专利名称：修正构件、保持装置、曝光装置和器件制造方法
技术领域：
本发明一般涉及搭载光学构件的精密机械，特别是涉及曝光装置等的投影光学系统，更具体地说，涉及在用于制造半导体元件、摄像元件(CCD等)或薄膜磁头等的光刻工序中使用的曝光装置中，把底版(例如掩模以及标线(须指出的是，在本申请中，可以更换使用这些用语)的像投影到被处理体(例如半导体晶片用的单晶衬底、液晶显示器(LCD)用的玻璃衬底)上曝光时，用于取得更正确的成像关系的光学构件的保持装置。
背景技术：
当使用光刻技术制造器件时，以往使用通过投影光学系统把描绘在掩模上的电路图案投影到晶片等上，来复制电路图案的投影光学装置。投影光学系统使来自电路图案的衍射光在晶片上干涉而成像。
为了实现近年的对电子仪器小型化和薄型化的要求，有必要使搭载在电子仪器上的器件高集成化，越来越要求复制的电路图案的微细化、即高析像度。为了取得高析像力，缩短光波的波长和提高投影光学系统的数值孔径是有效的，同时还必须把投影光学系统的象差抑制在极小。
如果在构成投影光学系统的透镜、反射镜等的光学元件中产生变形，则在变形前后光路折射，应该在一点成像的光线不汇聚在一点上而产生象差。象差导致位置偏移，从而导致晶片上的电路图案短路。而如果为了防止短路而扩大图案尺寸，则违背了微细化的要求。
因此，为了实现象差小的投影光学系统，有必要使构成投影光学系统的光学元件的形状和对光轴的位置不发生变化，使之保持在投影光学系统内，从而最大限度地引出光学元件所具有的本来的光学性能。特别是，通过近年来投影光学系统的高NA化，投影透镜大口径化，所以透镜容积也增大，容易发生基于自重的变形。另外，最近广泛进行研究的衍射光学元件也因为它的特征之一即比较薄，而使形状容易变化。
因此，如图7所示，在公开特许公报2001年284226号中提出了用形成在元件1100上的至少三处以上(在实施例中为30处)的透镜支撑点1200和从相关的透镜支撑点1200的夹着透镜1300的相对一侧，用弹簧1400按压透镜1300而固定的保持装置1000。此时，设计(计算)了按压力，使象氟化钙(CaF2)那样的低破坏强度的透镜也不会破裂。在此，图7是表示作为一个例子的以往的保持装置1000的分解立体图。
另外，如图8所示，在公开特许公报2001年74991号(US6239924)中提出了在元件2100内周的三处以等间隔设置的半径方向弯曲的安装部2200的承受座上设置透镜，从它的上部，用能仿照透镜形状按压的光轴方向以外的刚性低的弹簧构件来固定透镜的保持装置2000。此时，弯曲的安装部2200之间，通过柔性安装部2300来分散支撑透镜，使透镜的自重弯曲为最小，并且不过度约束透镜的定位。在此，图8是表示作为一个例子的以往的保持装置2000的概略俯视透视图。
但是，公开特许公报2001年284226号未考虑透镜支撑点1200的平面度(例如，如果透镜支撑点1200的高度上有偏移，则即使设置三十处以上的透镜支撑点1200，实际上也只是用其中的三处支撑)和透镜的变形，只是把目的集中于不破坏透镜，对于光轴在垂直方向不偏移(即不产生横向偏移)的透镜的固定。因此，在所述的三处的支撑点以外，尽管支撑点不接触透镜，从上方用弹簧1400对透镜施加力，所以透镜发生变形。从这样的透镜的变形的观点出发，很难实现象差小的投影光学系统。
另外，公开特许公报2001年74991号关于透镜的变形(形变)，虽然是纤细的结构，但是为了取得用于防止透镜的横向偏移的按压力，在三个弯曲安装部2200的位置，有必要对透镜外加与弯曲安装部作用于透镜的力相反方向的力。如果这样，从弯曲安装部2200的弹簧构件作用于透镜的负载就变大。因此，从双折射和透镜破裂的观点出发，很难实现。
发明内容
鉴于以上所述问题的存在，本发明的目的在于提供通过减少造成成像性能恶化的光学元件变形和位置偏移所导致的象差而带来所希望的光学性能的修正构件、保持装置、曝光装置和器件制造方法。
