液体脂质（和其它材料)迀移到储存器。有多个理由来选择 便于脂肪和其它液体排到中部(和承滴盘的储存器，特别是在承滴盘的边缘）的构造。除其 他外，在承滴盘内最热的点可能是(特别是由于间接辐射)靠近辐射单元的区域。在承滴盘 内，这些点是让脂肪/液体远离该区域流到甚至没有间接辐射的位置的最高点，因为储存器 可能是在装置的腔边缘的后方和/或下方。此外，测试已经表明，油/脂肪层可以吸收更多的 辐射并将其转化为热能。如果在落入承滴盘后脂肪流走，所述层不会保留在那里或否则可 能非常薄。更少的辐射将被转化成热能。此外，当液滴落入液体水平面时，有机会飞溅到非 常热的反射器(玻璃），并且这将立即产生烟雾和噪声。承滴盘可能是热反射器(玻璃）附近 最浅处。
[0066] 注意，特别是在此处，承滴盘不从辐射单元接收直接IR辐射。考虑到效率、产烟并 鉴于清洁方面，这似乎应该被防止。所述效果对用户也是有益的，因为清洁可能需要较少的 时间并且烤架单元的寿命可以增加。由于承滴盘可保持相对冷，有可能基本上不产烟雾。
[0067] 在一个具体的实施例中，承滴盘表面可以包括与承滴盘储存器流体连接的中央收 集通道。如上所述，特别地，承滴盘储存器具有在约50-350ml，如100-250ml，例如至少150ml 的范围内用于包括液体的脂质(或任何其它液体)的储存容积。如上所述，术语"承滴盘储存 器"可以指多个储存器(总共具有这样的存储容积）。在又一个进一步的实施例中，也参见上 文，承滴盘表面包括曲率，其被构造成将包括流体的脂质从承滴盘表面引导到承滴盘储存 器。在进一步的具体实施例中，承滴盘表面具有鞍状形状，并且其中承滴盘在承滴盘的边缘 包括两个或更多个承滴盘储存器。
[0068] 承滴盘可例如通过，诸如(例如耐热塑料的)注射成型或金属(不锈)钢或铝深拉的 工艺制成，其可能耐洗碗机并像渗铬(设有铬层)或搪瓷表面一样易于清洗表面。另外，承滴 盘可能（因此)基本上由像钢、铝或可选耐热塑料，特别是不锈钢或铝的材料制成。
[0069] 如上所述，承滴盘可被配置为存储包括液体的脂质。如本领域技术人员将清楚的， 这可以是临时存储，因为例如使用后承滴盘可被清洗。此外，"被配置为存储包括液体的脂 质"一词可特别表明该承滴盘能够保持或存储液体(和/或固体或固化)材料。这不一定（只） 包括包含液体的脂质。
[0070] 特别地，如本文所限定的，辐射烤架单元被提供，其中从辐射单元逸出的所有直接 IR辐射由食物支撑单元，特别是烤架格栅的辐射侧接收。
[0071] 在又一个方面中，本发明还提供了一种用于烹调食品的方法，所述方法包括将食 品布置到（电）辐射烤架单元的食物支撑单元，特别是烤架格栅上，并将IR辐射提供给食品。 在又一个方面中，本发明还提供了一种熟的食品，尤其是烧烤食品，其可使用如本文所述的 方法获得和/或通过使用如本文所述的辐射烤架单元烧烤食品获得。因此，可以例如将食品 布置在烤架格栅或附连到钩或烤肉叉上等。
[0072] 在又一个方面中，本发明还提供了一种食物支撑单元本身，尤其是具有杆的烤架 格栅，其中，杆具有杆直径(DB)和杆距离(PB)，其中，杆直径(DB)选自l-4mm的范围，并且其 中杆距离(PB)和杆直径(DB)之间的比值PB/DB选自2-10的范围。
[0073] 在又一个方面中，本发明还提供了一种承滴盘本身，特别地，包括承滴盘表面和承 滴盘储存器的承滴盘，该存储器被配置在承滴盘的边缘并配置成（临时)存储包括液体的脂 质，并且其中承滴盘表面包括收集装置，其被构造成将包括流体的脂质从承滴盘表面引导 到承滴盘储存器。
[0074] 请注意，在一般情况下，承滴盘和/或食物支撑单元，特别是烤架格栅是可移动的 物品，其可被移除而不必例如(从辐射烤架单元)旋松。
