专利名称：基板处理装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及对基板进行处理的基板处理装置。
背景技术：
以往，已知有对滤色片或半导体晶片进行涂敷抗蚀剂等处理液的处理的基板处理
>J-U ρ α装直。
在这样的基板处理装置中，为了提高基板处理的处理能力，提出了设置多个涂敷装置或者多个干燥装置的方案(例如专利文献I及专利文献2)。更具体地说，在专利文献I中，公开了如下的基板处理装置将用于涂敷处理液的多个旋转系统单元沿着搬运装置的搬运路径并列设置，并且，将用于使涂敷有处理液的基板干燥的多个热型单元呈多层层叠配置。另外，在专利文献2中，公开了具有多台涂敷液喷出装置的涂敷装置，所述涂敷液喷出装置具有在一个方向上延伸的喷出口。专利文献I :日本特开2001-351852号公报专利文献2 :日本特开平10-216599号公报然而，在现有的基板处理装置中，向涂敷装置或干燥装置各处理部逐张搬运基板。因此，由于不能将多张基板同时向各处理部搬运，所以有可能降低基板处理的处理能力。
发明内容
本发明是鉴于上述问题而提出的，其目的在于，提供一种通过高效搬运基板搬运来提高基板处理的处理能力的技术。为了解决上述问题，第一形态的基板处理装置，用于对基板进行处理，具有基板接受部，其从外部接受基板；涂敷部，其在所述基板上涂敷处理液；搬运系统，其包括搬运机构，该搬运机构将位于所述基板接受部的多个所述基板同时向所述涂敷部搬运。另外，第二形态的基板处理装置，在第一形态的基板处理装置的基础上，所述涂敷部对多个所述基板同时涂敷处理液。另外，第三形态的基板处理装置，在第一或第二形态的基板处理装置的基础上，还具有干燥部，该干燥部使在所述涂敷部涂敷了所述处理液的基板进行干燥。另外，第四形态的基板处理装置，在第三形态的基板处理装置的基础上，所述干燥部具有将多个所述基板保持在同一空间内的腔室；在所述腔室内，同时对涂敷了所述处理液的多个所述基板进行干燥。另外，第五形态的基板处理装置，在第三或第四形态的基板处理装置的基础上，所述搬运系统还包括将多个所述基板同时向所述干燥部搬运的搬运机构。另外，第六形态的基板处理装置，在从第一到第五形态中任一个形态的基板处理装置的基础上，所述涂敷部具有狭缝喷嘴，从向一个方向延伸的狭缝状的喷出口喷出处理液；相对移动机构，使所述狭缝喷嘴相对所述基板进行相对移动。另外，第七形态的基板处理装置，在第六形态的基板处理装置的基础上，在所述狭缝喷嘴上形成有多个所述喷出口，在所述狭缝喷嘴的多个所述喷出口之间形成有凹部。另外，第八形态的基板处理装置，在从第一到第七形态中任一个形态的基板处理装置的基础上，所述搬运系统包括搬运机构，所述搬运机构具有移动机构，用于在多个所述基板的上方移动；基板支撑部，从上方接近多个所述基板并进行支撑。若采用第一形态的基板处理装置，则通过将多个基板同时搬入涂敷部，能够高效地搬运基板。因此，能够提高基板处理装置的基板处理的处理能力。另外，若采用第二形态的基板处理装置，则通过对多个基板同时涂敷处理液，能够提闻基板处理的处理能力。另外，若采用第三形态的基板处理装置，则能够使涂敷有处理液的基板高效地干燥。另外，若采用第四形态的基板处理装置，则通过使多个基板同时干燥，能够提高处 理能力。另外，若采用第五形态的基板处理装置，则由于能够将多个基板向干燥部搬运，所以能够提闻基板处理的处理能力。另外，若采用第六形态的基板处理装置，则通过一边从狭缝状的喷出口喷出处理液一边使狭缝喷嘴相对基板进行移动，从而能够高效地在基板上涂敷处理液。另外，若采用第七形态的基板处理装置，则通过利用形成有多个喷出口的狭缝喷嘴，能够一次在多个基板上涂敷处理液。另外，通过在形成有多个的喷出口之间形成有凹部，能够抑制处理液在喷出口之间连通。因此，能够抑制处理液滞留在喷出口周边，并能够保持喷出口周边清洁。另外，若采用第八形态的基板处理装置，则由于搬运机构移动基板的上方，所以能够减小搬运机构在装置内占据的面积。因此，能够减小基板处理装置占据的面积。
图I是第一实施方式的基板处理装置的概略俯视图。图2是从(+X)侧观察第一实施方式的涂敷部时的概略主视图。图3是表示第一实施方式的狭缝喷嘴的下端侧的一部分的立体图。图4是从(+X)侧观察第一实施方式的变形例的涂敷部时的概略主视图。图5是表示第一实施方式的基板处理装置中的基板处理的时序图。图6是第二实施方式的基板处理装置的概略俯视图。图7是第二实施方式的搬运机构的概略侧视图。图8是表示第二实施方式的基板处理装置的变形例的概略俯视图。图9是第三实施方式的基板处理装置的概略俯视图。图10是第四实施方式的基板处理装置的概略俯视图。图11是搬运第四实施方式的基板接受部的两张基板的往复搬运器5C的概略俯视图。图12是图11所示的XII-XII线剖视图。图13是第五实施方式的基板处理装置的概略俯视图。图14是从(+X)侧观察第五实施方式的基板处理装置时的概略侧视图。
图15是表示对两张基板进行涂敷处理的第五实施方式的狭缝喷嘴的移动轨迹的涂敷部的概略侧视图。图16是表示对两张基板进行涂敷处理的第五实施方式的狭缝喷嘴的其他移动轨迹的涂敷部的概略侧视图。图17是第六实施方式的基板处理装置的概略俯视图。
图18是从(+X)侧观察第六实施方式的基板处理装置时的概略侧视图。图19是第七实施方式的基板处理装置的概略俯视图。图20是从(+X)侧观察第七实施方式的基板处理装置时的概略侧视图。图21是第八实施方式的基板处理装置的概略俯视图。其中，附图标记说明如下100、100A 100G基板处理装置1、1A、1B、1D、1G 基板接受部11、IlB 载物台12、13、13D 搬运辊121旋转轴123圆板状构件2、2a、2B、2D 2G 涂敷部21、21a、21B、21Ba、21D 21G 狭缝喷嘴211 喷出口213 凹部214 唇面22架桥结构23、23B、23D 载物台23U23ID 升降辊231F涂敷用搬运辊(相对移动机构)25线性马达(相对移动机构)26升降机构27处理液供给泵28、28D、28E 维护部3、3B、3D、3G 干燥部31、31B、31D、31G 腔室4、4A、4Aa、4D、4G 基板支出部5、5A、5Aa、5B、6、7 搬运机构5C、6C往复搬运器5IC 导轨52C移动部(移动机构)53旋转机构54升降机构541 544支撑构件
