基等。然后，含有臭氧、羟基自由基等的气体作为微小气泡16扩散到液体17中。由此，能够在产生臭氧、各种自由基之后且它们消失之前极短的时间内有效地将该臭氧、各种自由基送入到液体17中。而且，含有臭氧、各种自由基的微小气泡16扩散到液体17中，由此液体17的臭氧浓度提高并且气泡16吸附在液体17中含有的有机物等上。由此，能够利用溶解在液体17中的臭氧等、吸附的气泡16中含有的各种自由基来有效地分解有机物、细菌等。
[0058]另外，通过使用环状的第一电极12和第二电极13作为用于生成等离子体的电极，能够压缩等离子体发生装置I的除了等离子体电源部15、气体供给部11以外的主体部分的大小。其结果是，能够易于组装到现有的装置中，在新装载于装置中的情况下，也能够将其占用空间抑制到最低限度。[0059]另外，如果气体供给部11具有控制气体的种类的气体种类控制部，则能够对臭氧、羟基自由基等的生成量等进行调整。此时，如果气体供给部11具有供给大气中的空气的功能，则能够更简便地供给气体。并且，如果通过流量控制部来控制气体的供给流量，则能够更稳定地生成等离子体。
[0060]《清洗净化装置》
[0061]接着，说明使用了等离子体发生装置I的清洗净化装置的一例。
[0062]如图5所示，清洗净化装置20具备上述的等离子体发生装置I。在容纳陶瓷构件3的壳体构件2的液体导入口 7处连接有用于将完成处理的液体17从被清洗处理对象部(清洗对象物)30导入到液体容纳部4的配管(液体导入路径)21。另外，在液体排出口 8处连接有用于将液体容纳部4内的液体向被清洗处理对象部30输送的配管(液体排出路径)22。
[0063]接着，说明上述的清洗净化装置20的动作。
[0064]首先，如图5所示，将以空气为基础而含氧的规定流量的气体从气体供给部11经由配管(气体导入路径)10送入到气体容纳部5内。然后，气体容纳部5成为正压状态，形成从该气体容纳部5经过气体通路3a流向液体容纳部4的气流。此时，完成处理的液体17从被清洗处理对象部30经过配管(液体导入路径)21和液体导入口 7被导入到液体容纳部4。
[0065]接着，通过对第一电极12和第二电极13施加规定的电压，来在第一电极12与第二电极13之间产生放电。通过该放电，来在液体容纳部4的液体17中的气体区域处生成等离子体，基于液体17中含有的 水、气体中含有的氧生成臭氧、羟基自由基等(参照图3)。然后，所生成的臭氧、各种自由基随着上述的气流被向液体容纳部4送出。此时，生长的气泡如上所述那样被液体17的流动切断，作为微小气泡16从开口端3c释放到液体中。
[0066]被释放到液体中的微小气泡16扩散到液体的各个角落。此时，扩散的微小气泡16的一部分与气泡16中含有的臭氧、羟基自由基等一起容易地溶解到液体17中，臭氧浓度上升。另外，一部分气泡16以含有臭氧、羟基自由基等的状态容易地吸附在液体17中含有的有机物等上。并且，气泡16的一部分吸附微小的有机物。
[0067]这样，液体17中的有机物等被溶解在液体17中的臭氧或者自由基、吸附在有机物等上的气泡16中含有的臭氧或者自由基等有效地分解。有机物等被分解而净化后的液体17从液体排出口 8经过配管(液体排出路径)22返回到被清洗处理对象部30，被再次使用。
[0068]此外，在上述内容中，作为清洗净化装置20，例示了在壳体构件2内清洗净化液体17的使用方式(使用方式A)，除此以外，也能够是将微小气泡扩散的液体17作为清洗液供给到规定的装置的使用方式(使用方式B)。在这种情况下，清洗净化装置20如下那样进行动作。
[0069]首先，含有臭氧、羟基自由基等的微小气泡16扩散到被导入到壳体构件2内的液体17中，微小气泡16中含有的臭氧、自由基被溶解。此时，气泡16的一部分吸附微小的有机物。
[0070]接着，将该液体17作为清洗液供给到被清洗处理对象部30。在被清洗处理对象部30中，有机物等会被溶解在液体17中的臭氧或者自由基、吸附在有机物等上的气泡16中含有的臭氧或者自由基等有效地分解。[0071]此外，在以使用方式A使用清洗净化装置的情况下，能够将该清洗净化装置应用于例如浴盆中蓄积的水、雨水、污水、下水等各种液体的净化。另外，在以使用方式B来使用的情况下，能够作为清洗液使用于在例如洗衣机、洗碗机等各种家电产品、口腔清洗机等健康家电产品、厕所等卫生设备等中使用的水。另外，除了家电产品等以外，能够广泛地应用于例如食品的清洗、工业产品的制造工艺中的清洗等行业。
