专利名称：一种反射片齿刀的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种刀具，尤其指一种用来冲制反射片的蚀刻模用刀具。
背景技术：
由蚀刻模冲制而成的反射片齿刀线，由于反射片的材质差异性大，特 别遇原材材质脆性高的反射片，由于反射片的高脆性，冲制后的齿刀线在
进行对折动作时，极易产生破裂。如图l、 2所示，现有的反射片齿刀由一 组主齿刀1间隔连续排列而成。图3给出了使用该现有齿刀冲制易脆易破 裂的反射片，以180°的幅度对折冲制完成的齿刀线ll部分所得出的实验 数据。在采用不同尺寸的主齿刀1 (图中的"尺寸间隔"是指主刀齿宽-主 刀齿间距，单位为醒)，从表中可以看出，符合工艺要求的仅为间隔尺寸 为"3-5"、 "4-5"的齿刀，产品合格率极低。
发明内容
针对现有技术中存在的不足之处，本发明提供一种结构简单的反射片齿 刀，其明显改善了齿刀线延伸破裂的现象，经多次对折后的反射片整体上 仍齐整美观。
为实现上述目的，本发明技术方案为
一种反射片齿刀，其由一组齿刀单元间隔连续排列而成，所述的齿刀 单元由一主齿刀及两挡止刀组成，两挡止刀分别垂直设置于主齿刀左右两所述的挡止刀齿宽为0. 5MM。
分别间隔设置于主齿刀两侧的挡止刀与主齿刀的间距为0. 5醒。 相邻两单元间的挡止刀间距为4画，同一单元中的两挡止刀间距为5腿。
上述技术方案的有益之处在于
本发明于主齿刀两侧增加设置了挡止刀，冲制出来的齿刀线由于挡止 线的存在，阻止齿刀线延伸破裂最多延续至挡止线位置，将无法进一步延
伸破裂。现以180°的幅度对折冲制完成的齿刀线，从图6中可以看出，
反射片的成品质量大为改善。
图1是现有技术反射片齿刀结构示意图； 图2是现有技术齿刀线开模示意图3是现有技术中以180°的幅度对折齿刀线的实验数据表； 图4是本发明反射片齿刀结构示意图； 图5是本发明齿刀线开模示意图6是本发明以180°的幅度对折齿刀线的实验数据表
具体实施例方式
现结合附图和实施例说明本发明。
如图4所示的一种反射片齿刀，其由一组齿刀单元间隔连续排列而成， 所述的齿刀单元由一主齿刀2及两挡止刀3组成，两齿宽A为0. 5M的挡止 刀3分别间隔设置于主齿刀2两侧，挡止刀与主齿刀最佳间距D为0. 5醒。两挡止刀3分别垂直设置于主齿刀2左右两侧。将相邻两单元间的挡止刀 间距C为4MM，操作齿刀线的对折更容易，将同一单元中的两挡止刀间距 B为5醒，可限定齿刀线21破裂的最大宽度。
如图5所示的齿刀线开模图，挡止刀3冲制出挡止线31、主齿刀2冲 制出齿刀线21。因设有挡止线，齿刀线延伸最多仅延续至挡止线，也就是 齿刀线破裂的最大宽度为5M。
权利要求
1、一种反射片齿刀，其由一组齿刀单元间隔连续排列而成，其特征在于所述的齿刀单元由一主齿刀及两挡止刀组成，两挡止刀分别垂直设置于主齿刀左右两侧。
2、 如权利要求l所述的一种反射片齿刀，其特征在于所述的挡止刀齿宽为0. 2_2丽。
3、 如权利要求2所述的一种反射片齿刀，其特征在于所述的挡止刀齿宽为0. 5M。
4、 如权利要求l、 2或3所述的一种反射片齿刀，其特征在于两挡止刀分别间隔设置于主齿刀两侧，挡止刀与主齿刀的间距为0. 2-3醒。
5、 如权利要求4所述的一种反射片齿刀，其特征在于分别间隔设置于主齿刀两侧的挡止刀与主齿刀的间距为0. 5MM。
6、 如权利要求l、 2或3所述的一种反射片齿刀，其特征在于相邻两单元间的挡止刀间距为1-6醒，同一单元中的两挡止刀间距为1-6薩。
7、 如权利要求4所述的一种反射片齿刀，其特征在于相邻两单元间的挡止刀间距为1-6画，同一单元中的两挡止刀间距为1-6醒。
8、 如权利要求5所述的一种反射片齿刀，其特征在于相邻两单元间的挡止刀间距为1-6丽，同一单元中的两挡止刀间距为1-6醒。
9、 如权利要求6所述的一种反射片齿刀，其特征在于相邻两单元间的挡止刀间距为4醒，同一单元中的两挡止刀间距为5醒。
10、 如权利要求7所述的一种反射片齿刀，其特征在于相邻两单元间的挡止刀间距为4 MM，同一单元中的两挡止刀间距为5 ML
11、如权利要求8所述的一种反射片齿刀，其特征在于相邻两单元间的挡止刀间距为4醒，同一单元中的两挡止刀间距为5 MM。
全文摘要
本发明公开一种反射片齿刀，其由一组齿刀单元间隔连续排列而成，所述的齿刀单元由一主齿刀及两挡止刀组成，两挡止刀分别垂直设置于主齿刀左右两侧。所述的挡止刀齿宽为0.5mm，分别间隔设置于主齿刀两侧的挡止刀与主齿刀的间距为0.5mm，相邻两单元间的挡止刀间距为4mm，同一单元中的两挡止刀间距为5mm。与现有技术由单一主齿刀间隔组成的反射片齿刀相比，本发明于主齿刀两侧增加设置了挡止刀，冲制出来的齿刀线由于挡止线的存在，阻止齿刀线延伸破裂最多延续至挡止线位置，将无法进一步延伸破裂。现以180°的幅度对折冲制完成的齿刀线，从图6中可以看出，反射片的成品质量大为改善。
文档编号B26D3/08GK101628430SQ20091011233
公开日2010年1月20日 申请日期2009年8月5日 优先权日2009年8月5日
发明者曾忠义, 伟 谢, 陈彦霖 申请人:厦门尚达电子绝缘材料有限公司