[0075] 如上所述，辐射烤架单元特别是具有电（辐射)加热器的电辐射烤架单元。辐射烤 架单元可包括功率调节。此外，辐射烤架可在实施方案中不包括温度调节。现有技术的系统 可包括(在烤架表面中的）能量存储。如果该存储的温度太高或太低，则恒温器将接通和切 断加热元件。在本发明中，福射烤架单元不必包括能量存储，并且因此(有利地不必包括恒 温器）。辐射烤架单元可以只有功率调节，其包括选项断开=0%和接通=100%功率。然而， 在进一步的实施例中，功率调节还可以包括具有中间功率(例如全功率的25 %，50 %，75 %) 的(选项)设置。特别地，加热元件在烧烤期间将不会接通和断开，虽然这种方法在一个实施 方案中当然也是可能的。因此，烤架单元还可以包括功率调节，其被配置用于提供可变功率 (给辐射加热器）。
[0076] 在本文中，术语"基本上"，例如在"基本上所有的光"或"基本上包括"中，将被本领 域技术人员所理解。术语"基本上"还可以包括使用"完全"、"全部"、"所有"等的实施方案。 因此，在实施方案中形容词基本上也可被去掉。在应用时，术语"基本上"也可以涉及90%或 更高，如95 %或更高，尤其是99%或更高，甚至更特别地99.5%或更高，包括100 %。术语"包 括"也包括其中术语"包括"是指"由…组成"的实施方案。术语"和/或"，尤其是指一个或多 个"和/或"之前和之后提到的项目。例如，短语"项目1和/或项目"及类似短语可指一个或一 个以上项目1和项目2。术语"包括"在一个实施方案中可以是指"由...组成"的，但在另一实 施例中可能还指"含有至少限定种类和任选的一种或多种其它种类"。
[0077] 此外，在说明书和权利要求中术语第一、第二、第三和类似的，被用于区分相似的 元件，而不一定是用于描述顺序或时间顺序。应当理解的是，如此使用的术语在适当的情况 下是可互换的，并且在此描述的本发明的实施例能够以不同于本文所述或所示的其他顺序 操作。
[0078] 本文中的装置是在操作过程中描述的。如本领域技术人员将清楚的，本发明并不 限于所述操作方法或所述操作装置。
[0079]应当指出的是，上述实施例说明而非限制本发明，并且本领域技术人员将能够设 计许多替代实施例而不脱离所附权利要求的范围。在权利要求中，置于括号之间的任何附 图标记不应被解释为限制该权利要求。使用动词"包括"及其变形不排除那些在权利要求中 所列之外的元件或步骤的存在。元件之前的冠词"一个(a)"或"一个(an)"不排除多个这样 的元件的存在。本发明可以通过包括若干不同元件的硬件，以及通过适当编程的计算机来 实现。在设备权利要求中列举了若干装置，这些装置的几个可以由一个以及相同的硬件项 目来体现。某些措施被记载在相互不同的从属权利要求中这一单纯事实并不表示这些措施 的组合不能被利用。
[0080] 本发明还适用于包括一个或多个在说明书中所描述和/或在附图中所显示的表征 特征的装置。本发明还涉及一种方法或过程，其包括一个或多个在说明书中所描述和/或在 附图中所显示的表征特征。
[0081] 在本专利中所讨论的各方面可以被组合以提供附加的优点。此外，某些特征可以 形成为一个或多个分案申请的基础。
[0082] 特别地，本发明提供一种辐射烤架单元，其包括（i)具有杆的烤架格栅，烤架格栅 包括食物支撑侧和辐射侧，（i i)辐射单元，特别是包括承载(电）IR辐射加热器的反射器，其 中辐射单元被配置为在烤架格栅（的辐射侧）的方向上提供IR辐射，以及可选的（iii)配置 为承载承滴盘的辐射烤架单元腔。
【附图说明】
[0083]本发明的实施例现在将仅通过示例的方式，参考示意性附图被描述，其中对应的 附图标记表示对应的部件，并且其中：
[0084]图la-ld示意性地描绘了一些方面；
[0085]图2a_2f?示意性地描绘了一些方面，尤其是关于格栅的尺寸；
[0086]图3a_3b示意性地描绘了一些方面，尤其是关于辐射单元；
[0087]图4a_4c示意性地描绘了一些方面，尤其是关于保护窗；
[0088]图5a_5b示意性地描绘了一些方面，尤其是关于对流通道；