54C基板支撑部551、552、553 延伸臂56支撑面61搬运臂8控制部9 基板
具体实施例方式下面，参照附图对实施方式进行详细说明。但是，以下的实施方式中所记载的结构 要素只不过是例示，本发明的范围并不限定于此。< I.第一实施方式>图I是第一实施方式的基板处理装置100的概略俯视图。基板处理装置100构成为如下装置，即，在半导体基板、光掩模用基板、滤色片用基板、光盘用基板、太阳能电池用基板等各种基板(以下，仅称为“基板”)9上涂覆抗蚀剂液等的各种处理液之后，对该基板9进行干燥，来在基板9的表面上形成薄膜。此外，在本实施方式中，基板9为长方形(包括正方形)，但是形状不限定于此，也可以为例如圆形(包括椭圆形)等其他形状。如图I所示，基板处理装置100具有基板接受部I、涂敷部2、干燥部3、基板支出部4、搬运机构5、6、7以及控制部8。此外，在图I以及以后的各图中，为了明确上述各部的方向关系，根据需要建立将Z轴方向作为铅垂方向并将XY平面作为水平面的左手系的XYZ正交坐标系。另外，在基板处理装置100中，随着基板9的处理阶段的进行，基板9被向一个方向搬运。在本实施方式中，将该基板9的被搬运的方向作为(+Y)方向。另外，涂敷部2所具有的狭缝喷嘴21相对基板9向一个方向移动来涂敷处理液。在本实施方式中，将该狭缝喷嘴21的移动方向作为(+X)方向。另外，在本实施方式中，将铅垂方向上的向上方向作为(+Z)方向。但是，这些方向关系是为了便于说明基板处理装置100的结构的配置关系来定义的关系，并不是限定本发明。{基板接受部I }基板接受部I是从外部接受要向涂敷部2搬入的多个基板9，并提供暂时存放的场所的装置。在基板处理装置100中，应处理的多个基板9通过未图示的搬运机构从外部被搬入到基板接受部I。此时，可以一张一张将基板9搬入，也可以将多张基板9同时搬入。本实施方式的基板接受部I具有载物台11，该载物台11具有能够使两张基板9、9在Y方向上排列来同时保持的程度的宽度的保持面。在从基板接受部I搬出基板9时，通过使多个升降销111从载物台11的保持面突出来向上方抬起基板9。然后，通过使搬运机构5向(-X)方向移动，从而使搬运机构5所具有的多个支撑构件511进入至基板9的下方。然后，通过使升降销111下降(或使支撑构件511上升)，将基板9从升降销111交付到多个支撑构件511上。这样一来，搬运机构5同时抬起涂敷处理前的两张基板9、9向(+Y)方向移动来将两张基板9、9同时搬入到涂敷部2。在此，同时搬运两张基板9、9是指，两张基板9、9至少在同一时机开始向涂敷部2等移动。{涂敷部2}图2是从(+X)侧观察第一实施方式的涂敷部2时的概略主视图。另外，图3是表示第一实施方式的狭缝喷嘴21的下端侧的一部分的立体图。狭缝喷嘴21安装在架桥结构22上。架桥结构22具有在(+Y)侧以及(-Y)侧配置的2根支柱部221、221，和架设在这些支柱部221、221上来支撑狭缝喷嘴21的支撑部222。架桥结构22设置为在Y轴上跨过载置两张基板9、9的载物台23的上方。在架桥结构22的两侧的支柱部221、221的下端部具有由移动子和固定在支撑台24上的固定子(定子)构成的一对AC无铁芯线性马达(以下仅称为“线性马达”。)25。通过驱动线性马达使架桥结构22沿X轴移动。由此，涂敷部2能够使狭缝喷嘴21相对于载置在载物台23上的基板9、9沿X轴相对移动。即，线性马达25构成相对移动机构。另外 ，支柱部221、221具有用于使支撑部222沿Z轴上下升降的升降机构26。升降机构26由例如滚珠螺杆、使滚珠螺杆旋转的马达和与滚珠螺杆螺合的形成有螺纹孔的螺母构件构成。升降机构26通过借助马达使滚珠螺杆转动，来使螺母构件沿Z轴升降。由于支撑部222的两端部与内置于支柱部221、221的升降机构26的螺母构件相连接，所以随着螺母构件的升降，支撑部222也上下升降。由此，涂敷部2能够使狭缝喷嘴21沿Z轴上下升降。此外，也可以通过其他的结构来实现升降机构26。狭缝喷嘴21是与在载物台23上沿Y轴并列配置的两张基板9、9的宽度相比延伸得更长一些的长条构件。狭缝喷嘴21经由导管271与用于供给处理液的处理液供给泵27相连接。当从处理液供给泵27向狭缝喷嘴21供给处理液时，处理液流过狭缝喷嘴21的内部，并从在狭缝喷嘴21的下端部形成的两个喷出口 211、211分别喷出处理液。喷出口 211沿Y轴延伸，并具有与要在基板9上涂敷处理液的涂敷区域的大小相对应的长度。此外，一般来说，该涂敷区域是基板9的表面中的除去周边的一部分后的区域。升降机构26通过使狭缝喷嘴21向(-Z)方向下降，能够使狭缝喷嘴21的喷出口 211、211分别向基板9、9靠近。在狭缝喷嘴21的喷出口 211、211之间形成有在(+Z)方向切掉一部分而成的凹部213。在形成有喷出口 211的狭缝喷嘴21的下端面形成有唇面214。当从两侧的喷出口 211、211喷出处理液时，在各唇面214、214上附着有处理液。此时，在未形成凹部213的情况下，有时附着在两侧的唇面214、214上的处理液彼此连接在一起。若在这样的状态下进行涂敷处理，则有可能在载置于载物台23上的基板9、9之间的位置上附着处理液。相对于此，在狭缝喷嘴21中，通过凹部213来将狭缝喷嘴21的下端面截断为两个唇面214、214。因此，由于能够用凹部213使处理液断开，所以能够同时对两张基板9、9良好地涂覆处理液。要在涂敷部2对基板9、9涂敷处理液的情况下，如上述那样从基板接受部I接受到两张基板9、9的搬运机构5将基板9、9搬运至载物台23上。此时，多个升降销231从载物台23的上表面向上方突出。然后，搬运机构5使多个支撑构件511下降(或者使多个升降销231上升)，来将基板9、9交付到多个升降销231的上端部。之后，使搬运机构5向(+X)方向后退，并使多个升降销231下降，从而将基板9、9载置在载物台23上。这样一来，将多个基板9同时搬入至涂敷部2。然后，当基板9、9载置于载物台23时，经由在载物台23的上表面上形成的未图示的吸附孔，将基板9、9吸附固定在载物台23上。在该状态下，狭缝喷嘴21配置在基板9、9的(+X)侧(或-X侧)的涂敷区域端部的上方。然后，通过从处理液供给泵27供给处理液并且驱动线性马达25，来在基板9、9的涂敷区域涂敷处理液。这样，狭缝喷嘴21在载置于载物台23上的基板9、9上进行扫描，来对两张基板9、9同时涂敷处理液。当涂敷处理结束时，涂敷部2再次使多个升降销231上升来将基板9从载物台23抬起。然后，搬运机构6的多个支撑构件611进入到基板9的下侧，并使该多个支撑构件611上升(或者使升降销231下降)。由此，将基板9、9交付到搬运机构6上。图4是从(+X)侧观察第一实施方式的变形例的涂敷部2a时的概略主视图。涂敷部2a具有两个狭缝喷嘴2la、21a，来代替在图I或图2所示的涂敷部2上设置的狭缝喷嘴21。如图4所示，在涂敷部2a的分别与载置在载物台23上的基板9、9相对应的位置上，分别设置有狭缝喷嘴21a、21a。并且，通过从处理液供给泵27分别向狭缝喷嘴21a、21a供给处理液，从而同时在两张基板9、9上涂敷处理液。能够将这样的涂敷部2a应用于基板处理装置100。{干燥部3}
