一种显示基板及其制备方法、调节方法、显示装置与流程

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示基板及其制备方法、调节方法、显示装置。

背景技术：

显示器件的多功能化是目前显示行业发展的一个重要方向，可发声屏幕、透明显示、镜面显示等都属于多功能型的显示面板。其中，镜面显示可以在显示画面的同时具有镜面效果，使游戏、dvd影片播放、dv影像编辑或者数码相机图片处理等家庭娱乐功能实现更加完美的显示效果。

现有的镜面屏一般是在显示屏幕内制作一层反射层，从而将大部分外界光线反射回去。但是，现有结构的镜面屏一直处于高反射度状态，反射度无法根据环境或用户需求灵活调节。

技术实现要素：

本发明提供及一种显示基板及其制备方法、调节方法、显示装置，以使显示产品的反射度可以灵活调节，提升显示效果。

为了解决上述问题，本发明公开了一种显示基板，包括：

基板，所述基板包括开口区域和非开口区域；

层叠设置在所述基板的所述非开口区域上的反射层和透光率可调膜层，所述反射层靠近所述基板设置；

所述透光率可调膜层，用于调节入射至所述透光率可调膜层的光线的透过率。

可选地，所述基板包括：

衬底，以及图案化设置在所述衬底上的像素电极层和像素界定层；

层叠设置在所述像素电极层上的有机材料层和阴极层，所述有机材料层靠近所述像素电极层设置；

覆盖在所述阴极层以及所述像素界定层上的封装层。

可选地，所述封装层的材料为无机薄膜材料或者有机无机复合薄膜材料。

可选地，所述透光率可调膜层的材料为电致变色材料。

可选地，所述反射层的材料为金属，所述显示基板还包括设置在所述透光率可调膜层背离所述基板一侧的透明电极。

可选地，所述电致变色材料包括以下至少一种：过渡金属氧化物、普鲁士蓝、紫罗精小分子、导电聚合物。

为了解决上述问题，本发明还公开了一种显示装置，包括任一实施例所述的显示基板。

为了解决上述问题，本发明还公开了一种显示基板的调节方法，应用于任一实施例所述的显示基板，所述调节方法包括：

调节所述透光率可调膜层的透光率，包括：在镜面显示阶段，调节所述透光率可调膜层的透光率高于第一预设阈值；在画面显示阶段，调节所述透光率可调膜层的透光率低于第二预设阈值；

其中，所述第一预设阈值大于所述第二预设阈值。

可选地，当所述透光率可调膜层的材料为电致变色材料，且所述反射层为金属、所述显示基板还包括透明电极时，所述调节所述透光率可调膜层的透光率的步骤，包括：

改变施加在所述反射层与所述透明电极之间的电压差，调节所述透光率可调膜层的透光率。

可选地，所述电压差大于或等于1v，且小于或等于3v。

为了解决上述问题，本发明还公开了一种显示基板的制备方法，所述制备方法包括：

提供基板，所述基板包括开口区域和非开口区域；

在所述基板的所述非开口区域上依次形成反射层和透光率可调膜层；

所述透光率可调膜层，用于调节入射至所述透光率可调膜层的光线的透过率。

可选地，所述透光率可调膜层的材料为电致变色材料。

可选地，所述反射层的材料为金属，所述制备方法还包括：

在所述透光率可调膜层背离所述基板的一侧形成透明电极。

与现有技术相比，本发明包括以下优点：

本申请提供了一种显示基板及其制备方法、调节方法、显示装置，其中，所述显示基板包括基板，所述基板包括开口区域和非开口区域；层叠设置在所述基板的所述非开口区域上的反射层和透光率可调膜层，所述反射层靠近所述基板设置；所述透光率可调膜层，用于调节入射至所述透光率可调膜层的光线的透过率。本申请技术方案通过透光率可调膜层调节入射光线的透过率，改变反射层反射光量的大小，从而可以灵活调节显示基板的反射度，一方面，实现镜面显示与非镜面显示的转换，另一方面，可以灵活调整开口区域和非开口区域的对比度，提升显示效果。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例的描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1示出了本申请一实施例提供的一种显示基板的剖面结构示意图；