[0089]图6a_6c示意性地描绘了一些方面，尤其是关于承滴盘；以及 [0090]图7a_7c示意性地描绘了一些方面，尤其关于辐射单元及其变型。
[0091]在应用时，（示意性)附图不一定按比例。
【具体实施方式】
[0092]图la示意性地描绘了辐射烤架单元1的一个实施例。辐射烤架单元1包括（i)食物 支撑单元100,这里具体是具有杆110的烤架格栅11〇〇(未单独示出，但是参见下文辐 射单元200和（iii)辐射烤架单元腔3。烤架格栅1100包括食物支撑侧101和辐射侧102。通过 示例的方式，食品2被示出，其设置在烤架格栅1100的食物支撑侧101。辐射单元200包括承 载(电）IR辐射加热器220的反射器210。反射器210包括反射器开口 223。为了清楚起见，提供 电力给IR辐射加热器220的电力基础设施未示出。然而，这是本领域技术人员所熟知的。为 了清楚起见，壳体未示出。
[0093]辐射单元200被配置成在烤架格栅1100的辐射侧102的方向上提供IR辐射201。在 此，只有一个辐射单元200通过示例的方式被示出。在一般情况下，至少单组两个辐射单元 200被应用，分别从相对于辐射烤架单元腔的相对两侧提供辐射，并且分别被配置为在辐射 侧102的方向（也参见下文)上提供IR辐射201。此外，辐射烤架单元腔3被配置为承载承滴盘 300。这里，承滴盘被指示为存在。但是，承滴盘300-般是可拆卸物品（如烤架格栅1100-般 也是）。
[0094] 标号311表示承滴盘300的边缘。在承滴盘311的边缘内，由标号7表示的脂滴可以 被收集(也见下文）。
[0095] 图lb示意性地示出了烤架单元1的俯视图。标号221表示IR辐射加热器220的伸长 轴线。如上所述，在一般情况下，IR辐射加热器220包括杆。如图lb所示，格栅1100尤其指杆 110的一维阵列，而不是杆的二维阵列(例如具有两组彼此垂直布置的杆）。标号116和117表 示格栅100的杆110的端部。在这些端部，可以存在连接装置，以提供一组平行杆110。这些连 接装置(具有特别地约LG的长度，见下文)也可以包括杆。但是请注意，当垂直连接装置可用 时，这些装置数量有限，例如只有2。如果中间连接装置(具有特别地约LG的长度，见下文)被 使用，在实施例中此数字将比杆的总数小，例如为50%或更少。例如可能存在少于2个中间 连接装置，比如没有中间连接装置。此处，中间连接装置未示出，因为它们可以特别地不存 在。因此，在实施例中，烤架格栅基本上由平行排列的格栅杆的(一维)阵列组成。
[0096] 标号1000表示烤架单元1的壳体。标号LR表示辐射单元100的长度;标号LRH表示IR 福射加热器的长度，其一般只比福射单兀1〇〇的长度LR略小;标号LG表不格栅100的长度;并 且标号WG表示格栅的宽度。面积WG*LG将(约）是烤架格栅1100的截面积。注意，基本上所有 IR辐射，或特别是基本上全部的直接IR辐射可以作用于烤架格栅的辐射侧(并且因此分布 在该截面积上）。烤架格栅1100的平面也采用标号105表示。注意，在图lb中，杆110垂直于IR 辐射加热器110。或者，格栅杆110处于平行于伸长轴线221的平面内，杆与该轴线垂直。 [0097]图lb还示出了连接装置1111(具有特别是约LG的长度，见下文），其在一个实施例 中还可以包含杆。在杆的端部，该连接装置1111和杆一起提供烤架格栅。但是请注意，当垂 直连接装置可用时，这些装置可能数量有限，例如只有2个。如果中间连接装置(具有特别地 约LG的长度，见下文)被使用，在实施例中此数字将比杆的总数小，例如为50%或更少。例如 可能存在少于2个中间连接装置，比如没有中间连接装置。图lb示出了没有中间连接装置的 实施例。杆的端部全部被连接到两连接装置。以这种方式，杆的一维阵列被提供。
[0098]图lc-ld示意地描绘了一些替代实施方案，其中标号1200示出钩作为食物支撑单 元100的实施例，并