作为本发明的一个方面的修正构件，它用于修正光学构件的自重变形，其特征在于具有对于所述光学构件实质上外加反重力方向的弹力的第一部件(第一弹簧部)；与所述第一构件夹着所述光学构件而相对配置，在所述光学构件上实质上外加重力方向的弹力的第二部件(第二弹簧部)。在此，希望光学构件的光轴与重力方向和反重力方向不垂直。特别是如果所述光学构件的光轴与所述重力方向以及反重力方向实质上平行，就更好。
另外，作为本发明的一个方面的保持装置，它用来保持光学构件，其特征在于具有用于支撑所述光学构件的多个支撑部和所述修正构件。另外，所述保持装置的结构最好为具有三个支撑部，在所述三个支撑部之间分别至少具有各一个所述第一构件和所述第二构件。而且，所述多个支撑部在以所述光学构件的光轴为中心的旋转方向的大约三等分的位置上各设置了一个，所述修正构件最好配置为在这三个支撑部之间(以光轴为中心的旋转方向的支撑部之间)至少各设置一个。
在此，所述保持装置最好具有承载所述支撑部和所述第一部件的环状的单元构件。而且，所述光学构件的结构最好为通过所述第一构件的弹力和所述第二构件的弹力，支撑在所述单元构件上。另外，所述保持装置在所述光学构件的圆周方向具有近似均等设置的三个支撑点，所述三个支撑点最好相对于所述单元构件固定。另外，所述单元构件最好具有实质上与所述光学构件的线膨胀系数相等的线膨胀系数。另外，所述单元构件最好通过能吸收半径方向的变形的弹簧构件来连接镜筒。
另外，作为本发明的一个方面的保持装置其特征在于具有用于支撑光学构件的三个支撑部；在所述光学构件上实质上外加反重力方向的第一弹力的第一部件；夹着所述光学构件而配置在与所述第一部件相对的位置上的、在所述光学构件上实质上外加重力方向的第二弹力的第二部件。
在此，最好在夹着所述光学构件与所述支撑部相对的位置上具有按压构件。更希望所述第一弹力比所述第二弹力大。
另外，当所述光学构件的质量为M、所述第一部件和第二部件的个数为n，所述光学构件和所述第一部件以及第二部件的静止摩擦系数为μ，耐横向重力规格为A，耐纵向重力规格为B，所述光学构件的破坏负载为Fmax时，所述第一弹力F1、所述第二弹力F2、基于所述按压部的对所述光学构件的按压力F3最好满足[表达式3]Fmax≥F1≥M(A/μ+1)/2nFmax≥F2≥M(A/μ-1)/2nFmax≥F3≥BM在此，F1是一个第一部件外加在光学构件上的力，F2是一个第二部件外加在光学构件上的力。
另外，所述光学构件具有给定的曲率，所述第一部件和所述第二部件的结构最好为具有沿着所述光学构件的所述曲率的外加所述弹力的外加面。
另外，用于实现所述目的的、作为本发明的一个方面的曝光装置其特征在于具有所述的保持装置，具有通过保持在所述保持装置上的光学构件，把形成在掩模或标线上的图案曝光在被处理体上的光学系统。根据相关的曝光装置，在构成要素的一部分中具有上述的保持装置，在不破损光学构件的前提下进行定位，还能抵消光学构件的自重变形，能防止造成成像性能劣化的光学元件的变形和位置偏移导致的象差的发生。
作为本发明的一个方面的器件制造方法其特征在于具有使用所述的曝光装置来使被处理体曝光的步骤；对所述曝光的所述被处理体进行给定处理的步骤。与上述的曝光装置起到同样作用的器件制造方法其效力能影响到中间以及最终产物的器件本身。另外，相关的器件包含例如LSI和VLSI等的半导体芯片、CCD、LCD、磁传感器、薄膜磁头等。
根据参照附图来说明的优选实施例，应该可以明确本发明的其他目的和特征。
下面简要说明附图。
图1是表示应用于曝光装置的投影光学系统中的本发明的保持装置的概略剖面立体图。
图2是图1所示的支撑部和按压构件的放大模式图。
图3是图1所示的第一弹簧部和第二弹簧部的放大模式图。
图4是本发明的例示的曝光装置的概略方框剖视图。
图5是用于说明具有本发明曝光装置的器件制造方法的程序框图。
