感光性组合物、感光性转印材料、显示装置用遮光层的制作方法

专利名称：感光性组合物、感光性转印材料、显示装置用遮光层的制作方法
技术领域：
本发明涉及感光性组合物、感光性转印材料、用其制成的显示装置用遮光层、备有该显示装置用遮光层的滤色片、液晶显示元件和带有显示装置用遮光层的基板及该带有显示装置用遮光层的基板的制造方法。
背景技术：
彩色液晶显示器等用的滤色片，是在透明基板上形成着色像素层(R、G、B)，而且在为提高显示对比度目的下，于R、G、B(红、绿、蓝)各着色像素的间隙上形成显示装置用遮光层。特别是在使用薄膜晶体管(TFT)的有源矩阵驱动方式的液晶显示元件中，为了防止薄膜晶体管的因光照引起电流泄漏而导致的画质降低，要求显示装置用遮光层具有高的遮光性。
作为显示装置用遮光层的形成方法，已知的方法有例如以铬等金属膜作为遮光层的情况下，利用蒸镀法或溅射法制作金属薄膜，在该金属薄膜上涂布光刻胶，然后用具有显示装置用遮光层用图案的光掩膜对光刻胶层进行曝光和显影，然后腐蚀露出的金属薄膜，最后将金属薄膜上的抗蚀层剥离形成遮光层(例如参见非专利文献1)。
这种方法由于采用金属薄膜，所以即使膜厚小所得到的显示装置用遮光层也可以获得高的遮光效果，但是即使这样，在制造时也需要具备以蒸镀法和溅射法为代表的真空成膜工序和采用液体的腐蚀工序，因而存在成本增高以及不能忽视环境负荷的问题。而且还有另外一个问题，即因为是金属膜所以反射率高，在外部强光下显示的对比度低。针对这些问题，虽然有采用低反射性铬膜(由金属铬与氧化铬两层组成的薄膜等)的手段，但是也不能否认成本将会上升。
另外，作为显示装置用遮光层的其他形成方法，人们还知道采用含有遮光性颜料，例如炭黑的感光性树脂组合物的方法，具体讲在透明基板上形成R、G、B像素后，在此像素上涂布含有炭黑感光性树脂组合物，从透明基板的未形成R、G、B像素一面侧进行全面曝光，即自定位方式显示装置用遮光层形成方法(参见专利文献1)。
此方法与上述金属膜腐蚀法相比虽然制造成本低，但是却存在要获得充分遮光性必须增大膜厚的问题，其结果在显示装置用遮光层与R、G、B像素之间将会产生重叠(台阶)，由于滤色片的平坦性恶化，所以人们担心这样会导致液晶显示元件单元间隙(cell gap)不均，和颜色不均等显示不良的问题。
专利文献1特开昭62-9301号公报非专利文献1共立出版株式会社发行《彩色TFT液晶显示器》第218～220页(1997年4月10日)。

发明内容
本发明正是鉴于这些问题而完成的，其目的在于提供一种能以低成本制造薄膜、遮光性能高的显示装置用遮光层的感光性树脂组合物以及感光性转印材料。
本发明的其他目的在于提供一种薄膜、遮光性能高，而且能以低成本制造的显示装置用遮光层及其制造方法。本发明的进一步目的在于提供一种设有薄膜、遮光性能高的上述本发明的显示装置用遮光层的滤色片和液晶显示元件、以及薄膜、遮光性能高的显示装置用遮光层基板及其制造方法。
本发明的上述课题，通过提供以下的显示装置的遮光层制作用感光性组合物和感光性转印材料、显示装置用遮光层及其制作方法、滤色片、液晶显示元件以及带有显示装置用遮光层的基板而加以解决。
(1)一种感光性组合物，其特征在于其中含有至少一种银沉积核。
(2)一种感光性组合物，其特征在于含有至少一种银沉积核、光聚合性引发剂、光聚合性单体和粘合剂。
(3)上述(1)或(2)记载的感光性组合物，其特征在于其中所述的银沉积核至少含有硫化物。
(4)一种感光性转印材料，其特征在于在支撑体上至少设有感光性银沉积核层的感光性转印材料中，所述的感光性银沉积核层中含有至少一种银沉积核、光聚合引发剂、光聚合性单体和粘合剂。
(5)一种显示装置用遮光层，其特征在于对用上述(1)～(3)中任何一项记载的感光性组合物或者用上述(4)中记载的感光性转印材料在基板上形成的感光性银沉积核层，进行曝光、显影处理后，使银沉积。
(6)一种滤色片，是在光透过性基板上具有由着色层构成、呈现互相不同颜色的两种以上的像素组，且构成上述像素组的各像素互相之间被显示装置用遮光层互相隔离的滤色片，其特征在于所述的显示装置用遮光层是上述(5)记载的显示装置用遮光层。
