厚膜电路的超声波清洗装置制造方法
【专利摘要】本实用新型涉及一种厚膜电路的超声波清洗装置，包括有：三氯乙烯清洗槽，并排设置且数量不少于二；清洗液回收机构，与左端的所述三氯乙烯清洗槽相连接；酒精清洗槽，与右端的所述三氯乙烯清洗槽相连接；超声波发生器，设置在每个所述三氯乙烯清洗槽和所述酒精清洗槽中；加温槽，设置在每个所述三氯乙烯清洗槽和所述酒精清洗槽中；以及自动输送机构，横跨在所述三氯乙烯清洗槽和所述酒精清洗槽的上部。本实用新型对厚膜电路清洗得效果更好、更清洁，并在潮湿环境下技术参数保持不变，进而提高了厚膜电路的电路性能稳定性和可靠性。
【专利说明】厚膜电路的超声波清洗装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种电路板清洗装置，具体地说是一种厚膜电路的超声波清洗装置。
【背景技术】
[0002]目前，在三氧化二铝陶瓷基片上进行厚膜电路印刷在电子领域的应用非常广泛。厚膜电路一般配套应用于各种电子装置中。厚膜电路的污染物主要是附着于电路表面的指纹型脏污，指纹脏污是一种难以去除的混合污垢，它既含有亲水的汗液和无机盐的灰尘微粒，也含有亲油的亲油性皮脂成分。这些污染物如果不进行清除，会导致厚膜电路在潮湿高热环境中长期使用，会导致因污染物在表面吸附水分，并产生电化学反正和腐蚀性物质，与厚膜电路膜层结构中的金属成分和非金属成分发生缓慢的化学反应，破坏膜层结构的稳定性和电性能，保证厚膜电路的长期使用质量和可靠性。现有技术中，采用厚膜电路的清洗使用三氯乙烯超声波进行清洗，但这种清洗方式不容易去除指纹型脏污，清洗效果较差。
实用新型内容
[0003]本实用新型的目的就是提供一种厚膜电路的超声波清洗装置，以解决现有清洗技术对厚膜电路清洗效果较差的问题。
[0004]本实用新型是这样实现的:一种厚膜电路的超声波清洗装置，包括有:
[0005]三氯乙烯清洗槽，并排设置且数量不少于二 ；
[0006]清洗液回收机构,与左端的所述三氯乙烯清洗槽相连接；
[0007]酒精清洗槽，与右端的所述三氯乙烯清洗槽相连接；
[0008]超声波发生器，设置在每个所述三氯乙烯清洗槽和所述酒精清洗槽中；
[0009]加温槽，设置在每个所述三氯乙烯清洗槽和所述酒精清洗槽中；以及
[0010]自动输送机构，横跨在所述三氯乙烯清洗槽和所述酒精清洗槽的上部。
[0011]本实用新型在所述清洗液回收机构中设置有冷却部件，在所述清洗液回收机构与右端的所述三氯乙烯清洗槽之间接有导流管；在所述导流管与所述清洗液回收机构之间设置有向所述导流管方向流通的单向阀，在所述导流管与右端的所述三氯乙烯清洗槽之间设置有向右端的所述三氯乙烯清洗槽方向流通的单向阀；在左端的所述三氯乙烯清洗槽与所述清洗液回收机构之间设置有向所述清洗液回收机构方向流通的单向阀；在所述三氯乙烯清洗槽之间设置有从右槽向左槽依次流通的单向阀。
[0012]本实用新型通过在并排设置的若干三氯乙烯清洗槽的一端设置酒精清洗槽，可以更加方便地将厚膜电路在三氯乙烯一酒精一三氯乙烯中依次进行清洗，即首先将厚膜电路放入三氯乙烯清洗槽中将绝大部分印刷、焊接等的残留物清除，然后通过酒精清洗槽中的酒精与厚膜电路上的指纹脏污产生胶结作用进行清除，最后在经过三氯乙烯清洗槽冲掉表面的残存脏污。本实用新型通过增加酒精清洗槽，使得清洗的效果更好、厚膜电路更清洁，并在潮湿环境下技术参数保持不变，进而提高了厚膜电路的电路性能稳定性和可靠性。[0013]本实用新型可在三氯乙烯清洗槽后端的清洗液回收机构，对使用过的三氯乙烯清洗液进行蒸馏、冷却，并通过导流管和三氯乙烯之间的单向阀将蒸馏冷却后的洁净三氯乙烯清洗液依次流入三氯乙烯清洗槽中，以使三氯乙烯清洗液得到充分利用。
【专利附图】
【附图说明】
[0014]图1是本实用新型的结构示意图。
[0015]图中:1、三氯乙烯清洗槽，2、酒精清洗槽，3、冷却部件，4、清洗液回收机构，5、导流管，6、单向阀，7、超声波发生器，8、加温槽。
【具体实施方式】
[0016]如图1所示，本实用新型包括有:三个三氯乙烯清洗槽I (按1、I1、III的编号由左至右并排排列)，一个酒精清洗槽2，一个清洗液回收机构4，在三氯乙烯清洗槽I和酒精清洗槽2上端横跨有对厚膜电路板进行传送的自动输送机构(未图示)。自动输送机构可采用常规的电路板输送机构。
