的辐射单元的下部边缘之间的最短距离一般将比相同的两个相对 辐射单元的上部边缘之间的最短距离更短。特别地，反射器的下部边缘可以具有到烤架腔 的中心点130的最短（水平)距离，其比从反射器的上部边缘到烤架腔的中心点130的最短 (水平)距离更短。
[0130]图5a(以横截面)示意性地描绘了一个实施例，其包括辐射单元壳体250,辐射单元 壳体腔251被配置为承载辐射单元200。辐射单元壳体250以这样的方式构成，辐射单元壳体 250还包括被配置成便于空气沿着辐射单元200的自由对流的对流通道252。空气的流动使 用标号270表不。
[0131]辐射单元壳体250包括限定对流通道252的第一端和第二端的辐射单元壳体下部 开口 255和辐射单元壳体上部开口 256。相对较冷的空气进入辐射单元壳体下部开口 255，被 加热、上升、（在烤架格栅1100的辐射侧102的方向上)离开对流通道252辐射单元壳体上部 开口 256。这可能导致附加加热。在这里，辐射单元壳体250包括对流通道252，其被构造成便 于空气沿辐射单元200(的）反射器(背面侧(标号215)的自由对流。注意，在实施方案中，可 能有集成在壳体1000中的单独的辐射单元壳体250，而在其他实施方案中，壳体1000可以包 括辐射单元壳体的功能（其实际上可以是图5a中示意性描绘的实施方案的情况）。在这里， 这也可以适用于其它实施例，壳体1000还包括用于空气进入的壳体开口 8。
[0132] 图5b示意性地描绘了当从食物支撑单元，尤其是从烤架格栅向辐射单元200观察 时，该壳体的视图。辐射单元壳体上开口 256包括上部开口横截面面积(A1 )，并且辐射单元 壳体下部开口 255包括下部开口横截面面积(A2)。实验表明，当对流通道252具有选自0.8 < A1/A2S 4范围内的上部开口横截面面积(A1)与下部开口横截面面积(A2)的比值时，可以获 得更好的烹饪效果(烹饪产品质量、烹调时间、效率）。
[0133] 图6a_6c示意性地描绘了承滴盘300的一些实施例。该承滴盘可被用于本烤架单元 1中，但也可以在其它烹调系统中使用。在本发明中，承滴盘300被特别配置在辐射烤架单元 腔3在来自辐射加热器220的直接IR辐射201的视线之外，见图1 &，26-213&，4&和5 &。承滴盘 300包括承滴盘表面301和配置在承滴盘300的边缘311的承滴盘储存器302。承滴盘储存器 被特别构造成（临时）存储包含液体307的脂质。此外，在这里承滴盘表面301包括收集装置 303，其被构造成将包括流体307的脂质从承滴盘表面301引导到承滴盘储存器302。这里，收 集装置303包括V形承滴盘表面301 (和收集通道304)。这(这些)有助于液体在承滴盘储存器 302内的收集。承滴盘表面301可以包括一个或多个平坦部分，但可替代地或附加地，可以包 括一个或多个弯曲部分。在本文所描述的实施方案中，两个承滴盘储存器302可被提供。在 使用中，特别地，承滴盘300被低于食物支撑单元，例如烤架格栅设置，辐射单元在两侧，并 且承滴盘储存器在另一边缘(在图6a中，这将意味着辐射单元被配置在左侧和右侧/承滴盘 300的边缘）。图6b示意性地描绘了图6a的承滴盘300的一个实施例的3D视图。图6c示意性地 描绘了具有一个或多个弯曲部分的实施例。这里，承滴盘表面301以一种鞍形形状被应用。 鞍形形状使用标号306表示。
[0134] 图6a示意性地描绘了承滴盘300的透视顶视图。当被设置在辐射烤架单元1内时， 辐射单元可以在左和右侧，并且空腔3的边缘可以在储存器302的上方，并且可以特别在承 滴盘表面301的上方但接近储存器302。以这种方式，滴液可以落在承滴盘表面301上，并通 过收集装置303被收集到储存器302内。