再返回图1，干燥部3使涂敷在基板9上的处理液干燥，来在基板9上形成薄膜。干燥部3具有能够同时容纳两张基板9、9的大致长方体状的腔室31。腔室31的上部被用未图示的框架支撑的盖部覆盖。通过使该盖部在上下方向(Z轴)上上升来开放腔室31，从而能够在其内部容纳两张基板9、9。在腔室31内部设置有使腔室31内的温度上升的加热器，并连接有对腔室31内部进行减压的真空泵等减压单元。当在腔室31内的载置台(未图示。)上载置有基板9、9时，通过使盖部下降来使腔室31大致密闭。在该状态下驱动减压单元来使腔室31内减压，另夕卜，通过驱动加热器来加热基板9、9。由此，能够使在基板9的表面上涂敷的处理液干燥。在干燥部3中，利用腔室31将多个基板9 (在此为两张基板9、9)同时容纳在同一空间内并进行减压干燥。因此，与逐张对基板9进行干燥处理的情况相比，能够高效地处理基板。另外，在干燥部3中，通过将腔室31和真空泵等减压单元设置至少一台，能够同时处理多个基板9。因此，与准备多台逐张进行干燥处理的腔室的情况相比，能够抑制装置成本和使装置尺寸缩小化。但是，代替干燥部3，而将具有多台使基板9逐张干燥的腔室的干燥部应用于基板处理装置100上也无妨。向干燥部3搬运基板9、9通过搬运机构6来进行。接受到在涂敷部2结束了涂敷处理的基板9、9的搬运机构6向(+Y)方向移动，将基板9、9搬运至腔室31内。然后，基板
9、9被交到从腔室31内的用于载置基板的载置面突出的多个升降销311上。进而，使搬运机构6向(+X)方向后退，并使多个升降销311下降，来将基板9、9载置在腔室31内。另外，结束了干燥处理的基板9、9被多个升降销311抬起，并被交付给具有搬运机构7的多个支撑构件711。然后，搬运机构7通过向(+Y)方向移动来将基板9、9搬运至基板支出部4。{基板支出部4}基板支出部4具有能够同时载置两张基板9、9的载物台41。在干燥部3结束了干燥处理的基板9、9被暂时载置在基板支出部4，并由未图示的搬运单元向外部支出。此时，可以逐张支出基板9、9，也可以同时支出两张基板9、9。搬运机构7将从干燥部3接受到的基板9、9向基板支出部4搬运。此时，多个升降销411从载物台41的上表面向上方突出。然后，搬运机构7使多个支撑构件711下降(或者使多个升降销411上升)，来将基板9、9从多个支撑构件711交付到多个升降销411的上端部。然后，使搬运机构7向(+X)方向后退，并使升降销411下降，从而将基板9、9载置在载物台41上。{搬运机构5、6、7}搬运机构5、6、7构成在基板处理装置100中用于搬运基板9的基板搬运系统。搬运机构5、6、7同时保持两张基板9、9，并将它们在各处理部之间搬运。搬运机构5、6、7配置在基板接受部I、涂敷部2、干燥部3以及基板支出部4的(+乂)侧。搬运机构5、6、7具有用于沿X轴以及Y轴移动的移动机构。搬运机构5、6、7具有多个用于保持基板9、9的长条状的支撑构件511、611、711。在图I所示的例子中，各搬运机构5、6、7分别具有4个支撑构件511、611、711，用两个支撑 构件511、611、711来搬运I张基板9。此外，支撑构件511、611、711的数量能够进行适当变更。如已经叙述的那样，搬运机构5将已载置在基板接受部I上的基板9、9搬出，并搬入到涂敷部2。另外，搬运机构6将在涂敷部2结束了涂敷处理的基板9、9搬出，并搬入到干燥部3。然后，搬运机构7将在干燥部3结束了减压干燥的基板9、9搬出，并搬入到基板支出部4。{控制部8}控制部8构成为具有CPU以及RAM的一般的计算机。控制部8与基板接受部I、涂敷部2、干燥部3、基板支出部4以及搬运机构5、6、7电连接。控制部8对向这些各部发送控制信号的动作进行控制。基于控制部8的控制，使基板处理装置所具有的各构件进行动作。在本实施方式中，控制部8向例如搬运机构5、6、7输出控制信号。S卩，通过分别向搬运机构5、6、7发送与I台相对应的控制信号，各搬运机构5、6、7同时搬运两张基板9、9。以上是关于基板处理装置100的结构以及功能的说明。接着，针对基板处理装置100的基板处理的过程进行说明。图5是表示第一实施方式的基板处理装置100的基板处理的时序图。此外，在图5中，左侧的列表不基板处理装置100的各动作项目，横轴表不时间。另外，I格(mass)相当于I个处理单位时间。此外，该I个处理单位时间的具体的时间长度是考虑到基板9的处理条件(处理液的种类和形成的薄膜的厚度等)、各处理部的处理能力(架桥结构22的移动速度、狭缝喷嘴21的每单位时间的处理液的喷出量、或腔室31的加热能力等)或者搬运机构的基板搬运速度等来适当设定的长度。在此，“接受基板(I)” “接受基板(4)”表示基板处理装置100分别将第一张 第四张基板9从外部接受到基板接受部I的动作。“向涂敷部搬入”表示搬运机构5将载置在基板接受部I的两张基板9、9搬入到涂敷部2的动作。“涂敷处理”表示涂敷部2对两张基板9、9进行涂敷处理的动作。“从涂敷部搬出”表示搬运机构6将已结束涂敷处理的两张基板9、9从涂敷部2搬出并搬运到干燥部3的动作。“减压干燥”表示在干燥部3同时对两张基板9、9进行减压干燥的动作。“从干燥部搬出”表示搬运机构7将已结束干燥处理的两张基板9、9从干燥部3搬出并将基板9、9搬运到基板支出部4的动作。在基板处理装置100中，将“接受基板(I)” “接受基板(4)”、“向涂敷部搬入”、“从涂敷部搬出”、“从干燥部搬出”的各个动作所需要的时间设为I格的处理单位时间(即I个处理单位时间)，“涂敷处理”以及“减压干燥”的动作时间设为2格的处理单位时间(即2个处理单位时间)。另外，在基板处理装置100中，第一张基板9和第二张基板9在涂敷部2进行涂敷处理时(“涂敷处理”)，向基板接受部I分别搬入第三张基板9以及第四张基板9 (“接受基板(3)”、“接受基板(4)”)。在这样的时机下，将应处理的基板9从外部顺次搬入到基板处理装置100中。在图5所示的例子中，从开始对第一张以及第二张基板9、9进行涂敷处理(时间Tl)到开始对下面的第三张以及第四张基板9、9进行涂敷处理为止(时间T2)为3格的处理单位时间(3个处理单位时间)。即，在基板处理装置100中，每3个处理单位时间对两张基板9、9进行涂敷处理。因此，基板处理装置100能够每I. 5个处理单位时间处理I张基板9。即，基板处理装置100与逐张处理基板9的情况相比，能够以一半的生产时间来处理基板9。
