1.经X线照射处理的低抗原的角膜基质透镜及其制备方法，其特征在于包括以下步骤：
1）新鲜板层角膜材料的获取，利用飞秒激光技术从供体取出角膜基质透镜材料；
2）将取出的角膜基质透镜材料在设定温度的湿房保存；
3）快速取出角膜基质透镜进行X线照射，照射剂量为100Gy；
4）将X线照射后的角膜基质透镜保存在无菌甘油中。
2.根据权利要求1所述的经X线照射处理的低抗原的角膜基质透镜及其制备方法，其特征在于：所述角膜基质透镜材料的厚度为150~320μm。
3.根据权利要求1所述的经X线照射处理的低抗原的角膜基质透镜及其制备方法，其特征在于：所述步骤2）中的湿房温度为4℃。
4.根据权利要求1所述的经X线照射处理的低抗原的角膜基质透镜及其制备方法，其特征在于：所述步骤3）中的X线照射设备为RS2000生物学X线辐照仪，辐照参数为160kV、25mA、0.3mm铜过滤片。
5.根据权利要求1所述的经X线照射处理的低抗原的角膜基质透镜及其制备方法，其特征在于：所述步骤4）中角膜基质透镜在无菌甘油保存温度为-20℃。