图6是图5所示的步骤4的晶片处理的详细程序框图。
图7是表示作为一个例子的以往的保持装置的分解立体图。
图8是表示作为一个例子的以往的保持装置的概略俯视透视图。
图9是本发明的曝光装置的镜筒内部的概略剖面立体图。
具体实施例方式
下面，参照附图来说明本发明的例示的保持装置和曝光装置。但是，本发明并不限定于这些实施例，在实现本发明的目的的范围中，可以置换各构成要素。例如，在本实施例中，举例说明在曝光装置200的投影光学系统230中应用了保持装置100，但是也可以应用于曝光装置200的照明光学系统214和其他的众所周知的任何光学系统中。在此，图1是表示应用在曝光装置200的投影光学系统230中的本发明的保持装置100的概略剖面立体图。重力方向(反重力方向)与光学构件110的光轴方向一致，是图上的箭头方向。当重力方向(反重力方向)与光学构件的光轴方向一致时，光学构件的自重变形增大，常常对光学性能产生较大影响，所以在本实施例中，对于重力方向与光学构件的光轴方向一致时应用了本发明。但是，因为图1是剖面图，所以支撑部130在图中仅标示了2处，而实际上应理解为有3处。
如图1所示，保持装置100具有单元构件120、支撑部130、与它相对的按压构件140、第一弹簧部150、与它相对的第二弹簧部160，并且保持光学构件110。在此，按压构件140实际上可以不接触光学构件110。可以使光学构件110和按压构件140之间具有与光学构件110的光轴方向的定位公差相同的长度的间隔。在此，光学构件110和按压构件140之间的间隔为0.1μm以内。
光学构件110被载置在后面描述的支撑部130上，利用反射、折射和衍射来使光成像。光学构件110例如包含透镜、平行平板玻璃、棱镜、反射镜以及菲涅耳带板、开诺全息照片、二元光学器件、全息图等的衍射光学元件。
单元构件120承载了在三点支撑光学构件110的支撑部130和后面描述的第一弹簧部150。单元构件是以光轴为中心的环状构件，例如由实质上具有与光学构件110的线膨胀系数相等的线膨胀系数的材料构成。如果采用这样的结构，就能防止在温度环境变动时，由于线膨胀系数的不同而产生的光学构件与单元的相对位移，使光学构件通过支撑部和弹簧部而受到外力变形，或应力的作用。
图2表示了图1所示的支撑部130和按压构件140的放大模式图。如图2所示，支撑部130具有用于承载光学构件110的承载面132，在三点支撑光学构件110。即支撑部130以光轴为中心，几乎以等间隔配置在单元构件120的三处。这样，因为支撑部130沿着光学构件110的圆周方向，几乎以等间隔分布，所以光学构件110在支撑部130上稳定。在支撑部130的承载面132上例如形成有球状的吸收构件132a，对光学构件110不会造成损伤，使接触面积最小(即在一点)，承载光学构件110。在此，图2是图1所示的支撑部130和按压构件140的放大模式图。另外，支撑部130通过销子P2接合在单元构件120上。
按压构件140相关于光学构件110，设置在与支撑部130相对的一侧。按压构件140通过按压光学构件110，与支撑部130一起固定光学构件110的光轴方向(纵向)的位置。具体地说，如图2所示，通过隔离块S1和销子P1把按压构件140接合到支撑部130上，通过按压构件140的按压面142在光学构件110上外加按压力，通过支撑部130和按压构件140夹着并且固定光学构件110。按压构件140的按压面142由弹性构件和光学构件110具有的曲率形成，使其不会对光学构件110造成损伤。
回到图1，第一弹簧部150设置在三个支撑部130之间，承载在单元构件120上。第二弹簧部160相关于光学构件110设置在与第一弹簧部150相对的一侧。