(7)一种液晶显示元件，其特征在于在至少一个是光透过性的一对基板之间至少备有滤色片、液晶层和液晶驱动手段的液晶显示元件中，所述的滤色片是上述(6)中记载的滤色片。
(8)一种液晶显示元件，其特征在于是至少一个为光透过性的一对基板之间备有滤色片、液晶层和液晶驱动手段的液晶显示元件，其中所述的液晶驱动手段具有有源元件，在各有源元件之间形成有上述(5)所述的显示装置用遮光层。
(9)一种显示装置用带遮光层基板，其特征在于是具有光透过性基板和在该基板上设置的遮光层的显示装置用带遮光层基板，所述的遮光层是上述(5)所述的显示装置用遮光层。
(10)一种显示装置用带遮光层基板的制作方法，其特征在于具有以下工序在光透过性基板上形成其中含有至少一种银沉积核、光聚合引发剂、光聚合性单体和粘合剂的感光性银沉积核层的工序，
对该感光性银沉积核层按照图案曝光，使曝光部分光聚合的曝光工序，利用显影处理液除去未曝光部分，形成银沉积核图案的工序，及采用由卤化银乳剂和银溶剂组成的银络合物处理液处理银沉积核图案，使银沉积在银沉积核上的工序。
采用本发明的感光性组合物，能够能以低成本制作薄膜、遮光性能高的显示装置用遮光层。而且能够提供一种采用了这种感光性组合物的感光性转印材料。
利用上述本发明的感光性组合物得到的本发明的显示装置用遮光层，具有薄膜且遮光性能高的效果，采用本发明的显示装置用带遮光层基板的制造方法，能以低成本、容易制造具有这种显示装置用遮光层的基板。
而且在设置本发明的薄膜且遮光性能高的显示装置用遮光层的情况下，能够提供一种具有优良特性的滤色片和液晶显示元件、以及带有薄膜且遮光性能高的显示装置用遮光层的基板。
具体实施例方式
以下详细说明本发明。
首先说明本发明的感光性组合物。本发明的感光性组合物，其特征在于含有至少一种银沉积核。而且在本发明的第二种实施方式中，本发明的感光性组合物以进一步含有光聚合引发剂、光聚合性单体和粘合剂为特征，均可适用于形成感光性银沉积核层、显示装置用遮光层的受像层。下面依次对这些构成要素进行说明。
(银沉积核)能够在本发明中使用的银沉积核，可以采用摄影领域中公知的卤化银乳剂的制备方法得到。原理上可以通过使二价硫离子(sulfide ion)溶液与金属离子溶液或者各自的单独溶液反应的方法，制备由硫化物组成的核，本发明可以采用这种方法得到的核。
银沉积核，是有助于显影主剂将从卤化乳剂层扩散而来的转印性银络盐还原，形成银微粒作用的化合物。作为银沉积核的具体实例，可以举出铁、铅、锌、镍、锡、铜、铬、钴等重金属以及金、银(包括胶体银)、白金、钯等贵金属。而且贵金属的硫化物和硒化物，例如汞、铜、锌、银、钯等的硫化物，以及铅、锌、锑等的硒化物等都是优选的银沉积核。这些当中特别优选金、白金、钯或其硫化物。
作为能够成为形成银沉积核用二价硫离子的化合物，例如优选硫化钠、硫化钾等水溶性硫化物，但是也可以是含有在丙酮、二丙酮醇或甲醇等有机溶剂中或者在这些有机溶剂与水的混合溶剂中可溶，而且在金属离子间能够形成硫化物的离子的化合物。
作为能够形成钯离子的化合物，例如优选氯钯酸钠盐和钾盐等水溶性的钯化合物，但是也可以是在丙酮、二丙酮醇或甲醇等有机溶剂中或者在这些有机溶剂与水的混合溶剂中溶解的钯化合物。作为能够形成金离子的化合物，例如优选氯金酸及其水溶性盐，但是也可以是在丙酮、二丙酮醇或甲醇等有机溶剂中或者在这些有机溶剂与水的混合溶剂中溶解的金化合物。
制备硫化钯和硫化金等含有多种金属的混合核时，例如可以采用事先将后述的粘合剂溶液和二价硫离子溶液加入加料容器中，一边搅拌一边添加钯和金等形成混合核用多种金属离子的混合溶液的方法；事先将粘合剂溶液和多种金属离子的混合溶液加入加料容器中，一边搅拌一边添加二价硫离子溶液的方法；或者事先仅将粘合剂溶液加入加料容器中，一边搅拌一边同时添加或者以时间差添加多种金属离子的混合溶液和二价硫离子溶液的方法。
这样得到的银沉积核，优选在本发明的感光性组合物中含有1～30重量％，更优选含有3～20重量％。其中这种沉积核的定量测定，例如可以采用荧光X射线测定装置，例如理光(Rigaku)制造的X-RAY SPECTROMETER3370等装置进行。