如以上那样，若采用本实施方式的基板处理装置100，则搬运机构5、搬运机构6或搬运机构7分别能够保持多个基板9。因此，从基板接受部I向涂敷部2的基板搬运、从涂敷部2向干燥部3的基板搬运、或者从干燥部3向基板支出部4的基板搬运中，能够同时搬运多个基板9。在这样的基板处理装置100中，能够进行闻效的基板搬运，因此能够提闻基板处理的处理能力。假设在用逐张搬运的搬运机构来代用搬运机构5、6、7的情况下，为了同时搬运多个基板9，需要准备多个搬运机构。在这样的情况下，导致搬运机构的装置成本增大并且控制对象增大。相对于此，通过如搬运机构5、6、7那样过用I台搬运机构来搬运多个基板9，从而能够使移动机构等的装置结构简化，另外，能够使搬运系统有关的控制简单化。因此，能够抑制基板处理装置的整体成本。<2.第二实施方式>图6是第二实施方式的基板处理装置100A的概略俯视图。此外，在以下的说明中，对具有与第一实施方式相同的功能的构件标注相同附图标记并省略说明。基板处理装置100A具有基板接受部1A、基板支出部4A和搬运机构5A。在基板处理装置100A中，也与第一实施方式的基板处理装置100同样，将两张基板9、9同时搬运到涂敷部2、干燥部3等。但是，在用I台搬运机构5A来实现向涂敷部2或干燥部3搬运基板这一点上与基板处理装置100不同，另外，配合搬运机构5A的搬运方式来设定基板接受部
1A、涂敷部2、干燥部3以及基板支出部4A的配置位置。基板接受部IA具有将要向涂敷部2搬运的两张基板9、9从外部接受并暂时存放的功能。基板接受部IA的(-Y)侧为接受基板9的搬入的区域(接受区域R11)，基板接受部IA的(+Y)侧为将基板9交付给搬运机构5A的区域(交付(交接)区域R12)。在基板接受部IA的接受区域Rll上设置有沿着X轴隔开所需间隔来配置的多个搬运辊12。另外，基板接受部IA的接受区域Rll以及交付区域R12两者都设置有沿Y轴隔开所需间隔来配置的多个搬运辊13。搬运辊12由沿Y轴延伸的旋转轴121、在旋转轴121上分散固定的多个圆板状构件123构成。通过未图示的马达使旋转轴121旋转，从而使圆板状构件123旋转。由此，搬运辊12将由圆板状构件123支撑着的基板9在沿着X轴的方向(在此为+X方向)上搬运。
搬运辊13由沿X轴延伸的旋转轴131、在旋转轴131上分散固定的多个圆板状构件133构成。旋转轴131借助来自未图示的马达的驱动力围绕X轴旋转，使圆板状构件133也在该方向上旋转。由此，搬运辊13将由圆板状构件133支撑的基板9在沿Y轴的方向(在此为+Y方向)上搬运。另外，搬运辊12与未图示的升降机构相连接，并构成为能够相对搬运辊13沿Z轴进行上下升降。在通过搬运辊12将基板9向(+X)方向搬运的情况下，使搬运辊12上升至所需的高度的位置。由此，使基板9不与搬运辊13的圆板状构件133接触就能够向(+X)方向移动。另外，当用搬运辊13将基板9向(+Y)方向搬运的情况下，使搬运辊12下降至所需位置。由此，使基板9不与搬运辊12的圆板状构件123接触就能够向(+Y)方向移动。在基板接受部IA中，向接受区域Rll的(-X)侧搬入基板9。通过搬运辊12将该基板9向(+X)方向的所需位置搬运。由此，能够在接受区域Rll的(-X)侧设置接受下一个基板9的空间。这样一来，基板接受部IA逐张接受基板9，并最终在接受区域Rll保持两张基板9。此外，在向接受区域Rll的(+X)侧搬入基板9的情况下，通过搬运辊12将基板9向(-X)方向搬运即可。当基板接受部IA接受到两张基板9、9时，通过驱动搬运辊13来使这些基板9、9移动至交付区域R12。如图6所示那样，交付区域R12为将基板9、9交给搬运机构5A的区域。此外，也可以设置将基板9向具有(+X)方向分量及(+Y)方向分量的倾斜方向搬运的传送带来代替搬运辊12。在该情况下，基板接受部IA将第一张基板9向上述倾斜方向搬运，并通过搬运辊13将另一张基板9向(+Y)方向搬运。在该情况下，也能够将两张基板9、9以沿X轴并排的状态配置在交付区域R12。另外，从外部将基板9搬入基板接受部IA时，也可以利用第一张和第二张基板来 变更搬入位置。例如也可以将第一张基板9搬入至基板接受部IA的(-X)侧之后，将第二张基板9搬入至基板接受部IA的(+X)侧。在该情况下，能够省略搬运辊12。基板支出部4A与基板支出部4同样，在基板处理装置100A中提供用于将处理结束的基板9向外部支出的基板9的载置场所。本实施方式的基板支出部4A配置在干燥部3 (更具体地说为腔室31)的下部。即，在本实施方式中，将干燥部3和基板支出部4A多层重叠配置。基板支出部4A的(-Y)侧成为接受在干燥部3被减压干燥后的多个基板9、9的接受区域R41，(+Y)侧成为将基板9、9支出至外部的支出区域R42。在接受区域41R以及支出区域42R都沿Y轴隔开所需间隔设置有多个搬运辊13，并且，在支出区域42R沿X轴隔开所需间隔设置有搬运辊12。在基板支出部4A设置的搬运辊12、13的结构与在基板接受部IA设置的搬运辊12、13大致相同。此外，搬运辊13将沿Y轴并排的两张基板9、9搬运至支出区域R42。搬运辊12将基板9在沿X轴的方向(在此为-X方向)上搬运。在基板支出部4A中，从支出区域R42的(-X)侧向外部逐张支出基板9。S卩，搬运至支出区域R42的两张基板9、9中的(-X)侧的基板9首先向外部支出。之后，通过搬运辊12将(+X)侧的基板9向(-X)侧的空闲着的空间搬运，然后向外部支出。此外，也可以从支出区域R42的(+X)侧向外部支出基板9。在该情况下，搬运辊12将支出区域R42的(-X)侧的基板9向(+X)侧搬运即可。