如图3所示，第一弹簧部150和第二弹簧部160通过隔离块和销子P3接合。第一弹簧部150通过外加面152把反重力方向的第一弹力外加到光学构件110上，第二弹簧部160通过外加面162把比第一弹力还小的第二弹力作用于光学构件110上。即通过合成第一弹簧部150作用于光学构件上的力和第二弹簧部160作用于光学构件上的力的力光学构件110被向反重力方向按压。但是，第一弹簧部150和第二弹簧部160没必要在光学构件110的圆周方向设置在相同位置上。例如，在光学构件110的圆周方向，可以在第一弹簧部150的两侧位置上设置第二弹簧部160。为了提高光学构件110的接触部的应力分散，沿着光学构件110具有的曲率形成有第一弹簧部150和第二弹簧部160的外加面152、162。
在此，第一弹簧部150和第二弹簧部160对光学构件110外加的力的方向可以从重力方向以及反重力方向偏移，但是实质上希望是重力方向和反重力方向。根据透镜面的倾斜或透镜本身的倾斜或第一弹簧部150、第二弹簧部160的弹性变形的方法、方向等，第一弹簧部150和第二弹簧部160对于光学构件110外加的力的方向从重力方向以及反重力方向偏移1度以下，希望只偏移三度以下。
第一弹簧部150和第二弹簧部160光学构件110对于光轴方向垂直方向(横向)的定位所必要的力由基于外加在光学构件110上的第一和第二弹力的夹入而分散提供。因此，第一弹簧部150和第二弹簧部160不会使光学构件110发生大的变形或使光学构件110破裂，能进行垂直于光轴方向的定位。此时，设定第一弹力和第二弹力，使之能消除或减小光学构件110的自重变形。
总之，保持装置100通过支撑部130和按压部140主要进行光轴方向的定位，由第一弹簧部150和第二弹簧部160进行垂直于光轴方向的定位。为了尽可能减小光学构件110的自重变形，调整了第一弹簧部150和第二弹簧部160。具体地说，第一和第二弹力的调节通过由弹性系数不同的材料构成第一弹簧部150和第二弹簧部160，或改变隔离块S2的高度而进行。
因此，保持装置100当光学构件100的质量为M、第一弹簧部150和第二弹簧部160的个数为n，光学构件110和第一弹簧部150以及第二弹簧部160的静止摩擦系数为μ，耐横向重力规格为A，耐纵向重力规格为B、光学构件110的破坏负载为Fmax时，通过把各个弹簧部150提供给光学构件110的第一弹力F1、把各个第二弹簧部160提供给光学构件110的第二弹力F2、基于按压部140的向光学构件110按压力F3设定为满足以下的表示式，不会使光学构件110产生大的变形或使光学构件110破损，进行光轴方向和垂直于光轴的方向的定位，并且能使光学构件110的自重变形为最小，通过减小成为成像性能的恶化的光学元件的变形和位置偏移导致的象差，能实现所希望的光学性能。
Fmax≥F1≥M(A/μ+1)/2n
Fmax≥F2≥M(A/μ-1)/2nFmax≥F3≥BM下面，参照图4来说明应用了本发明保持装置100的例示性投影光学系统230和具有投影光学系统230的曝光装置200。在此，图4是例示的曝光装置200的概略方框剖视图。如图4所示，曝光装置200具有对形成了电路图案的掩模220进行照明的照明装置210；把从照明的掩模图案产生的衍射光投影到板240上的投影光学系统230；支撑板240的台245。
曝光装置200例如是把用步进扫描方式或步进重复方式在掩模220上形成的电路图案在板240上曝光的投影曝光装置。相关的曝光装置适合于亚微米和四分之一微米以下的光刻工序，以下在本实施例中，以步进扫描方式(也被称作扫描器)为例进行说明。在此，“步进扫描方式”是对掩模连续地扫描晶片，使掩模图案在晶片上曝光，并且使一次拍摄的曝光结束后的晶片步进移动，移动到下一曝光区域的曝光方法。“步进重复方式”是在晶片的每次统一曝光时，使晶片步进移动，移动到下一拍摄的曝光区域的曝光方法。
照明装置210照明形成了复制用电路图案的掩模220，具有光源部212和照明光学系统214。
