专利名称：光学装置之制造方法
技术领域：
本发明系关于一种具有依据申请专利范围第1项之前言特征之方法。
背景技术：
在光学电信通信技术中，结合复数光学及光电功能于一共同光学装置，尤其是设置于一共同平台(platform)或一共同基板上，的逐渐复杂的装置已经产生。此种功能或功能性组件的范例是光滤波器、开关、衰减器、传输器、放大器或接收器。具有组合的机械、光学、电子以及热功能的载体逐渐被用来当成平台。其中的例子是「电子光学电路板(electrical optical circuit boards)」(EOCB)，其通常被用于多种模式的应用中，或所谓「平面光波电路(planar lightwavecircuits)」(PLC)，也就是所谓用于多种或单一模式应用之平面光学电路。
举例而言，依据公开的欧洲第EP 1 805 354 A1专利申请案之光波电路系关于光学电信通信技术的领域。此光波电路依据一种具有申请专利范围第1项前言的所有特征的方法而被产生。因此，于此种先前已知的方法中，做为光学组件之一光侦测组件被设置于一载体基板上，精确地说，是以该光学侦测器与一设置于该载体基板之内或之上之一波导管光学式地连接的方式。
发明内容
本发明系基于指出一种藉由该方法一光学组件可以用特别简单，且因此具有成本效益的方式，被连接至一载体基板之光波导管方法为目的。
从引言中所指定的方法型态进行，依据本发明，此目的藉由申请专利范围第1项之特征而被达成。本发明有益的修改描述于申请专利范围附属项。
因此，依据本发明之方法提供，具有至少一辅助波导管之一调整装置额外地被设置于光学组件与波导管之间。于此情况中，辅助波导管之波导管端倾向于可移动，以便该光学组件与该载体基板上之波导管之间的光学连接的调整在光学组件被设置之后还是有可能的。
依据本发明之方法的一个必要的优点从以下事实看出，当设置光学组件时，不需要进行调整或设置精确度的特定迫切需求；这是因为就算载体基板上，例如一个「平台」，之光学组件的设置之后，组件与载体基板之波导管之间的光学连接依然是可能的，亦即藉由调整装置的辅助波导管被对应设定或调整。
依据本发明之方法的另一必要优点从以下事实看出，其可以非常简单且因此具有成本效益的方式执行。因此，尤其是，今日在半导体工业中常用的自动定位机器(取及定位机器(pick and placemachines))可被用于光学装置的装设。
这些自动定位机器通常具有制造误差，换句话说即是装设误差，其误差级在5与10μm大小之间。如已知，此种设置误差的大小在光学通信意应用中是完全不能接受的，主要在单一模式应用中，因为，以此种大的误差，不同组件之间的光耦合或光连接可能有不良现象，亦即，具有不需要的衰减或不再可能。在单一模式应用中，装设误差不能超过大约1μ限制值，如果要达成低损失光连接的话。
因此，本发明以具体形式开始，在依据本发明用以光学耦合一光学件至一载体基板之一波导管之方法中，虽然一额外组件是可接受的，其与额外成本及额外费用有关，不过此额外调整装置令其可能使用至今惯用的自动定位机器。对于以微米精确度装设光学组件于一载体基板上之额外昂贵及复杂的调整装置在依据本发明方法之情况中是不需要的。被动调整组件，例如精密微机械停止器，如同已知惯用于微米范围中之装设精确度的情况中，在依据本发明的方法中是不需要的；因此，生产用的高精确结构处理，例如调整组件，例如所提及之精确微机械停止器，同样可省略。
依据本发明之方法的第三必要优点从以下事实看出，光学组件与载体基板之波导管之间的光学读取调整在依据本发明之方法中总是为持可能，因为此调整装置使得读取调整在光学组件的装设之后也是可能的。可以简要地说，本发明之中因包含以下事实，具有可移动波导管端点的调整装置的提供使得从半导体技术已知的具有相当高装设不精确性(高达约10μm的不精确度)的自动定位机器的使用为可能。