(光聚合引发剂)
本发明的感光性组合物，为了使其因曝光而固化形成图案，需要含有因曝光而能产生引发物种的光聚合引发剂，和因该引发物种而能产生聚合反应，从而引起固化的光聚合性单体。
作为能够用于本发明的光聚合引发剂实例，可以举出美国第2367660号专利说明书中公开的连位ポリケタルドニル化合物、美国第2448828号专利说明书中公开的偶因醚化合物、美国第2722512号专利说明书中记载的被α-烃取代的芳香族偶因化合物、美国第3046127号和第2951758号专利说明书中记载的多核醌化合物、美国第3549367号专利说明书中记载的三芳基咪唑二聚体与对氨基酮的组合、特公昭51-48516号公报中记载的苯并噻唑化合物与三卤代甲基-s-三嗪化合物、美国特许第4239850号专利说明书中记载的三卤代甲基-s-三嗪化合物、美国特许第4212976号专利说明书中记载的三卤代甲基氧杂二唑化合物等。其中特别优选的是三卤代甲基-s-三嗪、三卤代甲基氧杂二唑、三芳基咪唑二聚体、米嗤勒氏酮、苄基二甲基缩酮。
这些光聚合引发剂可以单独使用或者两种以上混合使用。
本发明的感光性组合物中光聚合引发剂含量，从感度和形成的图像强度来看，按照固形分计算优选为0.5～20重量％，更优选2～15重量％。
本发明中，也可以使用具有感光性的高分子化合物作为光聚合引发剂。这种感光性高分子化合物，可以举出在高分子化合物结构中含有肉桂酰基、马来酰亚胺基等作为感光性基团的高分子化合物。
具体讲可以举出在特开平2-157762号、英国专利第1112277号、同第1313390号、同第1341004号、同第1377747号等上记载的感光性高分子化合物。
这种感光性高分子化合物可以代替上述光聚合引发剂或者在其中加入使用。感光性高分子化合物在感光性组合物中的优选添加量，按照固形分计算处于20～80重量％范围内。
(光聚合性单体)适于本发明使用的光聚合单体，可以举出分子中有至少一个加成聚合性烯类不饱和基团、常压下沸点处于100℃以上的化合物。
具体讲，例如可以举出聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯等单官能团丙烯酸酯和单官能团甲基丙烯酸酯；聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三((甲基)丙烯酰氧基丙基)醚、三((甲基)丙烯酰氧基乙基)三聚异氰酸酯、三((甲基)丙烯酰氧基乙基)氰脲酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯、在三羟甲基丙烷和甘油等多官能团醇类加成环氧乙烷和环氧丙烷后的(甲基)丙烯酸酯化物；以及在特公昭48-41708号、特公昭50-6034号、特开昭51-37193号等各公报中记载的尿烷丙烯酸酯类，特开昭48-64183号、特公昭49-43191号、特公昭52-30490号等各公报中记载的聚酯丙烯酸酯类，环氧树脂与(甲基)丙烯酸酯的反应生成物的环氧基丙烯酸酯等多官能团(甲基)丙烯酸酯等。
其中从聚合性和聚合后膜强度的观点来看，作为更优选的实例可以举出三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯。
本发明的感光性组合物中光聚合单体的含量，从聚合后的膜强度和显影性能综合观点来看，按照固形分计算优选为20～80重量％，更优选为40～60重量％。
(粘合剂)从提高膜性能和未曝光部分除去性能的观点来看，本发明的感光性组合物中优选含有碱溶性粘合剂。
作为能够在本发明中使用的碱溶性粘合剂，具体讲可以组合使用从以下宽范围的各种高分子化合物中选出的化合物。作为能够组合使用的化合物，优选根据与并用成分的相关性适当选择银沉积核分散性良好、而且与光聚合单体、光聚合引发剂的相溶性良好，碱性显影液溶解性、有机溶剂溶解性、强度、软化温度等适当的化合物。