另外，作为从基板支出部4A支出基板的机构，能够采用如搬运辊12等那样利用辊的搬运机构，或者如搬运机构5等那样将基板9抬起并运送的搬运机构等。图7是第二实施方式的搬运机构5A的概略侧视图。搬运机构5A具有保持基板9的上手部51A以及下手部52A、使上手部51A以及下手部52A围绕Z轴一体旋转的旋转机构53、和使上手部5IA以及下手部52A —体升降的升降机构54。上手部51A具有在前端安装有多个长条的支撑构件511的弯曲臂512。另外，下手部52A也具有在前端安装有多个长条的支撑构件521的弯曲臂522。弯曲臂512、522由两根臂构件构成。两根臂构件在相互的端部连接为能够以Z轴为旋转轴旋转。通过将该连接部分作为轴使一个臂构件相对另一个构件旋转，两根臂构件在水平方向(与XY平面平行的方向)上延伸或弯曲。由此，搬运机构5A使在弯曲臂512、522的前端安装的多个支撑构件511或多个支撑构件521前后进退。 搬运机构5A利用上手部51A (或下手部52A)从基板接受部IA的交付区域R12接受两张基板9、9，旋转90度后将基板9、9搬入至位于(-X)侧的涂敷部2。此时，在结束了涂敷处理的基板9位于涂敷部2的情况下，通过未保持基板9的下手部52A (或上手部51A)将基板9搬出即可。另外，搬运机构5A从涂敷部2接受到基板9、9时，旋转90度后将基板9、9搬入至位于(+Y)侧的干燥部3。此时，在已经结束了干燥处理的基板9位于干燥部3的情况下，通过未保持基板9的上手部51A (或下手部52A)将基板9搬出即可。另外，搬运机构5A将干燥处理后的两张基板9、9从涂敷部2取出之后，使基板9、9下降并将基板9、9交付给基板支出部4A的接受区域R41。如以上这样通过利用搬运机构5A来进行基板搬运，能够大幅缩短搬运时间，因此能够提高基板处理的处理能力。另外，由于利用I台搬运机构5来进行多个基板9的搬运，所以能够抑制装置成本。此外，搬运机构5A也可以仅具有上手部5IA以及下手部52A中的一个。在该情况下，也能够同时搬运两张基板9、9，因此与逐张运送基板9相比改善了搬运效率。另外，与设置2台逐张搬运基板9的搬运机构的情况相比，能够将装置成本抑制得低。图8是表示第二实施方式的基板处理装置100A的变形例的概略俯视图。在图6所示的基板处理装置100A中，将干燥部3和基板支出部4A构成为多层，通过在基板支出部4A设置搬运辊12、13来将基板9向外部支出。相对于此，在图8所示的变形例中，干燥部3和基板支出部4Aa沿Y轴配置。并且，在干燥部3和基板支出部4Aa之间设置有搬运机构5 Aa ο基板支出部4Aa具有与第一实施方式的基板支出部4大致同样的结构，具有能够载置两张基板9、9的载物台41。虽然搬运机构5Aa具有与搬运机构5A大致同样的结构，但是不同之处在于，仅具有上手部51A以及下手部52A中的某一个。但是，搬运机构5Aa也可以具有上手部51A以及下手部52A这两者。搬运机构5Aa从腔室31接受在干燥部3结束了干燥处理的两张基板9、9，并旋转180度之后，向基板支出部4Aa搬运基板9、9。通过将基板处理装置100A作成图8所示的结构，能够使搬运机构5Aa承担涂敷部2和基板支出部4Aa之间的基板9的搬运。因此，由于能够减少搬运机构5A的负担，所以能够更顺利地进行基板搬运。因此，能够提高基板处理的处理能力。<3.第三实施方式>图9是第三实施方式的基板处理装置100B的概略俯视图。基板处理装置100B具有I台同时搬运两张基板9、9的搬运机构5B，并在搬运机构5B的周围配置有基板接受部
1B、涂敷部2B和干燥部3B。在这一点上，基板处理装置100B与第二实施方式的基板处理装置100A类似。但是，搬运机构5B具有多个比支撑构件511长的支撑构件511B。搬运机构5B在使两张基板9、9沿该支撑构件511B的延伸方向排列的状态下保持并搬运两张基板9、9。另外，基板接受部1B、涂敷部2B以及干燥部3B构成为，能够配合搬运机构5B进行搬运的基板9、9的配置来载置基板9、9。具体地说，基板接受部IB具有使两张基板9、9沿Y轴配置的载物台11B。另外，涂敷部2B具有使两张基板9、9沿X轴配置的载物台23B。 另外，干燥部3B具有使两张基板9、9沿Y轴配置的腔室31B。另外，涂敷部2B设置狭缝喷嘴21B，该狭缝喷嘴2IB —边沿Y轴在两张基板9、9上移动一边喷出处理液，来向各基板9、9同时涂敷处理液。此外，也可以代替狭缝喷嘴21B，设置如图4所示的狭缝喷嘴21a那样针对各基板9、9分别单独涂敷处理液的狭缝喷嘴。另外，在涂敷部2B上的隔着载物台23B与狭缝喷嘴21B相对的位置上设置狭缝喷嘴21Ba。向该狭缝喷嘴21Ba提供与狭缝喷嘴21B不同的处理液。因此，狭缝喷嘴21Ba向基板9、9喷出与狭缝喷嘴21B不同种类的处理液。通过设置这样的狭缝喷嘴21Ba，能够选择处理液的种类来在基板9上涂敷。由此，也能够容易应对例如仅在特定的基板9上涂敷与其他处理液不同的处理液这样的要求。另外，也能够容易应对在同一基板9上涂敷不同的2种处理液这样的要求。此外，也可以向狭缝喷嘴21Ba供给与向狭缝喷嘴21B供给的处理液相同的处理液。在该情况下，在维护狭缝喷嘴21B以及狭缝喷嘴21Ba中的某一个期间，都能够将另一个用于涂敷处理。虽然省略图示，但是也可以如基板支出部4A那样在干燥部3B的下侧呈多层状设置基板支出部。另外，也可以如基板支出部4Aa那样在干燥部3B的(+Y)侧设置基板支出部，在干燥部3B和该基板支出部之间通过未图示的搬运机构来搬运基板9。<4.第四实施方式>图10是第四实施方式的基板处理装置100C的概略俯视图。另外，图11是能够搬运第四实施方式的基板接受部I的两张基板9、9的往复搬运器5C的概略俯视图。进而，图12是图11所示的XII-XII线剖视图。本实施方式的基板处理装置100C将基板接受部I、涂敷部2以及干燥部3沿Y轴按该顺序排列。另外，基板处理装置100C具有能够同时搬运两张基板9、9的往复搬运器5C、6C。往复搬运器5C将从外部搬入至基板接受部I的基板9、9向涂敷部2搬运。另外，往复搬运器6C将在涂敷部2完成涂敷处理的基板9、9向干燥部3搬运。往复搬运器5C、6C具有大致相同的结构，在此，针对往复搬运器5C的结构进行说明。往复搬运器5C具有移动部52C (移动机构)，由能够在沿Y轴配设的导轨51C上移动的线性马达等构成；支撑体53C，沿X轴延伸，并与移动部52C—起沿Y轴移动。