专利名称：利用纳米气泡水的浸渍进行的设备清洗方法
技术领域：
本发明涉及在向瓶、罐等容器中填充饮料等的填充设备或填充液的液体处理设备或将这些设备连接的配管设备等设备中，在生产结束后或生产开始前对该设备进行固定清洗等清洗时的设备清洗方法。本申请基于2010年8月30日向日本提出申请的日本特愿2010-192619号而主张优先权，并将其内容援引于此。
背景技术：
对于向瓶、罐等容器填充饮料等的填充设备或填充液的液体处理设备或将这些设
备连接的配管设备等设备的液体通路，在生产结束后或生产开始前进行固定清洗时，通常进行热水的循环或一次洗涤、酸、苛性等药剂的循环，从而进行清洗。近年来，可知当清洗用的液体中包含直径为I微米(μπι)以下的小气泡(纳米气泡)时，存在提高清洗效果等的效果，进行了与纳米气泡的生成相关的研究(专利文献I)。在先技术文献专利文献专利文献I日本特开2006-289183号公报(图I 图10)
发明内容
关于向瓶、罐等容器填充饮料等的填充设备或填充液的液体处理设备或将这些设备连接的配管设备等设备的以往的固定清洗方法，基于图5及图6进行说明。图5是表示了以往的设备清洗方法的概略流程图。图6是说明图5中的配管连接部的清洗后的污垢的图。在图中，在液体处理设备3、填充设备4及配管设备4ρ的固定清洗中，首先，在填充生产结束后，基于来自控制装置17的控制指令，进行规定时间的热水循环或热水洗涤工序，该热水循环是热水从热水清洗液罐7借助泵Ρ7经由切换阀V7、加热装置8而如图示箭头那样向所述液体处理设备3、配管设备4ρ及填充设备4输送，此外借助泵Ρ4经由切换阀VlO向热水清洗液罐7返回这样的热水循环，该热水洗涤工序是将热水经由切换阀V10、切换阀V9、切换阀V8而从切换阀Vll向箭头E的方向的系统外排出的热水洗涤工序。接着，基于来自控制装置17的控制指令，进行规定时间的酸清洗液循环，该酸清洗液循环是酸清洗液从酸清洗液罐6借助泵Ρ7经由切换阀V6、切换阀V7、加热装置8而如图示箭头那样向所述液体处理设备3、配管设备4ρ及填充设备4输送，进而借助泵Ρ4经由切换阀V10、切换阀V9向酸清洗液罐6返回这样的酸清洗液循环。接着，基于来自控制装置17的控制指令，进行规定时间的所述说明的热水循环或热水洗涤工序。接着，基于来自控制装置17的控制指令，在进行了规定时间的苛性清洗液循环之后，基于来自控制装置17的控制指令进行规定时间的所述说明的热水循环或热水洗涤工序，该苛性清洗液循环是苛性清洗液从苛性清洗液罐5借助泵Ρ7经由切换阀V5、切换阀V7、加热装置8而如图示箭头那样向所述液体处理设备3、配管设备4p及填充设备4输送，进而借助泵P4经由切换阀V10、切换阀V9、切换阀V8向苛性清洗液罐5返回这样的苛性清洗液循环。需要说明的是，在所述液体处理设备3、填充设备4及将这些设备连接的配管设备4p中，将配管31与配管32连接的各个金属环31h和金属环32h经由O形环33而由金属环接头34液密地连接。然而，在图5及图6所示的以往的固定清洗中，在配管设备4p的所述连接部中，在金属环31h与金属环32h之间存在间隙35，该间隙35的清洗可能未充分进行。尤其是所述间隙35的内部的面向O形环33的部位35p的清洗不充分，可能成为在食品卫生上不优选的状态。需要说明的是，在所述说明中，说明了配管设备4p的连接部的间隙的清洗，但对于液体处理设备或填充设备的液体通路的连接部等的间隙的清洗也同样，省略详细的说明。另外，根据所述专利文献1，将含有I微米(ym)以上的尺寸的气泡的液体向积存槽供给，并对该液体施加由超声波振动装置产生的超声波振动等，由此生成纳米气泡。 