图2示出了本申请一实施例提供的一种基板的剖面结构示意图；

图3示出了本申请另一实施例提供的一种显示基板的剖面结构示意图；

图4示出了本申请一实施例提供的一种显示基板的制备方法的步骤流程图。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。

本申请一实施例提供了一种显示基板，参照图1，所述显示基板可以包括：基板11，基板11包括开口区域111和非开口区域112；层叠设置在基板11的非开口区域112上的反射层12和透光率可调膜层13，反射层12靠近基板11设置；透光率可调膜层13，用于调节入射至透光率可调膜层13的光线的透过率。

镜面显示的原理，是通过在非开口区域112设置反射层12来反射环境光，从而提高整个面板的反射度。反射层12可以是任意的反射材料，如银、镁等金属或金属合金等。

透光率可调膜层13的材料可以是透光率可调节的任意材料，如电致发光材料等有机或无机类材料，本申请对透光率可调膜层13的具体材料不作限定。

本实施例提供的显示基板，当不需要显示画面时，可以调节透光率可调膜层13处于透光率较高的状态，从而使入射至反射层12并经反射层12反射的光量增大，显示基板的反射度高，保持镜面显示，此时开口区域111和非开口区域112的对比度较低；当需要显示画面时，希望显示基板的反射度下降，可以调节透光率可调膜层13处于透光率较低的状态，从而使入射至反射层12并经反射层12反射的光量减少，显示基板的反射度低，保持画面显示，相应地开口区域111和非开口区域112的对比度较高。因此，本实施例提供的显示基板可以根据实际需要灵活调节显示基板的反射度，一方面，实现镜面显示与非镜面显示(即画面显示)的转换，另一方面，可以调整开口区域111和非开口区域112的对比度，得到更好的显示效果。

在一种实现方式中，参照图2，上述的基板11可以包括衬底21，以及图案化设置在衬底21上的像素电极层22和像素界定层23；层叠设置在像素电极层22上的有机材料层24和阴极层25，有机材料层24靠近像素电极层22设置；覆盖在阴极层25以及像素界定层23上的封装层26。

其中，封装层26的材料可以为无机薄膜材料或者有机无机复合薄膜材料。这样，在封装层26的基础上制作反射层12和透光率可调膜层13工艺上完全可行。

在实际应用中，衬底21可以包括多个薄膜晶体管27，其中，像素电极层22与薄膜晶体管27的源漏电极通过过孔连接。

在另一实施例中，上述的透光率可调膜层13的材料为电致变色材料。电致变色是指材料的光学属性(反射率、透光率、吸收率等)在外加电场的作用下发生稳定、可逆变化的现象，在外观上表现为颜色或透光率的可逆变化。其原理是在外加电场作用下发生电化学氧化还原反应，得失电子，使材料的颜色或透光率发生变化。

其中，电致变色材料可以包括以下至少一种：过渡金属氧化物、普鲁士蓝、紫罗精小分子、导电聚合物(如聚噻吩、聚吡咯、聚苯胺、聚吲哚等)等。这些电致变色材料具有良好的电化学氧化还原过程，在离子的掺入与脱出过程中能够发生稳定可逆的氧化还原反应，保证其能够稳定地进行颜色或透光率的变化，同时能够在不同电压下实现丰富的颜色变换或透光率变化，且变化过程能够在几十毫秒到几百毫秒内完成。

为了形成作用在电致变色材料上的外加电场，参照图3，上述的反射层12的材料可以为金属，上述的任一显示基板还包括设置在透光率可调膜层13背离基板11一侧的透明电极31。

这样，反射层可以作为第一电极，通过调节第一电极与透明电极31之间的电压差，调节作用在电致变色材料上的电场大小，进而调节电致变色材料的透光率。其中，电压差例如可以大于或等于1v，且小于或等于3v。

当不需要显示画面时，可以调节第一电极与透明电极31之间的电压差，使电致变色材料处于透光率较高的状态，从而使入射至反射层12并经反射层12反射的光量增大，显示基板的反射度高，保持镜面显示，此时开口区域111和非开口区域112的对比度较低；当需要显示画面时，希望显示基板的反射度下降时，可以调节第一电极与透明电极31之间的电压差，使电致变色材料处于透光率较低的状态，从而使入射至反射层12并经反射层12反射的光量减少，显示基板的反射度低，保持画面显示，相应地开口区域111和非开口区域112的对比度较高。本实施例提供的显示基板，通过对电致变色材料的控制，可以改变显示基板的发射度以及开口区域111和非开口区域112的对比度，提升显示效果。