作为这样的碱溶性粘合剂，具体讲可以举出(甲基)丙烯酸与(甲基)丙烯酸酯的共聚物、苯乙烯/马来酸酐共聚物、和该共聚物与醇类的反应物等；优选使用(甲基)丙烯酸与(甲基)丙烯酸酯的共聚物。
粘合剂的重均分子量优选处于5,000～200,000范围内。
粘合剂虽然也可以数种组合使用，但是感光性组合物中粘合剂的优选含量，以粘合剂合量计占全部固形分的20～80重量％。
本发明的感光性组合物中，除了上述成分以外，必要时还可以添加热聚合抑制剂、溶剂和密着性促进剂等各种成分。
热聚合抑制剂，在作为感光性成分组合使用上述那种加成聚合性不饱和单体(相当于本发明的光聚合性单体)与光聚合引发剂的情况下，以提高组合物的保存稳定性而添加的，作为具体实例可以举出氢醌、对甲氧基苯酚、二叔丁基-对-甲酚、焦棓酚、叔丁基邻苯三酚、苯醌、4，4-硫代双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2，2’-亚甲基双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、2-巯基苯并咪唑、吩噻嗪等。
以下说明本发明的用于形成显示装置用遮光层的受像层感光性银沉积核含有层制作用的感光性转印材料。
通过在支撑体上形成上述本发明的感光性组合物组成的受像层，可以得到受像层制作用感光性转印材料。
本发明中的这种转印材料，既可以是在支撑体上依次设有至少含有卤化银的层、和由上述感光性组合物形成的银沉淀核层的转印材料，而且本发明的转印材料也可以是使用在支撑体上仅设有受像层的转印材料，在该受像层的表面上采用卤化银乳剂层形成图像的转印材料。
无论哪种转印材料，均是在玻璃基板等永久支撑体上转印形成图像，即当形成后述的显示装置用遮光层等的情况下优选在受像层上层叠卤化银乳剂层。
本发明的转印材料中的支撑体，一般是作为假支撑体在图像形成时或者图像形成后被除去，这种假支撑体可以采用聚酯、聚苯乙烯等公知的支撑体。其中从成本、耐热性和尺寸稳定性的观点来看，优选双向拉伸的聚对苯二甲酸乙二醇酯。支撑体的厚度，从层叠工序时的对加热的形状稳定性、尺寸稳定性和成本观点来看，优选15～200微米左右，更优选30～150微米左右。
而且，必要时也可以在假支撑体上设置像特开平11-149008号公报记载的那样的导电层。
本发明的显示装置用遮光层的受像层用感光性转印材料，如上所述，可以采用将本发明的感光性组合物溶解在适当溶剂中，在支撑体(也可以是假支撑体)上涂布和干燥后，形成显示装置用遮光层制作用的受像层的方法得到。
作为能够在感光性组合物涂布时用的溶剂实例，可以举出苯、甲苯、二甲苯、环己烷、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、乙二醇单甲醚乙酸酯、乙二醇单乙醚乙酸酯、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯、丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、丁醇、仲丁醇、叔丁醇、N-甲基吡咯烷酮、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、γ-丁内酯、ε-己内酯、二甲基亚砜、六甲基磷酰胺、水等。这些溶剂可以单独使用，或者根据需要以两种以上混合物形式使用。
涂布方法并无特别限制，可以采用公知方法，例如用旋涂器(旋涂方式、狭缝旋涂方式)、旋转式感光剂涂膜机、辊式涂布机、幕式涂布机、刀涂器、丝棒涂布器、挤压涂布器(FAS方式)等涂布机涂布后干燥的方法形成。在设置后述的碱溶性热塑性树脂层的情况下，也能同样形成层。
受像层的涂布量可以根据目的适当选择，一般而言优选使干燥后的涂布量为0.2～2.0微米。
本发明的转印材料中，为了提高表面光泽和平滑性，或者为了防止含有银沉积核的受像层被划伤，也可以在含有银沉积核的受像层上涂布设置剥离层或保护层。
(热塑性树脂层)
本发明的转印材料中，优选在支撑体与受像层之间，或者在支撑体与后述的中间层之间设置热塑性树脂层，特别是碱溶性热塑性树脂层。