[0072]这样，通过使清洗净化装置20具备上述的等离子体发生装置1，能够得到能够高效地大量产生自由基的清洗净化装置20。另外，如果在清洗净化装置20中设置对等离子体发生装置I的位置进行调整的位置调整部，则能够使等离子体更稳定。
[0073]接着，参照图6~8来更具体地说明使用了等离子体发生装置I的清洗净化装置40。该清洗净化装置40用于对作为脱毛装置的一种的电动剃刀50的头部51进行清洗，是以上述的使用方式B来使用的清洗净化装置。在这种情况下，电动剃刀50的头部51相当于被清洗处理对象部30。 [0074]如图6~8所示，清洗净化装置40具备:机壳41，其具有用于插入头部51朝下的电动剃刀50的开口 41a;以及托盘42，其容纳通过开口 41a插入的头部51。另外具备:罐43，其存储液体；溢出部44，其与托盘42连通；以及泵45，其将罐43内的液体循环供给到注水部60的液体导入口 7。还具备:滤筒46，其具有对液体进行过滤的过滤器46a ;开闭阀47，其用于对罐43内的气密状态进行控制；以及循环路径，其用于使液体循环。
[0075]该循环路径由配管(液体导入路径)21、配管(液体排出路径)22、路径23 (排出路径)、路径24、路径25以及路径26构成。配管(液体导入路径)21将罐43中存储的液体引导到液体导入口 7。配管(液体排出路径)22将从液体排出口 8排出的液体引导到托盘42。路径23(排出路径)将从托盘42排出的液体引导到滤筒46。路径24将从溢出部44排出的液体引导到滤筒46。路径25将从滤筒46排出的液体引导到泵45。路径26将从泵45送出的液体引导到罐43。罐43经由气密路径27与开闭阀47连接。
[0076]机壳41在其后部具有与电动剃刀50的把持部52抵接的支架部41b，与托盘42一起保持从开口 41a插入的电动剃刀50。如图6所示,在支架部41b的前表面设置有触点构件41c，该触点构件41c用于检测已在清洗净化装置40中安装了电动剃刀50。触点构件41c根据与设置于把持部52背面的端子52a的接触来检测电动剃刀50的安装，除了这种检测功能以外，同时还具有将各种控制信号、驱动电力输出到电动剃刀50的功能。
[0077]在机壳41的前部上方容纳有风扇48，该风扇48用于在清洗后使头部51干燥。在机壳41前表面设置有风扇48用的通气窗41d、用于执行清洗动作的动作按钮41e、显不动作状态的灯41f等。在机壳41的后表面侧具有连接口 41g、41h、41i，该连接口 41g、41h、41i为装配罐43的装配部，用于与罐43的各口 43a、43b、43c相连接。连接口 41g与配管(液体导入路径)21连接，连接口 41h与路径26连接，连接口 41i与气密路径27连接。
[0078]托盘42被设为沿着头部51的形状的凹形状，在底壁部的背面侧设置有等离子体发生装置I。也可以在清洗净化装置40中设置对等离子体发生装置I的位置进行调整的位置调整部。例如，也可以在底壁部的背面侧设置臂部，并且通过该臂部将等离子体发生装置I安装为可摆动，使得能够通过位置调整部将等离子体发生装置I调整为水平配置。这样，能够使等离子体发生装置I始终水平配置，能够更稳定地生成等离子体。
[0079]该等离子体发生装置I具有与配管(液体导入路径)21连接的液体导入口 7以及与配管(液体排出路径)22连接的液体排出口 8。在托盘42的底壁部设置有与配管(液体排出路径)22连接的供给口 41 j，并且设置有与路径23连接的排出口 41k。另外，在托盘42的底部壁背面侧设置有加热器49 (参照图8)。该加热器49与风扇48联动地进行头部51的干燥。而且,在托盘42的前方设置有溢出部44,在本实施方式中，托盘42与溢出部44形成为一体。溢出部44的入口与托盘42连接，出口与路径24连接。路径24从溢出部44的出口经由设置在托盘42后部的中继口 42a而到达滤筒46。