依据本发明之方法的有利发展提供此方法被用于装设一光学组件于做为载体板之一电子光学载体系统上，例如一电子光学板。此电子光学载体系统可以例如是一电子光学电路板或一平面光波电路。如以上已经描述，EOCBs及PLCs具有非常多功能且因此具有许多组件，例如光滤波器，开关、衰减器、传输器、放大器或接收器。为了避免在此种「板」或光学印刷电路板的制造期间的复杂调整，依据本发明之方法的使用在该板或印刷电路板上的使用被视为是有利的。
此调整装置可被特别简单地制造，且因此是有利的，如果其系由一辅助基板所形成，于该基板内或上提供至少一具有其可移动波导管端之辅助波导管。具有含可移动波导管端之波导管于其上之基板被揭露于，例如2000年8月21-24日，美国Sheraton Kauai，Resort，Kauai，Hawaii，Sandia National Laboratories，Albuguerque，TuA5，2000IEEE/LEOS International Conference on Optical MEMS，，Olga BlumSpahn，Charles Sullivan，Jeff Burkhart，Vhris Tigges，ErineGarcia之第41及42页文献「GaAs-based microelectromechanicalwaveguide switch」。这是因为当至少一辅助波导管被集积于一辅助基板内或上时，可以确保求助的方法可以是来自微电子之惯用制造技术或来自调整装置之生产中的积体光学。
包含此光学组件，此载体基板以及调整装置可被特别简单地装设，且藉由光学组件首先被设置于调整装置上且被提供光学组件之调整装置接着被连接至载体基板的程序而有利地装设。
为确保所产生的光学装置特别节省空间，这是有益的，如果具有设置于其上之光学组件之调整装置被整合于载体基板表面上之凹处。
此凹处应该以调整装置之波导管及载体基板之波导管位于同一平面的方式而被设定尺寸。此调整装置及载体基板可以形成一共同平面表面。在组件装置或「空间」集积中具有已知的「埋入技术(embedding technique)」的解决方法是可能的。
调整装置及载体基板位于一平面内的情况可以用特别简单的方式达成且因此是有益的，藉由固定组件被形成于调整装置及/或载体基板上，藉此该调整装置被悬挂在该载体基板之凹处内的程序。
此外，那是有益的，如果该固定组件同时被用于载体基板与调整装置之间的接触连接，因为随后可节省额外的电接触。这也间接地简化载体基板与光学组件之间的接触连接。
依据本发明之方法的其它有利修改提供调整装置及载体基板被设置于分离的载体上。此种载体基板及调整装置之分离装置是被推荐的，尤其是当想要在分离的载体上提供其它的组件时。
一般不可避免的是，于设置之后，在光学组件、载体基板与调整装置之间依然存在接缝或凹洞。因此，如果照些凹洞被填入合成组成物是有益的。此合成的成份将以其折射率适合调整装置、载体基板、载体基板及/或光学组件内之波导管之折射率的方式构成，以避免光反射。此合成组成物可具有，特别是，一平均的折射率以便达成最佳适应。
此调整装置可以特别节省空间且因此有益的方式制成，其中至少一波导管被集积于该调整装置中，以其波导管端可由静电、磁、热、压电及/或热机械力转向并调整的方式而变得精确。
光学组件与辅助波导管或辅助波导管与载体基板之间的低损失耦合于调整(二维)是可能的时候达成。这可在具体的项目中达成，当辅助波导管之端点在每一情况中在垂直于辅助波导管的纵向，且因此垂直辅助波导管中光的行进方向的区域内是可移动的-也就是说在二维移动。另一种方式或除此之外，辅助波导管之端点可以沿垂直辅助波导管之纵向的轴移动旋转-也就是说在水平方向，如其所是。
目标并非总是在产生光学组件与载体基板之波导管之间尽可能不松脱的连接；因此，有时候希望有光连接用的预定数量的衰减。为达成此一衰减，那是有益的，如果辅助波导管以目标的方式被不正确地调整以达成光组件与载体基板之波导管之间的预定衰减。
这也是另一种益处，如果设置一个具有光输入及光输出之光学组件的话。此种光学组件包括例如，半导体雷设及半导体光放大器(semiconductor optical amplifier，SOA)。为了使这些组件的装设特别容易且因此是有益的，在调整装置中有益地提供至少二可调整的辅助波导管，并且光学地连接至光学组件及载体基板。之后，那是有益的，如果调整装置被提供相对数目之调整目的用之辅助波导管。