碱溶性热塑性树脂层，是能够吸收支撑体表面的凹凸或者因已形成图像等造成的凹凸等基底表面上的凹凸的、起着缓冲材料作用的层，优选由具有能根据该凹凸而变形性质的树脂形成。
作为碱溶性热塑性树脂层所含的树脂，优选从乙烯与丙烯酸酯共聚物的皂化物、苯乙烯与(甲基)丙烯酸酯共聚物的皂化物、乙烯基甲苯与(甲基)丙烯酸酯共聚物的皂化物、聚(甲基)丙烯酸酯、及(甲基)丙烯酸丁酯与醋酸乙烯酯等的(甲基)丙烯酸酯共聚物的皂化物中选出的至少一种，此外还可以使用在《塑料性能便览》(日本塑料工业联盟、全日本塑料成形工业联合会编著，工业调查会发行，1968年10月25日发行)中记载的有机高分子中在碱性水溶液中可溶性的那些。而且这些热塑性树脂中优选软化点处于80℃以下的。其中在本说明书中往往把丙烯酸和甲基丙烯酸二者或其中任何一个称为“(甲基)丙烯酸”，其衍生物的情况也同样。
作为热塑性树脂层的成分，优选上述树脂中重均分子量为5～50万(Tg＝0～140℃范围内)的，更优选重均分子量为6～20万(Tg处于30～110℃范围内)的。
可以使用树脂的具体实例，可以举出下列专利说明书中记载的在碱性水溶液中可溶性树脂特公昭54-34327、特公昭55-38961、特公昭58-12577、特公昭54-25957、特开昭61-134756、特公昭59-44615、特开昭54-92723、特开昭54-99418、特开昭54-137085、特开昭57-20732、特开昭58-93046、特开昭59-97135、特开昭60-159743、OLS3504254、特开昭60-247638、特开昭60-208748、特开昭60-214354、特开昭60-230135、特开昭60-258539、特开昭61-169829、特开昭61-213213、特开昭63-147159、特开昭63-213837、特开昭63-266448、特开昭64-55551、特开昭64-55550、特开平2-191955、特开平2-199403、特开平2-199404、特开平2-208602。特别优选的是特开昭63-147159号说明书中记载的甲基丙烯酸/2-乙基己基丙烯酸酯/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸甲酯共聚物。
而且作为热塑性树脂层的成分，优选组合选用上述的重均分子量为5万-50万的树脂和，上述的各种树脂中重均分子量为3千～3万(Tg处于30～170℃范围内)的，更优选组合选用重均分子量为4千～2万(Tg处于60～140℃范围内)的。
这些的优选的具体实例虽然可以从上述专利说明书中记载的物质中选择，但是特别优选的可以举出记载在特公昭55-38961号和特开平5-241340号说明书中的苯乙烯/(甲基)丙烯酸共聚物。
而且在构成这些热塑性树脂层的有机高分子组合物中，为了调节与支撑体之间的粘着力，可以加入各种增塑剂、各种聚合物和过冷却物质、密着性改进剂或者表面活性剂、脱模剂等。
优选的增塑剂的具体实例可以举出聚丙二醇、聚乙二醇、对苯二甲酸二辛酯、对苯二甲酸二庚酯、对苯二甲酸二丁酯、磷酸三甲苯酯、磷酸甲苯·联苯酯、磷酸联苯基二苯基酯、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、环氧树脂与聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯的加成反应生成物、有机二异氰酸酯与聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯的加成反应生成物、有机二异氰酸酯与聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯的加成反应生成物、双酚A与聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯的缩合反应生成物等。
碱溶性热塑性树脂层中增塑剂的量，相对于该热塑性树脂而言一般处于200质量％以下，优选处于20～100质量％范围内。