在支撑体53C的(+Y)侧以及(-Y)侧设置有基板支撑部54C和基板支撑部54C。基板支撑部54C具有用于支撑基板9的端部的、横截面(沿着与长度方向呈直角的平面剖切的截面)大致呈L字状的支撑构件541、542、543、544。此外，支撑构件541、542、543安装在与支撑体53C相连接的延伸臂551、552、553的前端。延伸臂551、552通过沿Y轴延伸，而使支撑构件541、542分别配置在基板9的彼此相对的沿着X轴的两个侧边部中央附近。另外，延伸臂553通过沿Y轴延伸，而使支撑构件543配置在基板9的沿Y轴的侧边部中央附近。支撑构件541、542、543能够以与延伸臂551、552、553的连接部分为轴转动地被安装，支撑构件544能够以与支撑体53C的连接部分为轴转动地被安装。在通过往复搬运器5C搬运两张基板9、9的情况下，首先，往复搬运器5C通过移动部52C向被基板接受部I支撑的基板9、9的大致中间位置移动。然后，如图11所示那样，使延伸臂551、552、553延伸。由此，支撑构件541、542、543配置在规定位置。在该状态下，如图12所示那样，通过支撑构件541 544的端部逆转至下方，各支撑构件541 544的用于支撑基板9的支撑面56配置在基板9的下方。
如图12所示那样，基板9通过多个升降销111配置在载物台11的上方。因此，通过使多个升降销111下降，基板9被支撑在支撑构件541 544上。往复搬运器5C当接受到两张基板9、9时向(+Y)方向移动来将基板9、9向涂敷部2搬运。然后，当在涂敷部2的载物台23上停止时，多个升降销231上升。升降销231的上端变得比支撑构件541 544的支撑面56高时，基板9、9被上升的升降销231向上方顶起并被支撑。在该状态下，往复搬运器5C通过使支撑构件541 544转动来使支撑面56从基板9的下方向上侧退避。在本实施方式中，也能够利用往复搬运器5C、6C将两张基板9、9同时向涂敷部2或干燥部3搬运。因此，由于能够高效地进行基板搬运，所以能够提高基板处理的处理能力。另外，往复搬运器5C、6C能够不将两张基板9、9取出至基板接受部I、涂敷部2或干燥部3的设置区域外，而利用上方的空间来搬运。因此，与如基板处理装置100等那样，将基板9搬出至外侧区域来搬运的情况相比，能够减小装置的占用面积。<5.第五实施方式>图13是第五实施方式的基板处理装置100D的概略俯视图。基板处理装置100D沿Y轴排列有基板接受部1D、涂敷部2D、干燥部3D以及基板支出部4D。图14是从(+X)侧观察第五实施方式的基板处理装置100D的概略侧视图。基板接受部1D、涂敷部2D、干燥部3D以及基板支出部4D各自沿Y轴隔开所需的间隔设置有多个搬运辊13D。搬运辊13D与如图6所示的搬运辊13同样，沿X轴隔开所需的间隔具有能够围绕X轴旋转的多张圆板状构件，利用它们的上端部来支撑基板9并向(+Y)方向搬运。在基板处理装置100D中，从基板9的基板接受部ID到基板支出部4D的移动通过多个搬运辊13D来实现。基板接受部ID利用(-X)侧的区域从外部接受I张基板9，并将该基板9向(+XMi的区域搬运。虽然向该(+X)方向搬运基板省略了图示，但是能够通过利用图6所示的搬运辊12来实现。然后，通过从外部再搬入I张基板9，在基板接受部ID上准备好两张基板9、9。之后，通过多个搬运辊13D同时将基板9、9向涂敷部2D搬运。此外，在基板接受部1D，也可以向(+X)侧的区域逐张搬入基板9。另外，也可以同时向(+X)侧以及(-X)侧的区域分别搬入基板9。
涂敷部2D具有同时保持两张基板9、9的载物台23D、和沿Y轴隔开所需的间隔来配置的多个升降辊231D。升降辊231D设置为从载物台23的上表面突出或埋入上表面的下侧。在涂敷部2D中，通过使升降辊231D围绕X轴转动来将基板9、9向(+Y)侧搬运，从而将基板9、9搬运至适合于涂敷处理的涂敷位置。然后，通过使升降辊231D停止旋转并下降，而将基板9、9载置在载物台23D上。此时，也可以经由设置在载物台23D上的吸附孔使基板9、9吸附在载物台23D上。此外，在本实施方式中，也通过狭缝喷嘴2ID在基板9上扫描来在基板9上涂敷处理液。在此，狭缝喷嘴21D具有与I张基板9的横向宽度(沿Y轴的侧边部的长度)相对应的长度，从而向I张基板9涂敷处理液。
图15是表示对两张基板9、9进行涂敷处理的第五实施方式的狭缝喷嘴21D的移动轨迹的涂敷部2D的概略侧视图。如图15所示，为了在涂敷部2D对两张基板9、9进行涂敷，狭缝喷嘴21D从维护位置Lltl开始移动。维护位置Lltl是在维护部28对狭缝喷嘴21D进行维护(初始化)时，配置狭缝喷嘴21D的位置。在本实施方式中，维护位置Lltl为例如维护部28具有的预分配棍(pre dispense roller) 281的正上方的位置。维护部28具有挡住从狭缝喷嘴21D喷出的处理液的预分配辊281。预分配辊281为在狭缝喷嘴21D的长度方向(在此为沿Y轴的方向)上延伸的圆筒状构件，并具有沿Y轴的旋转轴心。通过向该旋转轴心传递未图示的驱动源的动力，预分配棍281围绕Y轴旋转。辊槽(roller bat) 282设置在预分配辊281的下方，并在内部储存有规定的清洗液。进而，预分配辊281的下端部分被浸在储存在辊槽283内的清洗液中。因此，预分配辊281通过旋转而被清洗，从而除去在其表面上附着的处理液。在辊槽282的内部具有除液刮板283。除液刮板283从(_Y)侧观察具有朝向预分配辊281的表面突出的突起形状，在沿Y轴的方向上具有其长度方向。另外，除液刮板283的突起形状的前端部与预分配辊281表面的沿Y轴的的宽度整体相接触。通过使预分配辊281旋转，利用除液刮板283来刮取在预分配辊281表面上附着的处理液或清洗液。喷嘴清洁器284对狭缝喷嘴21D的喷出口附近(喷嘴唇)进行清洗。喷嘴清洁器284的上部具有与狭缝喷嘴21D的下端的形状(在此为用XZ平面剖切时的截面呈大致三角形状的大致三棱柱状)相对应的凹部。喷嘴清洁器284能够供给清洗液和氮气。喷嘴清洁器284在其上表面的凹部插入有狭缝喷嘴21D的喷出口的状态下，通过未图示的移动机构沿Y轴移动，向狭缝喷嘴21D的喷嘴唇喷射清洗液来进行清洗。另外，喷嘴清洁器284通过喷射氮气来使喷嘴唇干燥。