然而，在所述专利文献I的技术中，虽然公开了关于纳米气泡生成的技术，但并未公开填充线路的填充设备、液体处理设备或将这些设备连接的配管设备等的利用了含有纳米气泡的液体的设备清洗的技术。本发明的目的是提供一种设备清洗方法，在对于向瓶、罐等容器填充饮料等的填充设备、填充液的液体处理设备、或将所述设备连接的配管设备等设备进行固定清洗的清洗方法中，大幅提高与填充液相接的部位的清洗度，而且能够缩短清洗时间，能够减少清洗液等实用的使用量。针对所述课题，本发明通过以下的手段来解决。本发明的形态即设备清洗方法中，对于向瓶、罐等容器填充饮料等的填充设备、填充液的液体处理设备、或将所述填充设备及所述液体处理设备连接的配管设备的液体通路进行固定清洗，其中，具备液体输送工序，向所述液体通路输送含有纳米气泡的液体；及静置浸溃工序，在所述纳米气泡液体输送工序后，在所述液体通路内由所述液体充满的状态下，进行规定时间静置浸溃。通过具有上述结构，附着在所述液体通路上的污垢由于纳米气泡产生的吸附、脱离的作用，能够以高清洗度进行清洗并能够缩短固定清洗时间。而且，在不使用药剂等时，纳米气泡由空气、氮气那样的微小气泡构成，因此不需要使用了药剂时的中和等的后处理。在上述形态的设备清洗方法中，所述液体也可以是水。通过具有上述结构，附着在所述液体通路上的污垢由于纳米气泡产生的吸附、脱离的作用，能够以高清洗度进行清洗并能够缩短固定清洗时间。而且，在不使用药剂等时，纳米气泡由空气、氮气那样的微小气泡构成，因此不需要使用了药剂时的中和等的后处理。另外，上述形态的设备清洗方法中，也可以在所述静置浸溃工序后，还具备利用药剂清洗所述液体通路的清洗工序。通过具有上述结构，附着在所述液体通路上的污垢由于纳米气泡产生的吸附、脱离的作用，能够以高清洗度进行清洗并且能够缩短固定清洗时间，而且，能够减少固定清洗时的药剂等的使用量。另外，在上述形态的设备清洗方法中，所述静置浸溃工序中的静置时间也可以处于从I分钟到30分钟的范围内。
通过具有上述结构，能够有效地进行设备清洗。另外，在上述形态的设备清洗方法中，构成所述纳米气泡的气体也可以是臭氧气体。通过具有上述结构，会附加杀菌作用、除臭作用。另外，在上述形态的设备清洗方法中，也可以在所述静置静置工序中，对含有所述纳米气泡的液体或所述纳米气泡水施加超声波振动。通过具有上述结构，能够以高清洗度可靠地进行清洗。发明效果本发明的形态的设备清洗方法是对于向瓶、罐等容器填充饮料等的填充设备、填 充液的液体处理设备、或将所述设备连接的配管设备等设备的液体通路进行固定清洗的清洗方法，通过向所述设备输送含有纳米气泡的液体并静置浸溃规定时间，而且，使含有所述纳米气泡的液体为水(纳米气泡水)，而且，将所述设备的含有所述纳米气泡的液体或所述纳米气泡水的静置浸溃工序作为所述设备的基于药剂的清洗工序的前工序进行，由此附着在所述液体通路上的污垢受到纳米气泡产生的吸附、脱离的作用，从而具有如下效果能够以高清洗度进行清洗并且能够缩短固定清洗时间，而且，能够减少固定清洗时的药剂等的使用量。另外，在未使用药剂等的设备清洗时，由于纳米气泡由空气、氮气那样的微小气泡构成，因此具有不需要使用药剂时的中和等的后处理这样的效果。另外，在本发明的形态的设备清洗方法中，通过使含有所述纳米气泡的液体或所述纳米气泡水的静置浸溃工序的规定时间为I分钟到最长30分钟，而具有能够有效地进行设备清洗这样的效果。另外，在本发明的形态的设备清洗方法中，通过使构成所述纳米气泡的气体为臭氧气体，而具有附加了杀菌作用、除臭作用这样的效果。另外，在本发明的形态的设备清洗方法中，在所述浸溃静置工序中，通过对含有所述纳米气泡的液体或所述纳米气泡水施加超声波振动，而具有能够以高清洗度可靠地进行清洗这样的效果。