碱溶性热塑性树脂层的厚度优选处于6微米以上。热塑性树脂层厚度若处于6微米以上，能够完全吸收基底表面上的凹凸。而且关于上限从显影性能和制造适用性来看一般为100微米以下，优选处于50微米以下。
本发明中关于热塑性树脂层的溶剂，只要是能溶解构成此层的树脂的就能不受限制地使用，例如可以举出甲基乙基酮、环己酮、丙二醇单甲醚乙酸酯、正丙醇、异丙醇等。
(中间层)本发明的感光性转印材料中，也可以在支撑体与受像层之间设置中间层。这种中间层在转印后优选具有受像层的保护层，即氧遮断层的功能。
作为构成中间层的树脂，只要是碱溶性的就无特别限制。作为这种树脂的实例，可以举出聚乙烯醇系树脂、聚乙烯基吡咯烷酮系树脂、纤维素系树脂、丙烯酰胺系树脂、聚环氧乙烷系树脂、明胶、乙烯基醚系树脂、聚酰胺系树脂及其共聚物。而且还可以使用将像聚酯那样通常为非碱溶性的树脂与具有羧基、磺酸基的单体共聚而制成的树脂。
必要时中间层中还可以添加表面活性剂等添加剂。
中间层的厚度，从氧遮断性能和显影时中间层的除去性能的综合观点来看，优选0.1～5微米，更优选0.5～3微米。
作为中间层的涂布溶剂只要能溶解上述树脂的就无特别限制，但是优选采用水。而且还优选将水与上述的与水混溶性有机溶剂混合的混合溶剂。作为优选实例如下水、水/甲醇＝90/10、水/甲醇＝70/30、水/甲醇＝55/45、水/乙醇＝70/30、水/1-丙醇＝70/30、水/丙酮＝90/10、水/甲基乙基酮＝95/5(这里混合比例均表示重量比)。
本发明中，可以在支撑体一侧涂布设置含有银沉积核的受像层，还可以在支撑体的另一侧涂布设置背层。此外，也可以在碱中和层与中和假层之间设置图像稳定化层，在含有银沉积核的受像层上设置保护层。使用纤维素酯类作为银沉积核的粘合剂的情况下，如果预先在氢氧化钠或氢氧化钾之类碱性水溶液、该碱的水/醇混合溶液或者该碱的醇溶液中水解纤维素酯而将部分或者全部变成亲水性再生纤维素，则碱性显影液和银离子络合物就会向受像片材中浸透、扩散，所以优选。
为了改进在本发明中形成的银图像的保存性能，也可以在含有银沉积核的受像层与支撑体之间涂布设置扑获卤离子用层，而且还可以例如像特开昭59-231537号公报中记载的那样，使受像层中含有图像保存性改进剂。
(加工方法)将上述方法得到的本发明的转印材料，裁断成所需尺寸之后使用，此时的加工方法，即加工时的裁断方法并无特别限制，可以采用公知方法。
按照图像对上述感光性银乳剂层或含有感光性银沉积核的受像层曝光、显影时，可以仅在曝光区域形成图案上固化的银沉积核层或受像层。
当使卤化银乳剂与此银沉积核作用的情况下，银沉积在银沉积核上，图案状的银沉积核层或受像层将会显色，形成图像而变成银沉积核层，发挥遮光层的功能。可以使用这种遮光层区域作为显示装置用遮光层。
也就是说，采用上述的本发明显示装置用遮光层受像层制作用感光性组合物、以及用该感光性组合物作为受像层的本发明的显示装置用遮光层受像层制作用感光性转印材料形成遮光层的情况下，能够得到本发明的显示装置用遮光层。
本发明的显示装置用遮光层的第一制造方法如下。
经过在光透过性基板上形成以含有至少一种银沉积核、光聚合引发剂、光聚合性单体和碱溶性粘合剂为特征的银沉积核层的工序；将其按照图案曝光，使曝光部分固化的曝光工序；利用显影处理液将未曝光部分的图像形成层除去的显影工序；利用银络合物处理液在银沉积核上沉积银的工序形成图像部即图案状的遮光层，变成显示装置用遮光层。
第2制造方法如下。
在光透过性基板上，形成含有至少一种银沉积核、光聚合引发剂、光聚合性单体和粘合剂的感光性银沉积核层的工序；利用含有卤化银溶剂的银络合物处理液，从卤化银乳剂在银沉积核上沉积银的工序；通过曝光显影形成银沉积图案的工序形成图像部即图案状的遮光层，变成显示装置用遮光层。
卤化银乳剂以下说明卤化银乳剂。卤化银乳剂，可以采用使支撑体上形成的含有一种或一种以上卤化银乳剂的感光层与上述受像层接触的方法，或者采用将含有卤化银乳剂的感光性组合物涂布液涂布在受像层表面上的方法来使用。
其中使用的卤化银乳剂，可以采用银盐照相领域中公知的那些。作为卤化银，特别优选高感度碘溴化银(碘含量为1～10摩尔％)。这些物质可以分散在适当的保护胶体物质中，例如明胶、酪蛋白、白蛋白、聚乙烯醇、聚丙烯酰胺等中使用。