光源部212例如作为光源能使用波长约193nm的ArF受激准分子激光、波长约248nm的KrF受激准分子激光、波长约153nm的F2受激准分子激光，但是光源的种类并不局限于受激准分子激光，例如可以使用YAG激光，也未限定光源的个数。另外，可以使用EUV光源。例如如果使用独立工作的两个固体激光器，则没有固体激光器间彼此的相干，在相当程度上减少了相干所导致的斑点。为了进一步减少斑点，也可以使光学系统直线或旋转地摇动。另外，当在光源部212中使用了激光时，希望使用把来自激光光源的平行光束整形为所需的光束形状的光束整形光学系统、使相干性的激光光束不相干化的不相干化光学系统。另外，对光源部212能使用的光源并不局限于激光，能使用一个或多个水银灯或者氙灯等。在此，当使用发出EUV光(在此为波长10～15nm的光)的光源时，在具有照明光学系统和投影光学系统的光学元件中，希望只用反射镜(反射光学构件)构成从光源到晶片的光路。
照明光学系统214是照明掩模220的光学系统，包含透镜、反射镜、光学积分器、光圈等。例如是按电容式透镜、目镜、开口光圈、电容式透镜、狭缝、成像光学系统的顺序排列。照明光学系统214可以不论轴上光、轴外光而使用。光学积分器包含通过层叠目镜和两组柱面透镜阵列(或双凸透镜)板而构成的积分器等，但是有时也置换为光学棒和衍射元件。在相关的照明光学系统214的透镜等的光学元件的保持上能使用本发明的光学元件保持装置。
掩模220例如是石英制的，在其上形成了应该复制的电路图案(或像)，支撑在未图示的掩模台上，并且被驱动。从掩模220发出的衍射光通过投影光学系统230投影到板240上。掩模220和板240在光学上处于共轭的关系。因为本实施例的曝光装置200是扫描器，所以通过以缩小倍率比的速度扫描掩模220和板240，来把掩模220的图案复制到板240上。须指出的是，当为步进重复方式的曝光装置(也称作步进器)时，在使描掩模220和板240静止的状态下进行曝光。
投影光学系统230能使用只由多个透镜元件构成的光学系统、具有多个透镜元件和至少一个凹面镜的光学系统(单折射光学系统)、具有多个透镜元件和至少一个开诺全息照片等的衍射光学元件的光学系统、全反射镜型的光学系统等。当需要修成颜色象差时，使用色散值(阿贝值)彼此不同的玻璃材料构成的多个透镜元件，或构成衍射光学元件，使其产生与透镜元件相反方向的色散。
在相关的投影光学系统230的透镜等的光学构件的保持中，能使用本发明的保持装置100。如图9所示，保持装置100通过设置在单元构件120上的能吸收半径方向变形的弹簧构件122连接着投影光学系统230的镜筒232。通过采用这样的结构，当装置输送时等温度环境的变动时，能防止由于线膨胀率的不同产生的镜筒和单元的相对位移，而使单元相对镜筒偏心。须指出的是，投影光学系统230能降低造成成像性能劣化的光学构件的变形和位置偏移导致的象差，能实现所需的光学性能。
板240是在晶片和液晶衬底等的被处理体上涂敷了光敏抗蚀剂。光敏抗蚀剂的涂敷步骤包含前处理、紧贴性提高剂的涂敷处理、光敏抗蚀剂的涂敷处理、预焙处理。前处理包含洗净、干燥等。紧贴性提高剂的涂敷处理是用于提高光敏抗蚀剂和基底的紧贴性的表面改质(即基于界面活性剂涂敷的防水处理)，涂敷或蒸汽处理HMDS(Hexamethyl-disilazane)等的有机膜。预焙是烘焙(烧成)步骤，但是比显影后柔和，它除去溶剂。
台245支撑板240。台245也能应用本领域中众所周知的任意结构，所以在此省略了详细的构造和动作的说明。例如台245能利用线性电机在XY方向使板移动。掩模220和板240例如同步扫描，台245和未图示的掩模台的位置例如由激光干涉仪等监视，以一定的速度比率驱动两者。台245例如设置在通过减震器而支撑在底板等上的台定盘上，掩模台和投影光学系统230设置在通过减震器而支撑在承载在底板等上的底座上的未图示的镜筒定盘上。