[0080]罐43在前表面具有喷出口 43a和流入口 43b以及用于开放气密状态的通气口43c，通过通气口 43c的开闭来控制液体从喷出口 43a的喷出。罐43装卸自如地设置在机壳41后表面侧，在安装于机壳41的状态下，喷出口 43a与连接口 41g相连接，通过配管(液体导入路径)21与等离子体发生装置I的液体导入口 7连接。另外，流入口 43b与连接口41h相连接，通过路径26与泵45的送出口 45a连接。并且，通气口 43c与连接口 41i相连接，通过气密路径27与开闭阀47连接。 [0081]滤筒46是在内部容纳有过滤器46a的大致箱状体，装卸自如地设置在机壳41的下部后方。该滤筒46在上部具有流入口 46b，在前部具有流出口 46c。在安装于机壳41的状态下，流入口 46b通过路径23 (排出通路)与排出口 41k连接，并且通过路径24与溢出部44的出口连接。另外，流出口 46c通过路径25与泵45的吸入口 45b连接。
[0082]通过设为所述结构，使含有臭氧、羟基自由基等的微小气泡16扩散到从罐43导入到等离子体发生装置I的液体中而生成清洗液。所生成的清洗液会从供给口 41 j供给到托盘42内，被供给到作为被清洗处理对象部30的头部51。由此，利用溶解在液体(清洗液)中的臭氧或者自由基、气泡16中含有的臭氧或者自由基等，能够使附着在头部51上的有机物等有效地分解。
[0083]在此，在本实施方式中，检测在使用等离子体发生装置I时所产生的非正常事件，基于其检测结果来控制等离子体放电。具体地说，如图7所示，清洗净化装置40的主体具备开闭式的盖60。盖60只要能够在安装了电动剃刀50的状态下闭合即可，其构造并没有特别限定。而且，仅在盖60闭合时产生等离子体放电。能够根据构件60a与构件60b是否相接触来判断盖60闭合的情况。如果这样，则即使在使用者误触到以机械方式检测已安装了电动剃刀50的触点构件41c的情况下，也会由于盖60打开而不产生等离子体放电。
[0084]此外，在以上述的使用方式A使用清洗净化装置的情况下，也可以如图9所示那样，开放等离子体发生装置I的壳体构件2的顶壁部，使头部51浸入到在壳体构件2内清洗净化后的液体17中。这样也能够与使用方式B的情况同样地有效分解附着在头部51上的有机物等。另外，在使用者误触到触点构件41c的情况下不会产生等离子体放电这一点也相同。
[0085]如以上所说明的那样，在本实施方式所涉及的清洗净化装置40中，检测在使用等离子体发生装置I时所产生的非正常事件。然后，基于其检测结果来控制等离子体放电，因此能够避免非正常事件。
[0086]具体地说，清洗净化装置40的主体具备开闭式的盖60，仅在盖60闭合时产生等离子体放电。由此，能够避免在使用者误触到触点构件41c的情况下产生等离子体放电。
[0087](第二实施方式)
[0088]下面，仅说明第二实施方式与上述第一实施方式不同的点。[0089]图10是第二实施方式所涉及的清洗净化装置40的说明图。该清洗净化装置40如图10的(a)所示那样，具备对电动剃刀50的重量进行检测的力传感器等重量检测部61，仅在检测到电动剃刀50的重量时产生等离子体放电。当然，也可以仅在持续规定时间检测到电动剃刀50的重量时产生等离子体放电。如果这样，则即使在使用者的指误触到等离子体放电部及其环境中的情况下也不会产生等离子体放电。
[0090]如以上所说明的那样，在本实施方式所涉及的清洗净化装置40中，具备对电动剃刀50的重量进行检测的重量检测部61，仅在检测到电动剃刀50的重量时产生等离子体放电。由此，能够避免在使用者的指误触到等离子体放电部及其环境中的情况下产生等离子体放电。
[0091](第三实施方式)
[0092]下面，仅说明第三实施方式与上述第一实施方式~第二实施方式不同的点。
[0093]图11是第三实施方式所涉及的清洗净化装置40的说明图。该清洗净化装置40`如图11所示那样具备对电动剃刀50的驱动音进行检测的收音部62，仅在检测到电动剃刀50的驱动音时产生等离子体放电。即，电动剃刀50当被安装到规定的位置时被控制为启动(ON)。由此，在检测到电动剃刀50的驱动频率(例如233Hz)的情况下，能够判断为电动剃刀50被安装到了规定的位置。
[0094]在机壳41的内部具备收音部62。即，在从机壳41的外部对电动剃刀50进行驱动的情况下，其驱动音的波形由于隔着机壳41而不会被检测到规定的驱动频率(例如233Hz)。