[0135] 图7a_7c再次示意性地描绘了辐射单元的某些方面。图7a示意性地描绘了若干已 经研究的辐射单元200的配置。这里，五种配置被描述(H3，H4，H5.0，H5.2，H7.2)。H4和H5.0 的辐射加热器的位置重叠。在这里，所有的辐射单元包括保护窗320。在图7a-7c中描绘的反 射器形状被测试/模拟，一些数据在下面给出。
[0136]
[0138] 图7b示出了（仅直接辐射)垂直于反射器的加热元件的2D-模拟，，而没有在反射器 的相对侧上给出阴影的直下反射器部(如H5.0)。（在本图中，只有一个加热元件的辐射是可 见的）。直接辐射的一部分将通过相对侧的反射器反射进入承滴盘，其将被加热并在一段时 间后可能会导致烟雾。图7c示出了（仅直接辐射)垂直于反射器的加热元件的2D-模拟，具有 直下反射器部(如H5.0)，其在反射器的相对侧上产生阴影。将不存在在承滴盘结束的直接 辐射。因此，承滴盘可能会保持更冷却。烟雾形成可以被减少或防止。
[0139] 以上阐明了不同方面的许多附图不一定要组合。例如，有关承滴盘的信息可能涉 及特定的附图，而承滴盘的这种实施例也可以在其他实施例中被应用，例如其中优化的烤 架格栅被描述和/或被描绘的，或者其中优化的对流系统被描述和/或被描绘的，或者其中 优化的保护窗结构被描述和/或描绘的，或者其中一组辐射单元的优化配置被描述和/或描 绘的等等。
【主权项】
1. 一种辐射烤架单元（1)，包括(i)食物支撑单元（100)，和（ii)辐射单元(200)，其中所 述辐射单元(200)被配置为在所述食物支撑单元（100)的方向上提供IR辐射(201 )，还包括 辐射单元壳体(250 )，所述辐射单元壳体具有被配置为承载所述辐射单元(200)的辐射单元 壳体腔(251 )，其中，所述辐射单元壳体(250)还包括对流通道(252)，所述对流通道被配置 为便于空气沿着所述辐射单元(200)的自由对流。2. 根据权利要求1所述的辐射烤架单元（1)，其中所述食物支撑单元（100)包括具有杆 (11 〇)的烤架格栅(11 〇〇 )，所述烤架格栅(11 〇〇)包括食物支撑侧（1 〇 1)和辐射侧（102 )，或其 中所述食物支撑单元(100)包括选自烤肉叉、串肉杆、夹子和钩子的组中的一个或多个。3. 根据前述权利要求中的任一项所述的辐射烤架单元（1)，其中所述辐射单元(200)包 括承载电IR辐射加热器(220)的反射器(210)。4. 根据前述权利要求中的任一项所述的辐射烤架单元（1)，还包括(iii)被配置成承载 承滴盘(300)的辐射烤架单元腔(3)。5. 根据前述权利要求中的任一项所述的辐射烤架单元（1)，其包括（i)具有杆（110)的 烤架格栅（11〇〇 )，所述烤架格栅（11〇〇)包括食物支撑侧（101)和辐射侧（102 )，（ i i)辐射单 元(200)，其包括承载（电）IR辐射加热器(220)的反射器(210)，其中所述辐射单元(200)被 配置成在所述烤架格栅（1100)的所述辐射侧（102)的方向上提供IR辐射(201)，和（iii)辐 射烤架单元腔（3)，其被配置为承载承滴盘（300)，所述辐射单元还包括辐射单元壳体 (250)，所述辐射单元壳体具有被配置为承载所述辐射单元(200)的辐射单元壳体腔(251)， 其中所述辐射单元壳体(250)还包括被配置成便于空气沿着所述辐射单元(200)的自由对 流的对流通道(252)。6. 根据前述权利要求中的任一项所述的辐射烤架单元（1)，其中所述辐射单元壳体 (250)包括限定所述对流通道(252)的第一端和第二端的辐射单元壳体下部开口（255)和辐 射单元壳体上部开口（256)。7. 根据权利要求6所述的辐射烤架单元（1)，其中所述辐射单元壳体上部开口（256)被 配置为便于引导在所述食物支撑单元（100)的所述辐射侧（102)的方向上从所述辐射单元 壳体上部开口（256)逸出的空气流(270)。8. 