图I是表示本发明的第一实施方式的设备清洗方法的概略流程图，是仅表示主要部分的图。图2是表示用于说明本发明的由纳米气泡水的浸溃产生的清洗作用的配管连接部的间隙内部的污垢部位的图，是相当于图6的局部放大图的图，(a)是表示清洗前的设备表面污浊的状态的图，(b)是表示由于纳米气泡水的浸溃而纳米气泡被污垢吸附的状态的图，(c)是表示通过纳米气泡使污垢从所述污垢部位自设备脱离的状态的图。图3是说明本发明的由纳米气泡水的浸溃产生的固定清洗的时间缩短的图，(a)表示以往的固定清洗工序及清洗时间，(b)表示本发明的固定清洗工序及清洗时间。图4是采用了本发明的第二实施方式的设备清洗方法的设备的局部放大图。图5是表示了以往的设备清洗方法的概略流程图，是仅表示主要部分的的图。图6是说明图5的配管连接部的设备清洗后的污垢的图。
具体实施例方式以下，参照附图，详细说明本发明的实施方式。需要说明的是，并非通过本实施方式来限定本发明。而且，在下述实施方式的结构要素中包括本领域技术人员能够容易想到或实质上相同的要素。(发明的第一实施方式)基于图I，说明本发明的第一实施方式。图I是表示了本发明的第一实施方式的设备清洗方法的概略流程图，是仅表示主要部分的图。图2是表示了用于说明本发明的由纳米气泡水的浸溃产生的清洗作用的配管连接部的间隙内部的污垢部位的图，是相当于图6的局部放大图的图，(a)是表示清洗前的设 备表面污浊的状态的图，(b)是表示由于纳米气泡水的浸溃而纳米气泡被污垢吸附的状态的图，(C)是表示通过纳米气泡而使污垢从所述污垢部位自设备脱离的状态的图。在图I及图2中，对于与图5及图6相同的部位标注相同记号，省略重复的说明。通过纳米气泡水生成装置I生成的纳米气泡水由泵Pl向纳米气泡水罐2输送而积存。关于所述纳米气泡水生成装置1，由于在日本专利申请公开号2006-289183号等中有介绍，因此在此省略详细的说明。液体处理设备3、填充设备4及配管设备4p的固定清洗是在填充生产结束后，基于来自控制装置15的控制指令，进行规定时间的热水循环或热水洗涤工序，该热水循环是热水从热水清洗液罐7借助泵P7经由切换阀V7、切换阀V2、加热装置8如图示箭头那样向所述液体处理设备3、配管设备4p及填充设备4输送，进而借助泵P4经由切换阀VlO向热水清洗液罐7返回这样的循环，该热水洗涤工序是将热水经由切换阀V10、切换阀V9、切换阀V8而从切换阀Vll向箭头E的方向的系统外排出的工序。然后，基于来自控制装置15的控制指令，从所述纳米气泡水罐2借助泵P7经由切换阀V2、加热装置8如图示箭头那样向所述液体处理设备3、配管设备4p及填充设备4输送，将所述液体处理设备3、配管设备4p及填充设备4浸溃在纳米气泡水中。在所述液体处理设备3、配管设备4p及填充设备4的液体通路中浸溃规定时间(时间因产品而不同)的所述纳米气泡水基于来自控制装置15的控制指令，借助泵P4经由切换阀V10、切换阀V9、切换阀V8而从切换阀Vll向箭头E的方向的系统外排出。需要说明的是，在所述液体处理设备3、配管设备4p及填充设备4的液体通路中浸溃了规定时间的所述纳米气泡水根据使用目的，有时借助泵P4经由切换阀V10、切换阀V9、切换阀V8、切换阀Vll如图示双点划线所示那样向所述纳米气泡水罐2返回，但省略详细的说明。