光学装置可以被特别简单地形成且因此是有益的，如果使用玻璃或硅基板做为载体基板，因为使用已知波导管技术是可能的-例如以玻璃为基础之波导管-于此种情况中。无庸置疑的是，其它的波导管，例如聚合物波导管或SOI波导管(SOIsilicon on insulator，绝缘体上的硅)可被形成于玻璃或硅基板上。
为达成在辅助波导管与光学组件之间或辅住波导管与载体基板之间发生的至少一可能的光损失的情况，这是有益的如果辅助波导管以其模(mode)领域适合载体基板及/或光学组件之波导管的方式产生。
此外，那是有益的，如果于调整装置之波导管端已被调整，固定波导管端短于被调整位置之后提供一维持组件。此维持组件可以是，例如机械闩组件及/或以存在的静磨擦力为基础之组件。此种维持组件的另一种好处是，一旦波导管端点已被调整，不再需要被电子式地驱动，例如以便维持该调整，尤其是因为波导管端点的位置维持固定。
本发明另外关于一种具有光学组件连接至一具有至少一波导管之载体基板之一光学装置。
此一光学装置的信息可从，例如在导言中所指出的欧洲专利申请案，获得。
关于此种光学装置，本发明系基于以特别简单的方式产生且因此具有成本效益的方式改善它的目的。
此目的依据本发明系藉由具有申请专利范围第17项之特征的光学装置而达成。依据本发明之光学装置的有益修改系描述于申请专利范围附属项。
关于本发明之装置的优点及装置的有益改变，参照对应的本发明方法之解释。
为说明本发明，图1表示已经由本发明方法制造之本发明装置之第一实施例之侧视图，图2表示依据图1之实施例之平面图，图3表示依据图1及图2以及图4及图5之实施例之调整装置之
具体实施例方式
图1表示具有一光学组件20之光学装置10，其具有一光学连接30。该光学组件20被设置于一辅助基板40之上，以光学组件20之连接设置于辅助基板40之一辅助波导管60之一相对波导管端50的方式。
辅助波导管60具有一第二波导管端70，位于相对一波导管90之一波导管端80。此波导管90被集积于一载体基板100内。
辅助基板40及载体基板100于此例中被设置于一分离的载体110上。
此光学组件20可以是例如一光学发射组件，例如雷射或发光二极管或例如光二极管之光接收组件。
辅助基板40可以是例如一玻璃基板或一硅基板，于其中或于其上集积做为辅助波导管60之光导管。辅助波导管60可以是例如波璃导管或聚合物波导管或类似者。
图2表示具有光学组件20之辅助基板40的平面图。除了光学组件及辅助波导管60，图式揭露另一种被指派给另一辅助波导管60’之另一光学组件20’。图2因此指示不仅是一光学组件20，还包含二或更多其它希望被固定于辅助基板40上之光学组件。在对应的方式中，依具图1在载体基板100上可以提供对应的波导管端点80以及提供该光学组件20，20’等所用之对应的光学连接之波导管90。
依据图1及二之光学装置10最好是依据以下方法产生。首先，此光学组件20被设置于辅助基板40之上。一标准的自动定位机器可被用于此种装设，因为5至10μm的调整误差是可被接受的。这是因为如果光学组件20的连接30没有正确地位于相对辅助波导管50之第一端50之处，则辅助波导管50之第一端50可能在后续的调整步骤中转向。于此情况中，此转向以此方式执行以尽量达成光学组件20与辅助基板40之辅助波导管60之间的最佳耦合。
一旦光学组件20已被固定于辅助基板上，辅助基板40被固定于分离的载体110上。此外，载体基板100设置于分离的载体110上。标准的自动定位机器可再次地被用于装设辅助基板40及载体基板100，因为5至10μm大小阶级的设置精确度也是可接受的。这是因为如果载体基板100的波导管90的波导管端80没有正确地位于相对于辅助波导管60之第二波导管端70之处，则第二波导管端70可以在后续的调整步骤中从其位置重新被调整，亦即因为辅助波导管60之第二波导管端70-与波导管端50相同的方式-以可移动的方式被建置。第二波导管端70因此被移动并调整垂直到在辅助波导管60与载体基板100之间达成最佳耦合为止。