根据权利要求6-7中的任一项所述的辐射烤架单元（1)，其中所述辐射单元壳体上部 开口（ 256)包括上部开口横截面面积(A1 )，并且其中所述辐射单元壳体下部开口（ 255)包括 下部开口横截面面积(A2)，并且其中所述对流通道(252)具有选自0.8 SA1/A2 < 4范围内的 所述上部开口横截面面积(A1)与所述下部开口横截面面积(A2)的比值。9. 根据前述权利要求中的任一项所述的辐射烤架单元（1)，其中所述辐射单元(200)具 有辐射单元长度(LR)，其中所述辐射加热器(220)具有辐射加热器长度(LRH)，并且其中所 述辐射单元壳体腔(251)具有辐射单元壳体长度(LRUH)，其中，0.9<1^!1/1^〈1，并且其中 0.9 < LR/LRUH <1〇10. 根据前述权利要求中的任一项所述的辐射烤架单元（1)，包括壳体（1000)，其中所 述壳体(1000)包括用于空气流入的壳体开口（8)。11. 根据前述权利要求中的任一项所述的辐射烤架单元（1)，其中所述辐射单元(200) 还包括透射IR辐射(201)的保护窗（230)，其中所述保护窗（230)相对于地球表面的法线以 窗角(β)被布置，所述窗角(β)选自〇〈β< 60°的范围。12. 根据前述权利要求中的任一项所述的辐射烤架单元（1)，其中所述食物支撑单元 (100)包括具有杆（110)的烤架格栅（1100)，所述烤架格栅（1100)包括食物支撑侧（101)和 辐射侧（102)，其中所述杆（110)具有杆直径(DB)和杆距离(PB)，其中所述杆的直径(DB)选 自1 -4mm的范围，并且其中所述杆距离(PB)和杆直径(DB)之间的比值ro/DB选自2-10的范 围。13. 根据前述权利要求中的任一项所述的辐射烤架单元（1)，包括(至少)两个辐射单元 (200)，所述两个辐射单元彼此相对并且两者被配置成在所述食物支撑单元(100)的所述辐 射侧（102)方向上提供IR辐射(201)，并且其中所述两个辐射单元(200)被配置为将离开各 辐射单元(200)的基本上所有IR辐射(201)引导到所述食物支撑单元(100)。14. 根据前述权利要求中的任一项所述的辐射烤架单元（1)，其中所述辐射单元(200) 包括承载电IR辐射加热器(220)的反射器(210)，其中所述辐射烤架单元（1)包括所述承滴 盘(300)，其中所述承滴盘(300)被配置在所述辐射烤架单元腔(3)内在来自所述辐射加热 器(220)的直接IR辐射(201)的视线之外，其中，所述承滴盘(300)包括承滴盘表面(301)和 承滴盘储存器(302 )，所述承滴盘储存器被配置在所述承滴盘(300)的边缘(311)并被配置 成存储包括液体(307)的脂质，并且其中，所述承滴盘表面(301)包括收集装置(303)，其被 配置成将包括流体(307)的脂质从所述承滴盘表面(301)引导到所述承滴盘储存器(302)。15. -种用于烹饪食品（2)的方法，所述方法包括将所述食品（2)布置到根据前述权利 要求中的任一项所述的辐射烤架单元（1)的食物支撑单元（100)上，并提供IR辐射(201)到 所述食品（2)。
【专利摘要】本发明提供一种辐射烤架单元(1)，其包含(i)食物支撑单元(100)，例如具有杆(110)，(i)辐射单元(200)，其包括承载(电)IR辐射加热器(220)的反射器(210)(具有反射器开口(223))，其中所述辐射单元(200)可选地被配置以在所述食品支撑单元(100)的方向上提供IR辐射(201)，和(iii)辐射烤架单元腔(3)，其被配置以承载承滴盘(300)(具有边缘(311))。
【IPC分类】A47J37/06, A47J37/07
【公开号】CN105578936
【申请号】CN201480052444
【发明人】M·范祖芬, S·T·道玛, T·J·M·范阿肯, R·J·范威费伦, P·J·布雷梅, I·海特布林克, M·J·勒维林克
【申请人】皇家飞利浦有限公司
【公开日】2016年5月11日
【申请日】2014年9月24日
【公告号】WO2015044164A1