在图15所示的例子中，当在涂敷部2中将基板9、9载置在载物台23D上时，狭缝喷嘴21D从维护位置Lltl上升至所需的高度，向(+X)方向移动至在(-Χ)侧载置的基板9的(-Χ)侧端部后，下降并移动至位置Ln。该位置L11为开始对(-X)侧的基板9进行涂敷的涂敷开始位置。狭缝喷嘴21D —边喷出处理液一边向(+X)方向移动，从而移动至结束对(-X)侧的基板9涂敷的涂敷结束位置(位置L12)。在结束(-X)侧的基板9的涂敷时，狭缝喷嘴21D继续进行对位于(+X)侧的基板9的涂敷。因此，狭缝喷嘴21D从位置L12上升至所需的高度之后，向(+X)侧的基板9的(-X)侧端部的位置移动，并下降至位置L13。该位置L13相当于开始对(+X)侧的基板9进行涂敷的涂敷开始位置。狭缝喷嘴21D—边喷出处理液一边从位置L13向(+X)方向移动，并移动到结束对(+X)侧的基板9涂敷的涂敷结束位置(位置L14)为止。在结束对(+X)侧的基板9的涂敷时，狭缝喷嘴21D从位置L14上升到所需的高度，并向(-X)方向移动至预分配辊281的上方为止。然后，狭缝喷嘴21D下降到维护位置Lltl,来再次进行喷嘴唇的维护。此外，在下面的涂敷处理前的基板9、9向载物台23D搬运的期间，也可以不对狭缝喷嘴21D进行维护，而仅使狭缝喷嘴21D在维护位置Lltl上待机。另外，狭缝喷嘴21D的待机位置也可以为维护位置Lltl以外的位置。另外，关于狭缝喷嘴21D的上下的移动，根据预分配辊281的高度位置和基板9、9的高度位置来适当变更。图16是表示对两张基板9、9进行涂敷处理的第五实施方式的狭缝喷嘴21D的其他移动轨迹的涂敷部2D的概略侧视图。在图16所示的例子中，在狭缝喷嘴21D处理完(-X)侧的基板9之后，从位置L12返回维护位置Lltl来进行维护，再向位置L13移动来在(+X)侧的基板9上涂敷处理液。也可以像这样每次处理I张基板9就进行狭缝喷嘴2ID的维护。此外，在图15以及图16所示的例子中，从(-X)侧的基板9开始进行涂敷处理。然 而，也可以从(+X)侧的基板9开始进行涂敷处理。另外，在图15以及图16所示的例子中，狭缝喷嘴21D向(+X)侧移动来对基板9进行涂敷处理，从而涂敷方向(扫描方向)为(+X)方向。然而，该涂敷方向也可以为相反方向(即，-X方向)。返回到图14，干燥部3D具有能够同时容纳两张基板9、9的腔室31D。此外，腔室31D与腔室31不同之处在于，在其内部内置有用于将基板9、9向(+Y)方向搬运的搬运辊13D，但是在同时对两张基板9、9进行减压干燥这一点上，具有与腔室31共通的功能。在基板支出部4D中，在(-X)侧的区域逐张向外部支出基板9。更具体地说，在从干燥部3D搬运来的两张基板9、9中，首先，向外部支出(-X)侧的基板9。然后，向空闲着的(-X)侧的区域搬运(+X)侧的基板9，之后，向外部支出该基板9。关于该向(-X)方向的基板搬运，虽然省略了图示，但是能够通过利用图6所示的搬运辊12来实现。此外，也可以从(+X)侧的区域向外部支出基板9。当然，也可以同时支出两张基板9、9。另外，也可以同时从(+X)侧以及(-X)侧的区域分别支出基板9、9。在本实施方式中，由于能够将多个基板9、9同时搬入至涂敷部2D或干燥部3D，所以能够提闻基板处理的处理能力。另外，在基板处理装置100D中，通过搬运辊13D或升降辊231D来进行基板9的搬运。若利用搬运辊13D或升降辊231D，则能够不将两张基板9、9搬出到基板接受部1D、涂敷部2D、干燥部3D或基板支出部4D的设置区域外(在此为+X侧以及-X侧的外侧区域)进行搬运。因此，与如基板处理装置100等那样将基板9搬出到外侧区域来搬运的情况相比，能够减小装置的占用面积。<6.第六实施方式>图17是第六实施方式的基板处理装置100E的概略俯视图。另外，图18是从(+X)侧观察第六实施方式的基板处理装置100E时的概略侧视图。虽然基板处理装置100E具有与图13或图14所示的基板处理装置100D大致同样的结构，但是不同之处在于，代替涂敷部2D而具有以下说明的涂敷部2E。涂敷部2E具有沿X轴延伸的狭缝喷嘴21E。狭缝喷嘴21E通过一边喷出处理液一边沿Y轴移动，来对沿X轴并列排列的两张基板9、9同时进行涂敷处理。此外，涂敷部2E在基板9的搬运路径(通过多个搬运辊13D或多个升降辊231D搬运时基板9通过的路径)的上侧设置有对狭缝喷嘴21E的喷嘴唇进行维护的维护部28E。虽然维护部28E具有与维护部28D大致同样的结构，但是与维护部28D不同之处在于，对应于狭缝喷嘴21E的长度和延伸方向。如图18所示，在涂敷部2E中，在对两张基板9、9进行涂敷处理的情况下，狭缝喷嘴21E从维护位置L2tl向(+Y)方向移动，从而移动至载置在载物台23E上的基板9的(-Y)侧端部的位置。然后，狭缝喷嘴21E下降至开始对基板9、9进行涂敷处理的位置L21。然后，狭缝喷嘴21E —边喷出处理液，一边从位置L21向(+Y)方向移动，并移动至结束涂敷的位置L220在此，也可以通过使狭缝喷嘴21E向(-Y)方向移动(B卩，从位置L22向位置L21移动)来进行涂敷处理。若采用基板处理装置100E，则通过设置狭缝喷嘴21E，能够对两张基板9、9同时进行涂敷处理，因此能够提高基板处理的处理能力。<7.第七实施方式>
图19是第七实施方式的基板处理装置IOOF的概略俯视图。另外，图20是从(+X)侧观察第七实施方式的基板处理装置IOOF时的概略侧视图。虽然基板处理装置100F具有与图13或图14所示的基板处理装置100D大致同样的结构，但是不同之处在于，代替涂敷部2D而具有以下说明的涂敷部2F。涂敷部2F具有与狭缝喷嘴21E同样沿X轴延伸的狭缝喷嘴21F。在涂敷部2F中，如图20所示，通过从固定在所需的位置上的狭缝喷嘴21F向朝(+Y)方向搬运的两张基板