适于这种用途的适当乳剂，可以按照P.Glafkides著《Chimie etPhydique Photographique》(Paul Montel出版社出版，1967年)、G.F.Duffin著《Photographic Emulsion Chemistry》(The Focal Press出版社出版，1966年)和V.L.Zelikman等人著《Making and CoatingPhotographic Emulsion》(The Focal Press出版社出版，1964年)等上记载的方法制备。
这些卤化银乳剂还可以根据需要进行化学增感、分光增感、强色增感。
而且也可以添加灰雾防止剂、坚膜剂、显影促进剂、表面活性剂、抗静电剂等。
卤化银乳剂预先添加于银络合物处理液中，优选用明胶、PVA等粘合剂涂布在银沉积核层上。
银络合物处理液下面说明用于本发明的银络合物处理液的卤化银溶剂。作为卤化银溶剂，可以使用在银盐照相领域中被用作“定影剂”的物质。
具体可举出硫代硫酸盐、氰酸盐，可以使用硫代硫酸钠、硫代硫酸铵、氰酸钠等。另外，环亚胺和氨或者胺的组合，例如尿嘧啶和胺的组合也是优选的卤化银溶剂。本发明的银络合物处理液中除了卤化银溶剂以外根据需要也可以添加卤化银显影主药、碱剂。
适当的卤化银显影主药，可以使用在苯环的邻位或对位被至少两个羟基和/或氨基取代的苯衍生物，例如氢醌、阿米酚、米吐尔、甘氨酸、对氨基苯酚和焦棓酚以及羟基胺类，特别是伯和仲脂肪族、以及芳香族N-取代或β-羟基胺类，这些是在碱性水溶液中可溶性的，例如包括羟基胺、N-甲基羟基胺、N-乙基羟基胺、以及美国专利第2857276号中记载的那些和第3293034号美国专利中记载的N-烷氧基烷基取代羟基胺类。也可以使用特开昭49-88521号公报中记载的具有四氢糠基的羟基胺衍生物。而且还可以使用西德专利公开(OLS)2009054号、同2009055号和同2009078号中记载的氨基还原酮类，以及第4128425号专利中记载的杂环氨基还原酮类。此外也可以使用第3615440号专利中记载的四烷基还原酸。
而且可以与上述显影剂并用辅助显影剂1-苯基-3-吡唑烷酮、对氨基苯酚和抗坏血酸。在适当的卤化银溶剂中包括，通常的定影剂，例如硫代硫酸钠、硫氰酸钠、硫代硫酸铵和第2543181号美国专利中记载的那些，以及环状酰亚胺与含氮碱的组合例如巴比妥酸盐或尿嘧啶和氨的组合，以及第2857274号美国专利中记载的那些组合。
此外在上述处理要素中添加卤化银，能够使形成图像的银沉积核显影。
作为本发明的碱剂，只要是能够提高pH值的物质，就没有特殊的限制，都可以使用，优选氢氧化钠、氢氧化钾。
本发明的银络合物处理液优选在0℃-50℃、更优选在5℃-35℃的范围内处理10秒-30分钟，更优选处理15秒-10分钟。如果处理温度过低或处理时间过短，遮光层的光学密度有可能不够充分，相反，如果处理温度过高或处理时间过长，遮光层的色调会恶化，或者导致反射率的增大。
在本发明的银络合物处理中，银络合物处理液的使用量优选设为能使每1克银沉积核上沉积100克至10000克左右的银的量，更优选能沉积500克至5000克左右银的量。如果量过少，则遮光层的光学密度有可能不够充分，而如果量过多，成本方面不利。
本发明的感光性转印材料，由于设有由如上所述的由受像层组合物形成的感光性遮光层，所以能够制成备有薄膜状并光学浓度高的遮光层的显示装置用遮光层。
这样制成的构成本发明的显示装置用遮光层的遮光层的膜厚为0.2～1.0微米左右，优选处于0.6微米以下。本发明的显示装置用遮光层中的遮光层，由于是使隐蔽力强的银沉积核沉积而成的，所以即使是如上所述的薄膜也具有充分的光学浓度。
为使这种遮光层在显示装置用遮光层上形成适当图案，利用常法通过显示装置用遮光层用光掩膜使此受像材料曝光，然后进行显影即可。通过这种图案曝光，仅使由含有作为显色要素的银沉积核的显示装置用遮光层受像层制作用感光性组合物构成的受像层的曝光部分固化。