简言之，在图1及图2的光学装置的情况中，光学组件20与载体基板100之波导管90之间的连接只有在组件，亦即被重新调整直到一方面对光学组件20另一方面对载体基板100之理想耦合为止之辅助基板40之辅助波导管60之二波导管端50及70的设置达成之后才被调整。
二波导管端50及70的反转可以在此方式中达成，如果二端50及70维持自由。此二波导管端点50及70维持自由的可能方式的细节表示于图3。
因此图3揭露此辅助波导管60之波导管端50的剖面图。此波导管端50维持自由且在对辅助基板40之侧面或垂直方向没有机械连接。
一电连接200被施加于辅助波导管60上之波导管端50之区域中，该电连接与辅助基板40上之另一电连接210连接。如果随后在连接200及二连接210之一者之间施加一电压，则因为其所行静电路而产生波导管端50之侧向转向。这由图3的双箭头表示。波导管端50的转向部份由参考标号230表示。
因此，波导管端50相对于光学组件20之连接30的调整可以藉由施加一相对的电压至连接200及210而达成。
辅助波导管60之第二波导管端70也可以用对应的方式被转向以便达成对载体基板100之波导管90之光学耦合。
依据图3之调整装置可以被形成于例如硅玻璃基板中。
此外，光学组件20不需要被固定于辅助基板40上；取而代之的是，光学组件20，辅助基板40及载体基板也可于分离载体110上互相沿侧边设置。
图4表示依据本发明光学装置之另一实施例。此光学装置具有图4中的参考标号300。光学装置300具有包含一第一波导管320及一第二波搞管330之一载体基板310。一凹处340被提供于载体基板310中，由辅助基板350形成之调整装置被整合于该凹处内。藉由做为固定组件之调整凸块360而确保辅助基板350与载体基板310之间的连接。
一光徐组件255被设置于辅助基板350之上。光学组件355系具有二连接端370及380之雷射放大器。
第一连接370光学地连接至第一辅助波导管410之一第一波导管端400。第一辅助波导管410具有一第二辅助波导管端420，其光学式地连接至载体基板310之第一波导管320。
光学组件355之第二连接380位于相对第二辅助波导管440之一第一波导管端430之处。第二辅助波导管440之第二波导管端440接着以其光学式地连接至载体基板310之第二波导管330的方式被设置。
图5表示依据图4之辅助基板350之平面图。此图揭露除了第一辅助波导管410及第二辅助波导管440之外，还有其它的辅助波导管，详言之，第三辅助波导管460及第四辅助波导管470。第三辅助波导管460及第四辅助波导管470被用以当成另一光学组件480之连接，其举例而言，可以是一雷射放大器。
此外，图5揭露固定辅助基板350于载体基板310上用之固定凸块360。
此载体基板310可以例如是一电子光学载体系统，例如一电子光学母板。此载体基板可以是，具体的项目是，例如「电光学电路板(EOCB)」或「平面光波电路(PLC)」。依据图4及五之光学装置较好如以下方式产生首先，此光学装置355被设置于辅助基板350之上。调整精确度在此调整中不是很重要，且所以5至10μm精确度是可接受的。因此，此光学组件355-以和另一光学组件480相同的方式-可使用半导体技术中惯用的自动定位机器被设置于辅助基板350上。
在光学组件355或辅助基板350上之另一光学组件480的设置之后，预先设置的辅助基板350被整合于载体基板310之凹处340中。此设置也呈现特定误差，因此再一次可使用半导体技术中惯用的自动定位机器。
一当辅助基板350已被设置在载体基板310之上时，第一辅助波导管410之波导管端400及第二辅助波导管440之二波导管端430及450以达到光学组件355与二波导管320载体基板310之二波导管320及330之间的最佳连接的方式被对齐。