[0017]其中，三个三氯乙烯清洗槽I和一个酒精清洗槽2并排设置:三个三氯乙烯清洗槽I在左侧，酒精清洗槽2在右侧。在三氯乙烯清洗槽I和酒精清洗槽2中分别设置有的超声波发生器7和加温槽8。
[0018]清洗液回收机构4设置在左端三氯乙烯清洗槽I的后面，里面设置有冷却部件3，用于对使用过的三氯乙烯清洗液进行蒸馏、冷却和回收。在清洗液回收机构4与右端的三氯乙烯清洗槽I之间接有导流管5，在导流管5与清洗液回收机构4之间设置有向导流管5方向流通的单向阀6，在导流管5与最右侧三氯乙烯清洗槽I之间设置有向最右侧三氯乙烯清洗槽I方向流通的单向阀6。
[0019]在左端的三氯乙烯清洗槽I与清洗液回收机构4之间设置有向清洗液回收机构4方向流通的单向阀6。在三氯乙烯清洗槽I之间设置有从右槽向左槽依次流通的单向阀6。
[0020]清洗液回收机构4对左端的三氯乙烯清洗槽I中的清洗液进行蒸馏、冷却、回收，然后通过导流管5再流向三氯乙烯清洗槽的III槽，再从三氯乙烯清洗槽的III槽流向三氯乙烯清洗槽的II槽，最后由三氯乙烯清洗槽的II槽流向三氯乙烯清洗槽的I槽，此过程贯穿在整个的清洗过程之中。
[0021]本实用新型的使用方法是:
[0022]第一步，自动输送机构将待清洗的厚膜电路运送到三氯乙烯清洗槽的I槽中，并通过电箱控制器来控制超声波发生器7和加温槽8，使其在50°C的三氯乙烯溶液中进行超声波清洗，将厚膜电路中绝大部分印刷、焊接的残留物清。
[0023]第二步，自动输送机构将在三氯乙烯清洗槽的I槽中清洗后的厚膜电路运送到三氯乙烯清洗槽的II槽中，并通过电箱控制器来控制超声波发生器7和加温槽8，使其在50°C的三氯乙烯溶液中进行超声波清洗除，继续清洗厚膜电路中印刷、焊接的残留物。
[0024]第三步，自动输送机构将在三氯乙烯清洗槽的II槽中清洗后的厚膜电路运送到酒精清洗槽2中，并通过电箱控制器来控制超声波发生器7和加温槽8，使其在50°C的酒精溶液中进行超声波清洗，此时酒精与厚膜电路中的指纹脏污产生胶结作用，通过强烈的超声空泡进行清除。[0025]第四步，自动输送机构将在酒精清洗槽2中清洗过后厚膜电路运送到三氯乙烯清洗槽的III槽中，并通过电箱控制器来控制超声波发生器7和加温槽8，使其在50°C的三氯乙烯溶液中进行超声波清洗，冲掉表面的残存脏污。
[0026]第五步，自动输送机构将在三氯乙烯清洗槽的III槽中清洗后的厚膜电路运送到干燥箱中进行干燥。
[0027]本实用新型设置酒精清洗槽2，通过采用酒精(即乙醇)这种有机溶剂，可以溶解许多有机化合物和若干无机化合物，与有机化合物产生胶结作用，并与无机盐形成结晶醇，能够更加有效的清除各种脏污。
【权利要求】
1.一种厚膜电路的超声波清洗装置，其特征是，包括有: 三氯乙烯清洗槽，并排设置且数量不少于二 ； 清洗液回收机构，与左端的所述三氯乙烯清洗槽相连接； 酒精清洗槽，与右端的所述三氯乙烯清洗槽相连接； 超声波发生器，设置在每个所述三氯乙烯清洗槽和所述酒精清洗槽中； 加温槽，设置在每个所述三氯乙烯清洗槽和所述酒精清洗槽中；以及 自动输送机构，横跨在所述三氯乙烯清洗槽和所述酒精清洗槽的上部。
2.根据权利要求1所述的厚膜电路的超声波清洗装置，其特征是，在所述清洗液回收机构中设置有冷却部件，在所述清洗液回收机构与右端的所述三氯乙烯清洗槽之间接有导流管，在所述导流管与所述清洗液回收机构之间设置有向所述导流管方向流通的单向阀，在所述导流管与右端的所述三氯乙烯清洗槽之间设置有向右端的所述三氯乙烯清洗槽方向流通的单向阀；在左端的所述三氯乙烯清洗槽与所述清洗液回收机构之间设置有向所述清洗液回收机构方向流通的单向阀；在所述三氯乙烯清洗槽之间设置有从右槽向左槽依次流通的单向阀。
【文档编号】B08B3/12GK203448332SQ201320525025
【公开日】2014年2月26日 申请日期:2013年8月27日 优先权日:2013年8月27日
【发明者】王云香, 赵绪怀, 张莉, 崔艳梅, 丁乡, 冷梅 申请人:石家庄八五零电子有限公司