接下来，在所述液体处理设备3、配管设备4p及填充设备4中，基于来自控制装置15的控制指令，进行规定时间的酸清洗液循环，该酸清洗液循环是酸清洗液从酸清洗液罐6借助泵P7经由切换阀V6、切换阀V7、切换阀V2、加热装置8而如图示箭头那样向所述液体处理设备3、配管设备4p及填充设备4输送，进而借助泵P4经由切换阀V10、切换阀V9向酸清洗液罐6返回的酸清洗液循环。接着，进行规定时间的所述说明的热水循环或热水洗涤工序，接着，基于来自控制装置15的控制指令，进行规定时间的苛性清洗液循环，该苛性清洗液循环是苛性清洗液从苛性清洗液罐5借助泵P7经由切换阀V5、切换阀V7、切换阀V2、加热装置8而如图示箭头那样向所述液体处理设备3、配管设备4p及填充设备4输送，进而借助泵P4经由切换阀V10、切换阀V9、切换阀V8向苛性清洗液罐5返回这样的苛性清洗液循环。然后，基于来自控制装置15的控制指令，进行规定时间的所述说明的热水循环或热水洗涤工序。需要说明的是，所述加热装置8基于来自控制装置15的指令，根据需要而将清洗液等加热至规定温度，但省略详细的说明。接下来，说明本发明的第一实施方式的设备清洗方法的作用。首先，基于图2，说明纳米气泡水的浸溃产生的清洗作用。在10分钟的纳米气泡水的浸溃中，烤附在设备的表面上的图2 (a)所示的咖啡渣 等的污垢D如图2 (b)所示借助纳米气泡的吸附作用而吸附于纳米气泡B，污垢D如图2(c)所示逐渐从设备的表面与纳米气泡B —起脱离，在脱离后借助所述酸清洗液的循环清洗而被冲洗。需要说明的是，在所述说明中说明了固定清洗的药剂使用酸、苛性的情况，但有时存在仅使用酸、苛性的一方的情况，另外，也有时存在不使用酸、苛性这双方的情况，此外，也有时使用与酸、苛性不同的其他的药剂的情况，根据进行固定清洗的对象的污垢等而进行选择，省略详细的说明。接着，基于图3，说明以往的设备清洗方法的情况和附加了纳米气泡水的浸溃的本发明的设备清洗的情况的实验结果。图3是说明本发明的纳米气泡水的浸溃产生的固定清洗的时间缩短的图，Ca)表示以往的固定清洗工序及清洗时间，(b)表示本发明的固定清洗工序及清洗时间。根据图3(a)的以往的固定清洗的设备清洗方法，在咖啡饮料填充后的设备上烤附的咖啡渣通过使热水清洗、酸清洗、热水清洗、苛性清洗、热水清洗的时间分别为10分钟、10分钟、10分钟、15分钟、10分钟而被清洗，总计清洗时间为55分钟。另一方面，在图3 (b)的本发明的固定清洗的设备清洗方法中，在咖啡饮料填充后的设备上烤附的咖啡渣通过使热水清洗、纳米气泡水的浸溃、酸清洗、热水清洗、苛性清洗、热水清洗的时间分别为I分钟、10分钟、3分钟、10分钟、4. 5分钟、10分钟而被清洗，总计清洗时间为38. 5分钟。如上述说明那样，所述液体处理设备3、填充设备4及配管设备4p的固定清洗通过纳米气泡水的浸溃，清洗时间与以往的固定清洗的设备清洗方法对比，缩短了 16. 5分钟的时间，即，能够缩短30%的时间，由此也能够减少酸清洗液、苛性清洗液及热水的消耗量。需要说明的是，在以往的固定清洗的设备清洗方法中，在使热水清洗、酸清洗、热水清洗、苛性清洗、热水清洗的时间分别为I分钟、3分钟、10分钟、4. 5分钟、10分钟时，所述咖啡渣的污垢会残留，未成为适当的清洗。另外，在所述说明中，说明了使用空气的气泡的直径为1μ以下的纳米气泡的情况，但根据食品饮料的种类的不同而液体通路的污垢有时不严重，这种情况下，也可以使用气泡的直径为1(Γ几十μ的微型气泡，其作用与使用纳米气泡的情况相同，因此省略详细的说明。