如以上所述，依据图4及五的载体基板310或依据图1及二之载体基板100可已是所谓的PLC(平面光波电路)或一EOCB(电子光学电路板)。EOCBs较好是被使用于多种模式的应用，其中PLCs可被用于多种或单一应用。
在PLCs情况中，一或更多功能层(例如以玻璃，硅，聚合物，金属或任合由这些材料的想要组合)可以被沉积于载体基板材料上(例如玻璃或硅)并且藉由不同的技术被形成结构以便形成波导管320，330于载体基板310之内。
然而，藉由EOCB或PLC平台310或100的适合结构可以直接实现许多功能(例如滤波器)。其它的功能或功能单可随后被调整-如结合图1至五所描述-藉由以所述之方式设置对应的组件于EOCB或PLC平台310或100之上。
参考标号表10 光学装置20 光学组件30 光学组件连接40 辅助基板50 第一波导管端60 辅助波导管70 第二波导管端80 第二波导管端90 波导管100载体基板110分离载体
200 电接触210 电接触220 箭号(移动方向)230 侧面反转位置之波导管240 垂直转向位置之波导管300 光学装置310 载体基板320 第一波导管330 第二波导管340 凹处350 辅助基板355 光学组件360 固定凸块370 第一连接380 第二连接400 第一波导管端410 第一辅助波导管420 第二波导管端430 第一波导管端440 第二辅助波导管450 第二波导管端470 另一辅助波导管480 另一光学组件
权利要求
1.一种产生一光学装置(10，300)之方法，其中一光学组件(355，20)光学式地连接至设置于一载体基板(100，310)之上或内之至少一波导管(90，320，330)，特征在于于该光学组件(20，355)与该波导管(90，320，330)之间设置具有至少一辅助波导管(60，410，440)之一调整装置(40，350)，该等可移动之波导管端点(50，70，400，420，430，450)及该光学组件(20，355)与该载体基板(100，310)之波导管(90，320，330)之间之一光学调整系藉由该可移动波导管端点(50，70，400，420，430，450)之一机械调整而产生效果。
2.如申请专利范围第1项之方法，特征在于，该光学组件(20，355)系连接至一电子光学系统，例如做为载体基板(100，310)之一电子光学主机板、一电子光学电路板或一平面光波电路。
3.如申请专利范围第1或2项之方法，特征在于，该调整装置(40，350)系由其上或其中被设置至少一辅助波导管(60，410，440)之一辅助基板所形成。
4.如前述申请专利范围任一项之方法，特征在于，该光学组件(20，355)首先被设置于该调整装置(40，350)上，且设有该光学组件(20，355)之该调整装置(40，350)连接至该载体基板(100，310)。
5.如申请专利范围第4项之方法，特征在于，该调整装置(40，350)被整合于该载体基板(100，310)表面上之一凹处(340)内。
6.如申请专利范围第4项之方法，特征在于，该凹处(340)以该调整装置(40，350)之该波导管(40，350)及该载体基板(100，310)之波导管位于一平面的方式而被设定尺寸。
7.如申请专利范围第5或6项之方法，特征在于，该固定装置(360)被产生于该调整装置(40，350)及/或该载体基板(300，310)之上，藉由该固定装置使该调整装置(40，350)被整合于，尤其是被悬吊，该载体基板(310)之该凹处(340)。
8.如申请专利范围第7项之方法，特征在于，该固定组件(360)同时被用于该载体基板(300，310)与该调整装置(40，350)之间的接触连接。
9.如前述申请专利范围第1至3项任一项之方法，特征在于，该调整装置(40，350)及该载体基板(100，310)系设置于一分离的载体(110)之上。
10.如前述申请专利范围任一项之方法，特征在于，该辅助波导管(60，410，440)正好以该波导管端(50，70，400，420，430，450)可藉由静电、磁、热、压电及/或热机械力而被转向及调整的方式被整合于该调整装置(40，350)之内。