[0095]如以上所说明的那样，在本实施方式所涉及的清洗净化装置40中，具备对电动剃刀50的驱动音进行检测的收音部62，仅在检测到电动剃刀50的驱动音时产生等离子体放电。由此，即使在使用者的指误触到等离子体放电部及其环境中的情况下，也能够避免产生等离子体放电。
[0096](第四实施方式)
[0097]下面，仅说明第四实施方式与上述第一实施方式~第三实施方式不同的点。
[0098]图12是第四实施方式所涉及的清洗净化装置40的说明图。该清洗净化装置40如图12的(a)所示那样具备对是否存在清洗水进行检测的清洗水检测部63，仅在液体容纳部4中存在清洗水时产生等离子体放电。作为清洗水检测部63，能够采用浮子构造的机械开关。即，如图12的(b)所示为以下的构造:浮子63b与液面相应地上下，当达到规定的水位时开关63a变为接通(ON)。
[0099]如以上所说明的那样，在本实施方式所涉及的清洗净化装置40中，具备对是否存在清洗水进行检测的清洗水检测部63，仅在液体容纳部4中存在清洗水时产生等离子体放电。由此，能够避免在液体容纳部4中不存在清洗水时产生等离子体放电。
[0100](第五实施方式)
[0101]下面，仅说明第五实施方式与上述第一实施方式~第四实施方式不同的点。
[0102]图13是第五实施方式所涉及的清洗净化装置40的说明图。该清洗净化装置40如图13所示那样在控制电路64中具备对发热(温度)进行检测的热敏电阻等发热检测部65，当检测到异常发热时强制停止等离子体放电。具备发热检测部65的位置并不限定于控制电路64，只要在等离子体放电部附近即可。[0103]如以上所说明的那样，在本实施方式所涉及的清洗净化装置40中，具备对发热进行检测的发热检测部65，当检测到异常发热时强制停止等离子体放电。由此，能够将等离子体放电部附近的温度保持为规定的温度以下。
[0104](第六实施方式)
[0105]下面，仅说明第六实施方式与上述第一实施方式~第五实施方式不同的点。
[0106]图14是第六实施方式所涉及的清洗净化装置40的说明图。该清洗净化装置40具备对漏液进行检测的漏液检测部66，当检测到漏液时强制停止等离子体放电。例如，如果如图14所示那样在托盘42的外部也配置位于托盘42内的水位检测电极，则能够检测托盘42向外部的漏液。优选的是，将这种漏液检测部66配置在控制电路64等电路基板附近。
[0107]如以上所说明的那样，在本实施方式所涉及的清洗净化装置40中，具备对漏液进行检测的漏液检测部66，当检测到漏液时强制停止等离子体放电。由此，能够避免控制电路64等电路基板浸水。
[0108](第七实施方式)
[0109]下面 ，仅说明第七实施方式与上述第一实施方式~第六实施方式不同的点。
[0110]图15是第七实施方式所涉及的清洗净化装置40的说明图。该清洗净化装置40具备对漏电进行检测的漏电检测部，当检测到漏电时强制停止等离子体放电。漏电检测部的具体结构并没有特别限定，但是优选的是如图15所示那样，根据对清洗水的水位进行检测的水位检测部67的电阻值来检测是否存在漏电。水位检测部67是现有部件，因此不需要追加部件。
[0111]如以上所说明的那样，在本实施方式所涉及的清洗净化装置40中，具备对漏电进行检测的漏电检测部，当检测到漏电时强制停止等离子体放电。由此，能够仅在不存在漏电时产生等离子体放电。
[0112](第八实施方式)
[0113]下面，仅说明第八实施方式与上述第一实施方式~第七实施方式不同的点。
[0114]图16是第八实施方式所涉及的清洗净化装置40的说明图。该清洗净化装置40具备对清洗水的电阻值进行检测的电阻值检测部，如果其电阻值是水以外的液体的电阻值则强制停止等离子体放电。如果这样，则在使用者误投入了乙醇等的情况下，能够强制停止等离子体放电。电阻值检测部的具体结构并没有特别限定，但是优选的是如图16所示那样，由对清洗水的水位进行检测的水位检测部67来检测清洗水的电阻值。水位检测部67是现有部件，因此不需要追加部件。此外，检测清洗水的电阻值的时机并没有特别限定。既可以始终检测电阻值，也可以仅在开始使用清洗净化装置40时检测电阻值。
[0115]如以上所说明的那样，在本实施方式所涉及的清洗净化装置40中，具备对清洗水的电阻值进行检测的电阻值检测部，如果其电阻值为水以外的液体的电阻值则强制停止等离子体放电。由此，在使用者误投入了乙醇等的情况下，能够强制停止等离子体放电。