在进行曝光时，从光源部212发出的光束通过照明光学系统214，对掩模220进行例如苛拉照明。通过掩模220而反映掩模图案的光通过投影光学系统230在板240上成像。曝光装置200使用的投影光学系统230(以及/或照明光学系统214)包含用本发明的保持装置100保持的光学元件，能抑制光学元件的变形和位置偏移导致的象差，所以能以较高的生产能力、低成本提供比以往质量更好的器件(半导体元件、LCD元件、摄像元件(CCD等)、薄膜磁头等)。
下面，参照图5和图6来说明利用了上述的曝光装置200的器件制造方法的实施例。图5是用于说明器件(IC和LSI等的半导体芯片、LCD、CCD等)的制造的程序框图。在此，以半导体芯片的制造为例进行说明。在步骤1(电路设计)中，进行器件的电路设计。在步骤2(制作掩模)中，制作形成了设计的电路图案的掩模。在步骤3(晶片的制造)中，使用硅等的材料制造晶片。步骤4(晶片处理)被称作预处理，使用掩模和晶片，通过光刻技术在晶片上形成实际的电路。步骤5(组装)被称作后处理，是使用通过步骤4生成的晶片，进行半导体芯片化的步骤，包含装配步骤(分割、接合)、封装步骤(密封芯片)等的步骤。在步骤6(检查)中，进行步骤5中生成的半导体器件的动作确认测试、耐久性测试等检查。经过这样的步骤，完成半导体器件，使它出厂。
图6是步骤4的晶片处理的详细的程序框图。在步骤11(氧化)中，使晶片的表面氧化。在步骤12(CVD)中，在晶片的表面上形成绝缘膜。在步骤13(形成电极)中，通过蒸镀等在晶片上形成电极。在步骤14(离子注入)中，向晶片注入离子。在步骤15(抗蚀剂处理)中，对晶片涂敷感光剂。在步骤16(曝光)中，通过曝光装置200把掩模的电路图案在晶片上曝光。在步骤17(显影)中，把曝光的晶片显影。在步骤18(蚀刻)中，去掉显影的抗蚀剂像以外的部分。在步骤19(抗蚀剂的剥离)中，去掉蚀刻完后不要的抗蚀剂。通过重复进行这些步骤，就在晶片上多重形成电路图案。根据本实施例的器件制造方法，就能制造比以往质量更高的器件。
以上说明了本发明的优选实施例，但本发明并不局限于这些实施例，在其要旨范围内能有各种各样的变形和变更。例如本发明的保持装置能用于保持透镜、反射镜或滤光器等各种光学构件。而且，也可以将本发明的保持装置用于支撑掩模和晶片。
根据本发明的保持装置，通过分散施加在光学构件上的应力，就能在不破坏光学构件的前提下，以所需最小限度的应力来进行对光学构件光轴方向和垂直于光轴方向的定位，并且能把光学构件的自重变形控制到最小限度，从而保持光学构件。
权利要求
1.一种修正构件，用于修正光学构件的自重变形，其特征在于具有对所述光学构件实质上外加反重力方向的弹力的第一部件；与所述第一构件夹着所述光学构件而相对配置，在所述光学构件上实质上外加重力方向的弹力的第二部件。
2.一种保持装置，用于保持光学构件，其特征在于具有用于支撑所述光学构件的多个支撑部；用于修正光学构件的自重变形，具有对所述光学构件实质上外加反重力方向的弹力的第一部件，和与所述第一构件夹着所述光学构件而相对配置的、在所述光学构件上实质上外加重力方向的弹力的第二部件的修正构件。
3.根据权利要求2所述的保持装置，其特征在于所述保持装置具有三个所述支撑部，在所述三个支撑部之间分别具有至少各一个所述第一构件和所述第二构件。
4.根据权利要求2所述的保持装置，其特征在于所述第一弹力比所述第二弹力大。
5.根据权利要求2所述的保持装置，其特征在于当所述光学构件的质量为M，所述第一部件和第二部件的个数为n，所述光学构件和所述第一部件以及第二部件的静止摩擦系数为μ，耐横向重力规格为A，耐纵向重力规格为B，所述光学构件的破坏负载为Fmax时，所述第一弹力F1、所述第二弹力F2、基于所述按压部的对所述光学构件的按压力F3满足[表达式2]Fmax≥F1≥M(A/μ+1)/2nFmax≥F2≥M(A/μ-1)/2nFmax≥F3≥BM。