11.如前述申请专利范围任一项之方法，特征在于，该至少一辅助波导管(60，410，440)之该波导管端(50，70，400，420，430，450)以它们可以在垂直该辅助波导管(60，410，440)之纵向之区域内移动的方式而被形成-也就是说二维地-及/或沿垂直该辅助波导管之该纵向方向之一旋转轴。
12.如前述申请专利范围任一项之方法，特征在于，该辅助波导管(60，410，440)系于一目标的方式中被不正确的调整以便达成光学组件(20，355)与载体基板(100，310)之波导管(90，320，330)之间之一预定的衰减。
13.如前述申请专利范围任一项之方法，特征在于，该调整装置(40，350)与该载体基板(100，310)及/或该光学组件(20，355)之间之凹洞及/或间隔区域被填充一合成组成物，尤其是其折射率适合该调整装置(40，350)，该载体基板(100，310)及/或该光学组件(20，355)之一合成组成物。
14.如前述申请专利范围任一项之方法，特征在于，具有一光输入(370)及一光输出(380)之光学组件(355，480)，尤其是光学半导体雷射及/或半导体放大器，被设置。
15.如申请专利范围第14项之方法，特征在于至少二可调整辅助波导管(410，440)被提供于该调整装置(350)之中，并光学式地连接至该光学组件(355)及该载体基板(310)。
16.如前述申请专利范围任一项之方法，特征在于，具有玻璃波导管及/或聚合物波导管(90，320，330)及/或SOI波导管之一玻璃或硅基板被用以当成该载体基板(310，100)。
17.如前述申请专利范围任一项之方法，特征在于，该至少一辅助波导管(60，410，440)之模(mode)领域适合该载体基板(90，320，330)之模领域及/或该光学组件之模领域(30，370，380)。
18.如前述申请专利范围任一项之方法，特征在于，维持组件被提供，其于该调整装置(40，350)之该波导管端(50，70，400，420，430，450)已被调整之后，固定该波导管端于该调整后的位置内。
19，一种光学装置(10，300)，具有至少一光学组件(355，20)以及至具有至少一波导管(90，320)设置于一载体基板(100，310)之上或内，该光学组件(355，20)及该载体基板(100，310)光学式地连接一起，特征在于该光学组件(20，355)与该波导管(90，320，330)之间设置具有至少一辅助波导管(60，410，440)之一调整装置(40，350)，该等波导管端点(50，70，400，420，430，450)系可移动，且在该光学组件(20，355)与该载体基板(100，310)之波导管(90，320，330)之间产生一光学调整。
20.如申请专利范围第19项之装置，特征在于，该载体基板(100，310)形成一电子光学载体系统，例如一电子光学主机板、电子光学电路板或一平面光波电路。
21.如申请专利范围第19或20项之装置，特征在于，该调整装置(40，350)系由其上或其中被设置至少一辅助波导管(60，410，440)之一辅助基板所形成。
22.如前述申请专利范围第19至21项任一项之装置，特征在于，该光学组件(20，355)被设置于该调整装置(40，350)上，其依序连接至该载体基板(100，310)。
23.如申请专利范围第22项之装置，特征在于，该调整装置(40，350)被整合于该载体基板(100，310)表面上之一凹处(340)内。
24.如申请专利范围第23项之装置，特征在于，该凹处(340)以该调整装置(40，350)之该波导管(40，350)及该载体基板(100，310)之波导管位于一平面的方式而被设定尺寸。
25.如申请专利范围第23或24项之装置，特征在于，该固定装置(360)出现于该调整装置(40，350)及/或该载体基板(300，310)之上，藉由该固定装置使该调整装置(40，350)被整合于，尤其是被悬吊，该载体基板(310)之该凹处(340)。
