清洁装置制造方法
【专利摘要】本实用新型提出一种清洁装置，包括：防尘罩、圆形导轨、刮刀、滚动轴、旋转盘和操作杆；其中，圆形导轨设置在防尘罩的内壁上；旋转盘通过滚动轴设置在圆形导轨上；刮刀设置在旋转盘上；操作杆一端与旋转盘连接，另一端延伸至防尘罩外；将防尘罩罩住电极，摇动操作杆带动旋转盘，旋转盘能够通过滚动轴在圆形导轨上旋转，带动刮刀沿着电极的凹槽进行匀力清理，由于刮刀能够匀速转动，从而能够将累积在电极边缘凹槽内的污染物完全清除，同时由于防尘罩完全照着电极，因此刮刀刮下的污染物不会遗落在反应腔室其他区域，能够保证清理后反应腔室的洁净度。
【专利说明】:主.; 士驻罢/目/ 口衣直【技术领域】
[0001]本实用新型涉及半导体制造领域，尤其涉及一种清洁装置。
【背景技术】
[0002]在半导体生产过程中，晶圆通常放置于反应腔室中的电极(或电子吸盘)上，在进行沉积薄膜或者刻蚀薄膜时，不可避免的会有薄膜沉积或散落在电极(或电子吸盘)上，导致电极被污染。为了保证反应腔室的洁净度，需要定期对电极进行清理，去除累积的污染物。
[0003]请参考图1，所述电极10为圆盘状，其边缘设有凹槽11，便于将所述电极10安装在反应腔室中；当污染物累积在所述电极10表面时，也会有污染物累积在所述电极10边缘的凹槽11中。因此，在对所述电极10进行定期清理时，就需要对所述电极10边缘的凹槽11进行清理。现有技术中采用人工手动使用陶瓷笔20对所述凹槽11进行清理，具体的，用所述陶瓷笔20轻刮下所述电极10边缘的凹槽11，使得上面粘附的污染物脱落，同时在使用所述陶瓷笔20轻刮所述凹槽11时还尽可能地使真空吸管30对准脱落的污染物，在清理时吸除污染物，以防污染整个反应腔室；接着，再用沾有无尘布对所述电极10进行擦净。
[0004]然而，由于人工使用陶瓷笔20对所述电极10进行清理时需要小心不能刮伤所述电极10，因此十分耗时；再者，反应腔室空间有限，陶瓷笔20在反应腔室不能随意变换位置，容易致使在刮所述电极10时的力度不均匀，在所述电极10的边缘凹槽11会不同程度地残留一层薄薄的污染物，容易污染晶圆。
实用新型内容
[0005]本实用新型的目的在于提供一种清洁装置，能够对电极上的凹槽进行完全清理，并且不会污染反应腔室。
[0006]为了实现上述目的，本实用新型提出一种清洁装置，其特征在于，包括:
[0007]防尘罩、圆形导轨、刮刀、滚动轴、旋转盘和操作杆；所述圆形导轨设置在所述防尘罩的内壁上；所述旋转盘通过所述滚动轴设置在所述圆形导轨上；所述刮刀设置在所述旋转盘上；所述操作杆一端与所述旋转盘连接，另一端延伸至所述防尘罩外。
[0008]进一步的，所述刮刀包括刀柄和刀头，所述刀头设置在刀柄的一端，刀柄的另一端与所述旋转盘连接。
[0009]进一步的，所述刮刀为两个，分别设置在所述旋转盘直径的两端。
[0010]进一步的，所述刮刀的材质为陶瓷。
[0011]进一步的，所述清洁装置还包括真空吸管，所述真空吸管与所述防尘罩连接。
[0012]进一步的，所述真空吸管的材质为耐高压透明压颗粒板。
[0013]进一步的，所述清洁装置还包括刮刀调节装置，所述刮刀调节装置一端与刮刀相连，另一端伸出所述防尘罩外。
[0014]进一步的，所述刮刀调节装置的材质为不锈钢。[0015]进一步的，所述防尘罩的材质为耐高压透明压颗粒板。
[0016]进一步的，所述圆形导轨和滚动轴的材质为高硬度耐磨钢。
[0017]进一步的，所述操作杆的材质为不锈钢。
[0018]进一步的，所述旋转盘的材质为耐高压透明压颗粒板。
[0019]与现有技术相比，本实用新型的有益效果主要体现在:将防尘罩罩住电极，摇动操作杆带动旋转盘，所述旋转盘能够通过滚动轴在圆形导轨上旋转，带动刮刀沿着电极的凹槽进行匀力清理，由于刮刀能够匀速转动，从而能够将累积在电极边缘凹槽内的污染物完全清除，同时由于防尘罩完全照着电极，因此刮刀刮下的污染物不会遗落在反应腔室其他区域，能够保证清理后反应腔室的洁净度。
【专利附图】
【附图说明】
[0020]图1为现有技术清理电极的结构示意图；
[0021]图2为本实用新型一实施例中清洁装置的结构示意图；
[0022]图3为本实用新型一实施例中刮刀的结构示意图。
【具体实施方式】
[0023]以下结合附图和具体实施例对本实用新型提出的清洁装置作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。
[0024]请参考图2，本实用新型提出一种清洁装置，其特征在于，所述清洁装置包括:
[0025]防尘罩220、圆形导轨230、刮刀210、滚动轴260、旋转盘250和操作杆240 ;所述圆形导轨230设置在所述防尘罩220的内壁上；所述旋转盘250通过所述滚动轴260设置在所述圆形导轨230上，所述旋转盘250能够通过所述滚动轴260在所述圆形导轨230上转动；所述刮刀210设置在所述旋转盘250上，在本实施例中，所述刮刀210为两个，分别位于所述旋转盘250直径的两端；所述操作杆240 —端与所述旋转盘250连接，另一端延伸至所述防尘罩220外，所述操作杆240可以转动，从而可以带动所述旋转盘250转动，进一步能够带动所述刮刀210转动。
[0026]请参考图3，在本实施例中，所述刮刀210包括刀柄212和刀头211，所述刀头211设置在刀柄212的一端，刀柄212的另一端与所述旋转盘250连接，其中，所述刀头211的尺寸与电极边缘的凹槽尺寸匹配或者稍微小于凹槽的尺寸，其中，所述刮刀210的材质为陶瓷。
[0027]在本实施例中，所述清洁装置还包括刮刀调节装置270，所述刮刀调节装置270 —端与所述刮刀210相连，另一端伸出所述防尘罩220外，所述刮刀调节装置用于微调所述刮刀210的位置，从而能够更加精确的对准电极的凹槽部分，其中，述刮刀调节装置270的材质为不锈钢。
[0028]在本实施例中，所述清洁装置还包括真空吸管280，所述真空吸管280与所述防尘罩220连接，在所述刮刀210对凹槽进行清理时，清理下的污染物便能够由所述真空吸管280吸除，进一步防止污染物污染反应腔室；优选的，所述真空吸管280的材质为耐高压透明压颗粒板。
[0029]在本实施例中，所述防尘罩220的材质为耐高压透明压颗粒板；所述圆形导轨230和滚动轴260的材质为高硬度耐磨钢；所述操作杆240的材质为不锈钢；所述旋转盘250的材质为耐高压透明压颗粒板。
[0030]在具体使用中，将所述电极100放置在所述防尘罩220中，使所述刮刀210处于所述电极100的凹槽部分，调节所述刮刀调节装置270，使所述刮刀210对准所述电极100的凹槽部分，打开所述真空吸管280，接着，缓慢转动所述操作杆240，带动所述旋转盘250在所述圆形导轨230上旋转，所述刮刀210沿着所述电极100的凹槽进行匀力清理，将聚积的污染物从凹槽中剥离，并最终通过所述真空吸管280吸除，达到完全清理所述电极凹槽内污染物的目的。
[0031]综上，在本实用新型实施例提供的清洁装置中，将防尘罩罩住电极，摇动操作杆带动旋转盘，所述旋转盘能够通过滚动轴在圆形导轨上旋转，带动刮刀沿着电极的凹槽进行匀力清理，由于刮刀能够匀速转动，从而能够将累积在电极边缘凹槽内的污染物完全清除，同时由于防尘罩完全照着电极，因此刮刀刮下的污染物不会遗落在反应腔室其他区域，能够保证清理后反应腔室的洁净度。
[0032]上述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不对本实用新型起到任何限制作用。任何所属【技术领域】的技术人员，在不脱离本实用新型的技术方案的范围内，对本实用新型揭露的技术方案和技术内容做任何形式的等同替换或修改等变动，均属未脱离本实用新型的技术方案的内容，仍属于本实用新型的保护范围之内。
【权利要求】
1.一种清洁装置，其特征在于，包括: 防尘罩、圆形导轨、刮刀、滚动轴、旋转盘和操作杆；所述圆形导轨设置在所述防尘罩的内壁上；所述旋转盘通过所述滚动轴设置在所述圆形导轨上；所述刮刀设置在所述旋转盘上；所述操作杆一端与所述旋转盘连接，另一端延伸至所述防尘罩外。
2.如权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述刮刀包括刀柄和刀头，所述刀头设置在刀柄的一端，刀柄的另一端与所述旋转盘连接。
3.如权利要求2所述的清洁装置，其特征在于，所述刮刀为两个，分别设置在所述旋转盘直径的两端。
4.如权利要求3所述的清洁装置，其特征在于，所述刮刀的材质为陶瓷。
5.如权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述清洁装置还包括真空吸管，所述真空吸管与所述防尘罩连接。
6.如权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述清洁装置还包括刮刀调节装置，所述刮刀调节装置一端与刮刀相连，另一端伸出所述防尘罩外。
7.如权利要求6所述的清洁装置，其特征在于，所述刮刀调节装置的材质为不锈钢。
8.如权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述圆形导轨和滚动轴的材质为高硬度耐磨钢。
9.如权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述操作杆的材质为不锈钢。
【文档编号】B08B1/04GK203426079SQ201320456546
【公开日】2014年2月12日 申请日期:2013年7月29日 优先权日:2013年7月29日
【发明者】宣荣峰 申请人:中芯国际集成电路制造(北京)有限公司