6.根据权利要求2所述的保持装置，其特征在于所述光学构件具有给定的曲率；所述第一部件和所述第二部件具有沿着所述光学构件的所述曲率的外加所述弹力的外加面。
7.一种保持装置，其特征在于具有用于支撑光学构件的三个支撑部；对所述光学构件外加反重力方向的弹力的第一部件；配置在夹着所述光学构件而与所述第一构件相对的位置上，在所述光学构件上外加重力方向的弹力的第二部件。
8.根据权利要求7所述的保持装置，其特征在于在夹着所述光学构件与所述支撑部相对的位置上具有按压构件。
9.根据权利要求7所述的保持装置，其特征在于所述第一弹力比所述第二弹力大。
10.根据权利要求7所述的保持装置，其特征在于当所述光学构件的质量为M，所述第一部件和第二部件的个数为n，所述光学构件和所述第一部件以及第二部件的静止摩擦系数为μ，耐横向重力规格为A，耐纵向重力规格为B，所述光学构件的破坏负载为Fmax时，所述第一弹力F1、所述第二弹力F2、基于所述按压部的对所述光学构件的按压力F3满足[表达式2]Fmax≥F1≥M(A/μ+1)/2nFmax≥F2≥M(A/μ+1)/2nFmax≥F3≥BM。
11.根据权利要求7所述的保持装置，其特征在于所述光学构件具有给定的曲率；所述第一部件和所述第二部件具有沿着所述光学构件的所述曲率的外加所述弹力的外加面。
12.一种曝光装置，其特征在于具有用于保持光学构件的保持装置和光学系统；所述保持装置具有用于支撑所述光学构件的多个支撑部；用于修正光学构件的自重变形，具有对所述光学构件外加反重力方向的弹力的第一部件和与所述第一构件夹着所述光学构件而相对配置的、对所述光学构件外加重力方向的弹力的第二部件的修正构件；所述光学系统通过保持在该保持装置上的光学构件，把形成在掩模或标线上的图案在被处理体上曝光。
13.一种曝光装置，其特征在于具有保持装置和光学系统；所述保持装置具有用于支撑光学构件的三个支撑部；对所述光学构件外加反重力方向的第一弹力的第一部件；配置在夹着所述光学构件而与所述第一构件相对的位置上，在所述光学构件上外加重力方向的第二弹力的第二部件；所述光学系统通过保持在该保持装置上的光学构件，把形成在掩模或标线上的图案在被处理体上曝光。
14.一种器件的制造方法，其特征在于具有使用曝光装置来曝光被处理体的步骤；对所述曝光的所述被处理体进行给定处理的步骤；所述曝光装置具有用于保持光学构件的保持装置和光学系统；所述保持装置具有用于支撑所述光学构件的多个支撑部；用于修正光学构件的自重变形，具有对所述光学构件外加反重力方向的弹力的第一部件和与所述第一构件夹着所述光学构件而相对配置的、对所述光学构件外加重力方向的弹力的第二部件的修正构件；所述光学系统通过保持在该保持装置上的光学构件，把形成在掩模或标线上的图案在被处理体上曝光。
15.一种器件的制造方法，其特征在于具有使用曝光装置来曝光被处理体的步骤；对所述曝光的所述被处理体进行给定处理的步骤；所述曝光装置具有保持装置和光学系统；所述保持装置具有用于支撑所述光学构件的3个支撑部；对所述光学构件外加反重力方向的第一弹力的第一部件；配置在夹着所述光学构件而与所述第一构件相对的位置上的、对所述光学构件外加重力方向的第二弹力的第二部件；所述光学系统通过保持在该保持装置上的光学构件，把形成在掩模或标线上的图案在被处理体上曝光。
全文摘要
本发明公开了一种修正构件，用于修正光学构件的自重变形，它具有对所述光学构件实质上外加反重力方向的弹力的第一部件；与所述第一构件夹着所述光学构件而相对配置的、在所述光学构件上实质上外加重力方向的弹力的第二部件。通过减少造成成像性能恶化的光学元件变形和位置偏移所导致的象差，来获得所希望的光学性能。
文档编号G02B7/02GK1445576SQ0310742
公开日2003年10月1日 申请日期2003年3月20日 优先权日2002年3月20日
发明者须藤裕次 申请人:佳能株式会社