此外，所述纳米气泡或所述微型气泡的气体除了空气之外，还有氮、臭氧等，但当使用臭氧气体时，附加由臭氧产生的杀菌效果及除臭效果，食品饮料的填充液线路的固定清洗变得有效。(发明的第二实施方式)接下来，基于图4，说明本发明的第二实施方式。图4是采取了本发明的第二实施方式的设备清洗方法的设备的局部放大图。在图中，与第一实施方式相同的要素标注相同的记号或省略图示，省略重复的说明。在配管设备4p的中途设置具有未图示的电源端子的超声波振荡装置40，该超声波振荡装置40成为朝向液体Q将振动面41经由填料42通过双重的紧固用具43安装的结构，由控制装置16进行控制。接下来，说明本发明的第二实施方式的设备清洗方法的作用。 在所述液体处理设备3、填充设备4及配管设备4p中静置浸溃所述纳米气泡水期间，当根据来自控制装置16的指令而超声波振荡装置40进行规定时间超声波振荡从而施加超声波振动时，会促进图2 (b)及(c)所示的污垢D的基于纳米气泡B的脱离，而且，促进脱离后的污垢D的移动，从而具有缩短设备清洗的时间并提高清洗度的效果。工业实用性在对于向瓶、罐等容器填充饮料等的填充设备、填充液的液体处理设备、或将所述设备连接的配管设备等设备进行固定清洗的清洗方法中，能够大幅提高与填充液相接的部位的清洗度，而且能够缩短清洗时间，能够减少清洗液等的实用的使用量。标号说明I纳米气泡水生成装置2纳米气泡水罐3液体处理设备4填充设备4p配管设备15、16控制装置40超声波振荡装置B纳米气泡D 污垢
权利要求
1.一种设备清洗方法，对于向瓶、罐等容器填充饮料等的填充设备、填充液的液体处理设备、或将所述填充设备及所述液体处理设备连接的配管设备的液体通路进行固定清洗，其中， 所述设备清洗方法具备液体输送工序，向所述液体通路输送含有纳米气泡的液体；及静置浸溃工序，在所述纳米气泡液体输送工序后，在所述液体通路内由所述液体充满的状态下，进行规定时间静置浸溃。
2.根据权利要求I所述的设备清洗方法，其中， 所述液体是水。
3.根据权利要求I或2所述的设备清洗方法，其中， 在所述静置浸溃工序后，还具备利用药剂清洗所述液体通路的清洗工序。
4.根据权利要求I或2所述的设备清洗方法，其中， 所述静置浸溃工序中的静置时间处于从I分钟到30分钟的范围内。
5.根据权利要求3所述的设备清洗方法，其中， 所述静置浸溃工序中的静置时间处于从I分钟到30分钟的范围内。
6.根据权利要求I或2所述的设备清洗方法，其中， 构成所述纳米气泡的气体是臭氧气体。
7.根据权利要求3所述的设备清洗方法，其中， 构成所述纳米气泡的气体是臭氧气体。
8.根据权利要求4所述的设备清洗方法，其中， 构成所述纳米气泡的气体是臭氧气体。
9.根据权利要求5所述的设备清洗方法，其中， 构成所述纳米气泡的气体是臭氧气体。
10.根据权利要求I或2所述的设备清洗方法，其中， 在所述静置静置工序中，向含有所述纳米气泡的液体或所述纳米气泡水施加超声波振动。
全文摘要
提供一种设备清洗方法，在对于向瓶、罐等容器填充饮料等的填充设备、填充液的液体处理设备、或将所述设备连接的配管设备等设备进行固定清洗的清洗方法中，大幅提高与填充液相接的部位的清洗度，而且能够缩短清洗时间，能够减少清洗液等的实用的使用量。在对于向瓶、罐等容器填充饮料等的填充设备(4)、填充液的液体处理设备(3)、或将所述设备连接的配管设备(4p)等设备的液体通路进行固定清洗的清洗方法中，向所述设备输送含有纳米气泡的液体并静置浸渍规定时间。
文档编号B08B9/02GK102821879SQ20118001619
公开日2012年12月12日 申请日期2011年8月18日 优先权日2010年8月30日
发明者吉泽稔, 伊藤靖史, 青木浩一, 德永慎一 申请人:三菱重工食品包装机械株式会社, 吉泽稔