其中，作为第一电极的反射层和透明电极31均可以通过磁控溅射、热反应蒸发、电子束蒸发等方式制作在封装层26上。

需要说明的是，形成作用在电致变色材料上的外加电场的方式有多种，并不仅限于通过反射层和透明电极之间的电压差，本实施例对形成电致变色材料的外加电场的结构不作具体限定。

本申请另一实施例还提供了一种显示装置，该显示装置可以包括上述任一实施例所述的显示基板。

需要说明的是，本实施例中的显示装置可以为：显示面板、电子纸、手机、平板电脑、电视机、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

本申请另一实施例还提供了一种显示基板的调节方法，应用于上述任一实施例所述的显示基板，该调节方法可以包括：

调节透光率可调膜层的透光率，包括：在镜面显示阶段，调节透光率可调膜层的透光率高于第一预设阈值；在画面显示阶段，调节透光率可调膜层的透光率低于第二预设阈值；其中，第一预设阈值大于第二预设阈值。

其中，第一预设阈值可以大于或等于50％，例如80％、90％等；第二预设阈值可以小于或等于50％，例如20％、10％等。

本实施例通过调节透光率可调膜层的透光率，改变反射层反射光量的大小，从而可以灵活调节显示基板的反射度，一方面，实现镜面显示与非镜面显示的转换，另一方面，可以灵活调整开口区域和非开口区域的对比度，提升显示效果。

当透光率可调膜层的材料为电致变色材料，且反射层为金属、显示基板还包括透明电极时，调节所述透光率可调膜层的透光率的步骤，可以包括：

改变施加在反射层与透明电极之间的电压差，调节透光率可调膜层的透光率。

其中，施加在反射层与透明电极之间的电压差可以大于或等于1v，且小于或等于3v。具体电压差可以根据电致变色材料和实际效果确定，本申请不作具体限定。

本实施例中显示基板的调节过程及原理可以参照前述实施例的描述，这里不再赘述。

本申请另一实施例还提供了一种显示基板的制备方法，参照图4，该制备方法可以包括：

步骤401：提供基板，基板包括开口区域和非开口区域。

步骤402：在基板的非开口区域上依次形成反射层和透光率可调膜层，其中透光率可调膜层，用于调节入射至透光率可调膜层的光线的透过率。完成反射层和透光率可调膜层制作的显示基板的剖面图如图1所示。

在一种实现方式中，步骤401可以进一步包括：

步骤501：提供衬底。

步骤502：在衬底上图案化形成像素电极层和像素界定层。

步骤503：在像素电极层上依次形成有机材料层和阴极层。

步骤504：在阴极层以及像素界定层上覆盖形成封装层，得到基板。基板结构如图2所示。其中，像素电极层对应开口区域，像素界定层对应非开口区域。

其中，封装层的材料为无机薄膜材料或者有机无机复合薄膜材料。

在另一实施例中，当透光率可调膜层的材料可以为电致变色材料时，反射层的材料为金属，上述制备方法还可以包括：

步骤403：在透光率可调膜层背离基板的一侧形成透明电极。完成透明电极制作的显示基板的剖面图如图3所示。

其中，作为第一电极的反射层和透明电极均可以通过磁控溅射、热反应蒸发、电子束蒸发等方式制作在封装层上。

本申请实施例提供了一种显示基板及其制备方法、调节方法、显示装置，其中，所述显示基板包括基板，所述基板包括开口区域和非开口区域；层叠设置在所述基板的所述非开口区域上的反射层和透光率可调膜层，所述反射层靠近所述基板设置；所述透光率可调膜层，用于调节入射至所述透光率可调膜层的光线的透过率。本申请技术方案通过透光率可调膜层调节入射光线的透光率，改变反射层反射光量的大小，从而可以灵活调节显示基板的反射度，一方面，实现镜面显示与非镜面显示的转换，另一方面，可以灵活调整开口区域和非开口区域的对比度，提升显示效果。

本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。

最后，还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、商品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、商品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、商品或者设备中还存在另外的相同要素。

以上对本发明所提供的一种显示基板及其制备方法、调节方法、显示装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。