9、9喷出处理液来进行涂敷处理。在涂敷部2F中，通过搬运辊13D以及后述的涂敷用搬运辊231F来使基板9相对狭缝喷嘴21F进行相对移动。因此，在本实施方式中，搬运辊13D以及涂敷用搬运辊231F构成相对移动机构。涂敷用搬运辊231F设置于在向基板9、9上涂敷处理液时配置狭缝喷嘴21F的位置的正下方。涂敷用搬运辊231F的用于支撑基板9的圆板状构件与其他支撑搬运辊13D的圆板状构件相比直径更大，另外，在沿X轴的方向上形成得更厚。因此，通过涂敷用搬运辊231F，能够稳定地支撑基板9，因此能够适当地进行涂敷处理。此外，也可以将涂敷用搬运辊231F的圆板状构件形成为长圆筒状。在该情况下，能够稳定地支撑并搬运基板9。另夕卜，也可以通过用橡胶、硅酮或合成树脂材料等的弹性材料来形成涂敷用搬运辊231F的与基板9接触的部分，来适当吸收基板9所产生的振动。若采用基板处理装置100F，则能够通过一边搬运多个基板9、9 一边进行涂敷处理，来提高基板处理的处理能力。另外，能够大幅度省略为进行涂敷处理而载置基板9的空间，因此能够减小装置的占用面积。<8.第八实施方式>图21是第八实施方式的基板处理装置100G的概略俯视图。基板处理装置100G具有沿Y轴排列的基板接受部1G、涂敷部2G、干燥部3G以及基板支出部4G。基板处理装置100G与图14所示的基板处理装置100D同样，通过在各部设置的多个搬运辊向(+Y)方向移动基板9，从而向各部顺次搬运基板9。在基板处理装置100G中，如图21所示，沿着Y轴呈一列来搬运基板9。但是，在基板处理装置100G中，以两张基板9为I组向涂敷部2G或干燥部3G搬入。更具体地说，基板处理装置100G在基板接受部IG逐张或者同时两张从外部接受基板9，并使基板9沿Y轴排列。然后，在两张基板9、9对齐的阶段，通过搬运辊的驱动，将两张基板9、9同时一起向涂敷部2G搬运。同样地，在涂敷部2G结束了涂敷处理的两张基板9、9通过搬运辊的驱动来一起向干燥部3G搬运。在涂敷部2G中，狭缝喷嘴21G通过一边同时向两张基板9、9喷出处理液一边沿X轴移动来进行涂敷处理。此外，也可以代替能够同时对两张基板进行涂敷处理的狭缝喷嘴21G，而通过能够逐张对基板进行涂敷处理液的狭缝喷嘴(例如，图13所示的狭缝喷嘴21D等)，来进行涂敷处理。干燥部3G具有在使两张基板9、9在沿Y轴排列的状态下使两张基板9、9干燥的腔室31G。通过该腔室31G，能够一次对两张基板9、9进行减压干燥。在干燥部3G结束了干燥处理的两张基板9、9通过搬运辊向基板支出部4G搬运，从而向外部支出。在如以上那样的基板处理装置100G中，通过将两张基板9同时向涂敷部2G或干 燥部3G搬运，也能够提高基板处理的处理能力。<9.变形例>以上，虽然针对实施方式来进行了说明，但是本发明不限定于上述的说明，能够进行各种各样的变形。例如，在上述实施方式中，虽然将两张基板同时向涂敷部或干燥部搬运，但是也可以搬运3张以上的基板。另外，在上述实施方式中，说明了对两张基板同时进行涂敷处理、或者干燥处理的例子。然而，也能够对3张以上的基板同时进行处理。另外，在上述实施方式中，从呈狭缝状开口的喷出口线状地喷出处理液。然而，例如，也可以通过将圆形状的多个喷出口沿一个方向排列，来呈大致线状喷出处理液。另外，在上述实施方式中，通过使狭缝喷嘴相对基板相对地向一个方向移动的所谓狭缝涂敷法来进行涂敷处理。然而，也可以通过使基板旋转来涂敷处理液的旋涂法来进行涂敷处理。另外，在上述实施方式(例如，第五实施方式、第六实施方式、第七实施方式或第八实施方式)中，通过搬运辊13D将基板9从涂敷部直接向干燥部搬运。然而，也可以在涂敷部和干燥部之间设置暂时使基板9待机的待机部。这样的待机部能够通过例如通过几个搬运辊形成能够载置基板9的区域来实现。既能够通过使搬运辊的旋转停止而使基板9待机，又能够通过使搬运辊旋转来将基板9向干燥部搬运。通过设置这样的待机部，即使在与涂敷部的涂敷处理时间相比，在干燥部的干燥时间更长的情况下，也能够将结束了涂敷处理的基板9向待机部搬运来使基板9待机。即，不需要使涂敷处理后的基板9在涂敷部待机，直到先前的基板9的干燥处理结束为止，可将下面的涂敷处理前的基板9迅速搬入涂敷部。因此，通过基板处理装置能够提高基板处理的处理能力。另外，在上述各实施方式及各变形例中说明的各结构只要不相互矛盾就能够适当组合或省略。
权利要求
1.一种基板处理装置，用于对基板进行处理，其特征在于，具有 基板接受部，其从外部接受基板； 涂敷部，其在所述基板上涂敷处理液； 搬运系统，其包括搬运机构，该搬运机构将位于所述基板接受部的多个所述基板同时向所述涂敷部搬运。
2.如权利要求I所述的基板处理装置，其特征在于， 所述涂敷部对多个所述基板同时涂敷处理液。
3.如权利要求I所述的基板处理装置，其特征在于， 该基板处理装置还具有干燥部，该干燥部使在所述涂敷部涂敷了所述处理液的基板进 行干燥。
4.如权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于， 所述干燥部具有将多个所述基板保持在同一空间内的腔室， 在所述腔室内，同时对涂敷有所述处理液的多个所述基板进行干燥。
5.如权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于， 所述搬运系统还具有将多个所述基板同时向所述干燥部搬运的搬运机构。
6.如权利要求I所述的基板处理装置，其特征在于， 所述涂敷部具有 喷嘴，其从向一个方向延伸的喷出口喷出处理液； 相对移动机构，其使所述喷嘴相对所述基板进行移动。
7.如权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于， 在所述喷嘴上形成有多个所述喷出口， 在所述喷嘴的多个所述喷出口之间形成有凹部。
8.如权利要求I所述的基板处理装置，其特征在于，所述搬运系统包括搬运机构，该搬运机构具有 移动机构，其在多个所述基板的上方移动； 基板支撑部，其从上方接近多个所述基板并进行支撑。
全文摘要
本发明提供了一种通过高效进行基板搬运来提高基板处理的处理能力的技术。一种基板处理装置(100)，对基板(9)进行处理，该基板处理装置(100)具有基板接受部(1)，从外部接受基板；涂敷部(2)，在基板(9)上涂敷处理液；干燥部(3)，使涂覆有处理液的基板(9)干燥；基板支出部(4)，将基板(9)向外部支出。另外，基板处理装置(100)具有搬运机构(5)，将位于基板接受部(1)的多个基板(9)同时向涂敷部(2)搬运；搬运机构(6)，将在涂敷部2涂覆有处理液的多个基板(9)同时向干燥部(3)搬运；搬运机构(7)，将在干燥部(3)已干燥的多个基板(9)同时向基板支出部(4)搬运。
文档编号D05B3/00GK102969261SQ20121020998
公开日2013年3月13日 申请日期2012年6月20日 优先权日2011年8月30日
发明者高木善则, 池田文彦 申请人:大日本网屏制造株式会社