26.如申请专利范围第25项之装置，特征在于，该固定组件(360)同时被用于该载体基板(300，310)与该调整装置(40，350)之间的接触连接。
27.如前述申请专利范围第19至21项任一项之装置，特征在于，该调整装置(40，350)及该载体基板(100，310)系设置于一分离的载体(110)之上。
28.如前述申请专利范围第19至27项任一项之装置，特征在于，该辅助波导管(60，410，440)正好以该波导管端(50，70，400，420，430，450)可藉由静电、磁、热、压电及/或热机械力而被转向及调整的方式被集积于该调整装置(40，350)之内。
29.如前述申请专利范围任一项之装置，特征在于，该至少一辅助波导管(60，410，440)之该波导管端(50，70，400，420，430，450)以它们可以在垂直该辅助波导管(60，410，440)之纵向之区域内移动的方式而被形成-也就是说二维地-及/或沿垂直该辅助波导管之该纵向方向之一旋转轴。
30.如前述申请专利范围第19至29项任一项之装置，特征在于，该辅助波导管(60，410，440)系被不正确的调整并确保光学组件(20，355)与载体基板(100，310)之波导管(90，320，330)之间之一预定的衰减。
31.如前述申请专利范围第19至30项任一项之装置，特征在于，该调整装置(40，350)与该载体基板(100，310)及/或该光学组件(20，355)之间之凹洞及/或间隔区域被填充一合成组成物，尤其是其折射率适合该调整装置(40，350)，该载体基板(100，310)及/或该光学组件(20，355)之一合成组成物。
32.如前述申请专利范围第19至31项任一项之装置，特征在于，至少一光学组件(355，480)，尤其是光学雷射放大器，被设置，其具有一光输入(370)及一光输出(380)。
33.如申请专利范围第32项之装置，特征在于至少二可调整辅助波导管(410，440)被提供于该调整装置(350)之中，并光学式地连接至该光学组件(355)及该载体基板(310)。
34.如前述申请专利范围第19至33项任一项之装置，特征在于，该载体基板(310，100)系具有玻璃波导管及/或聚合物波导管(90，320，330)及/或SOI波导管之一玻璃或硅基板。
35.如前述申请专利范围第19至34项任一项之装置，特征在于，该至少一辅助波导管(60，410，440)之模(mode)领域适合该载体基板(90，320，330)之模领域及/或该光学组件之模领域(30，370，380)。
36.如前述申请专利范围19至35项任一项之装置，特征在于，维持组件被提供，其于该调整装置(40，350)之该波导管端(50，70，400，420，430，450)已被调整之后，固定该波导管端于该调整后的位置内。
全文摘要
本发明系关于一种产生一光学装置(10，300)之方法，其中一光学组件(355，20)光学式地连接至设置于一载体基板(100，310)之上或内之至少一波导管(90，320)。为使将被连接至一载体基板之一光波导管之一光学组件能于一特别简单且因此具成本效益的方式被连接，本发明提供将被设置之处用之于该光学组件(20，355)与该波导管(90，320，330)之间具有至少一辅助波导管(60，410，440)之一调整装置(40，350)，该等可移动之波导管端点(50，70，400，420，430，450)及该光学组件(20，355)与该载体基板(100，310)之波导管(90，320，330)之间之一光学调整系藉由该可移动波导管端点(50，70，400，420，430，450)之一机械调整而产生效果。
文档编号G02B6/42GK1508582SQ200310102410
公开日2004年6月30日 申请日期2003年10月17日 优先权日2002年10月17日
发明者I·鲍曼恩, D·克拉贝, M·朔贝克, A·舒马彻, , I 鲍曼恩, 沓, 纯 申请人:因芬尼昂技术股份公司