[0116]以上，对本发明的优选的实施方式进行了说明，但本发明并不限定于上述实施方式，可以进行各种各样的变形。例如，也可以将第一实施方式~第八实施方式中的任意的实施方式进行组合。例如，在上述实施方式中，作为形成有气体通路的隔离壁部，例示了陶瓷构件，但隔离壁部的材料并不限于陶瓷构件。例如，也能够使用以下构件:使用将气体和液体隔离的如玻璃板等的适当构件并通过对该构件实施光刻和蚀刻而形成有细孔径约为I μ m~10 μ m左右的微小孔。另外，也可以在隔离壁部设置多个气体通路。另外，液体容纳部、气体容纳部、其他细节的规格(形状、大小、布局等)也能够适当地改变。
[0117]在此引用日本特愿2011-156443号(申请日:2011年7月15日)的全部内容。
[0118]以上，按实施例说明了本发明的内容，但是本发明并不限定于这些记载，能够进行各种变形和改良，这对本领域技术人员来说是显而易见的。
[0119]产业h的可利用件
[0120]本发明能够应用于需要避免使用者的误使用、伴随装置的误动作而产生的非正常事件的等离子体发生装置以及使用了该等离子体发生装置的清洗净化装置。
[0121]附图标记说明[0122]1:等离子体发生装置；3:陶瓷构件(隔离壁部);3a:气体通路；4:液体容纳部；5:气体容纳部；11:气体供给部；12:第一电极；13:第二电极；15:等离子体电源部；20:清洗净化装置；40:清洗净化装置；60:开闭式的盖；61:重量检测部；62:收音部；63:清洗水检测部；64:控制电路；65:发热检测部；66:漏液检测部；67:水位检测部(电阻值检测部)。
【权利要求】
1.一种清洗净化装置，使用了等离子体发生装置，该等离子体发生装置具备:液体容纳部，其容纳至少含水的液体；气体容纳部，其容纳气体；隔离壁部，其将上述液体容纳部与上述气体容纳部隔开，形成有允许上述气体容纳部中的上述气体的流通而将上述气体引导到上述液体容纳部的气体通路；第一电极，其被配置于上述气体容纳部；第二电极，其被配置成与上述第一电极隔开距离，且至少与上述第一电极成对一侧的部分与上述液体容纳部中的上述液体相接触；气体供给部,其以经由上述气体通路向上述液体容纳部加压输送上述气体容纳部的上述气体的方式，来向上述气体容纳部供给至少含氧的气体；以及等离子体电源部，其在上述第一电极与上述第二电极之间供给规定的电压来使上述第一电极与上述第二电极之间产生放电，由此在上述液体容纳部中的上述液体内将导入到上述气体容纳部的上述气体等离子体化，该清洗净化装置的特征在于， 检测在使用上述等离子体发生装置时所产生的非正常事件，基于其检测结果来控制等离子体放电。
2.根据权利要求1所述的清洗净化装置，其特征在于， 上述清洗净化装置的主体具备开闭式的盖，仅在上述盖闭合时产生等离子体放电。
3.根据权利要求1所述的清洗净化装置，其特征在于， 具备检测电动剃刀的重量的重量检测部，仅在检测到上述电动剃刀的重量时产生等离子体放电。
4.根据权利要求1所述的清洗净化装置，其特征在于， 具备检测电动剃刀的驱动音的收音部，仅在检测到上述电动剃刀的驱动音时产生等离子体放电。
5.根据权利要求1所述的 清洗净化装置，其特征在于， 具备检测是否存在清洗水的清洗水检测部，仅在上述液体容纳部中存在清洗水时产生等离子体放电。
6.根据权利要求1所述的清洗净化装置，其特征在于， 具备检测发热的发热检测部，当检测到异常发热时强制停止等离子体放电。
7.根据权利要求1所述的清洗净化装置，其特征在于， 具备检测漏液的漏液检测部，当检测到漏液时强制停止等离子体放电。
8.根据权利要求1所述的清洗净化装置，其特征在于， 具备检测漏电的漏电检测部，当检测到漏电时强制停止等离子体放电。
9.根据权利要求1所述的清洗净化装置，其特征在于， 具备检测清洗水的电阻值的电阻值检测部，如果该电阻值为水以外的液体的电阻值则强制停止等离子体放电。
10.一种等离子体发生装置，使用于根据权利要求1~9中的任一项所述的清洗净化装置。
【文档编号】A61L2/18GK103648986SQ201280033262
【公开日】2014年3月19日 申请日期:2012年6月6日 优先权日:2011年7月15日
【发明者】成田宪二, 实松涉 申请人:松下电器产业株式会社