为使形成的图案状受像层显色，可以采用上述卤化银乳剂，其方法是任意的。
为了将转印法用于卤化银乳剂上，可以采用以下方法，即在光透过性基板上准备具有含卤化银乳剂的感光层的层叠材料，借助于显示装置用遮光层用光掩膜使由本发明感光性组合物组成的受像层曝光、显影后，配置、层叠在形成的受像层图案的表面上使其与感光层接触，经过预定时间后，将感光层剥离，形成显示装置用遮光层。
而且，借助于显示装置用遮光层用光掩膜，使由本发明感光性组合物组成的转印材料曝光、显影后，在受像层图案表面上涂布使其含有卤化银乳剂的组合物涂布液，经过预定时间后除去涂布液，使固化的图案显色形成遮光层，这样也能得到显示装置用遮光层。此外，借助于显示装置用遮光层用光掩膜曝光后，利用涂布法在受像层图案表面上涂布使其含有卤化银乳剂的显影液，这样也能同时进行显影和显色。
不仅如此，将二者，即转印法与涂布法组合，形成具有所需特性的遮光层，也能得到显示装置用遮光层。
本发明的显示装置用遮光层的制造方法，无需进行繁琐的工序，成本低。
(显影液)显影工序中使用的碱性水溶液，虽然碱性物质的稀水溶液是适当的，但是其中还包括添加了少量与水混合性的有机溶剂的。适当的碱性物质有碱金属氢氧化物类(例如氢氧化钠、氢氧化钾)、碱金属碳酸盐类(例如碳酸钠、碳酸钾)、碱金属碳酸氢盐类(例如碳酸氢钠、碳酸氢钾)、碱金属硅酸盐类(例如硅酸钠、硅酸钾)、碱金属偏硅酸盐类(例如偏硅酸钠、偏硅酸钾)、三乙醇胺、二乙醇胺、一乙醇胺、吗啉、四烷基氢氧化铵类(例如四甲基氢氧化铵)或磷酸三钠。
碱性物质的浓度为0.01质量％～30质量％，pH优选8～14。
而且当显影液含有上述卤化银乳剂的情况下，其添加量相对于1摩尔卤化银溶解物质优选处于0.3～3摩尔范围内。

本发明的滤色片，在光透过性基板上具有由着色层组成、呈现互不相同颜色的两个以上像素组，构成上述像素组的各像素具有互相被显示装置用遮光层分离的结构，该显示装置用遮光层是用本发明的上述显示装置用遮光层制作用受像层组合物或者感光性转印材料制作的本发明的显示装置用遮光层。
像素组既可以是两个，也可以是三个或四个以上。例如三个的情况下，可以采用红(R)、绿(G)和蓝(B)三种颜色。配置红、绿、蓝三种颜色像素组的情况下优选采用嵌镶型、三角形等配置，而配置四种以上像素的情况下也可以采用任何一种配置。
作为滤色片用的光透过性基板，可以采用表面上有氧化硅薄膜的钠玻璃板、低膨胀玻璃板、非碱性玻璃板、石英玻璃板等公知的玻璃板或者塑料薄膜等。
制作滤色片时，可以采用常法在光透过性基板上形成两个以上像素组后，按照上述那样形成显示装置用遮光层，或者也可以最初形成显示装置用遮光层，然后形成两个以上像素组。
本发明的滤色片，由于备有如上所述的显示装置用遮光层，所以显示对比度高，而且平坦性优良。
本发明的液晶显示元件之一，由于在至少一个光透过性的一对基板之间至少备有滤色片、液晶层和液晶驱动手段(包括单纯矩阵驱动方式和有源矩阵驱动方式)，所以作为上述滤色片，是采用具有如上所述的多数像素组，构成上述各像素组的各像素互相之间被本发明的显示装置用遮光层所分离的滤色片。
由于上述滤色片平坦性高，所以备有这种滤色片的液晶显示元件，在滤色片与基板之间不会产生单元间隙不均，因而不会产生颜色不均等显示不良的问题。
而且作为这种液晶显示元件的另外实施方式，可以举出在至少一个光透过性的一对基板之间，至少备有滤色片、液晶层和液晶驱动手段，所述的液晶驱动手段具有有源元件(例如TFT)，而且在各有源元件之间形成有采用本发明的显示装置用遮光层制作用受像层组合物或者感光性转印材料制作的显示装置用遮光层的。
本发明的显示装置用带遮光层的基板，具有设置在光透过性基板上的遮光层。该遮光层上由于扩散在银沉积图案上的银络合物作为银微粒子所沉积，所以在受像层的厚度方向上银微粒子的粒径、形状比(aspect比)及容积百分数有所不同。因此，与利用粒径分布较窄的银微粒子调制的遮光层相比，可以获得接近无彩色的纯黑色。进而，沿厚度方向的深度越深，银微粒子的容积百分数越小，即使加热银微粒子也不会熔接。因此从遮光层的背面观察时，遮光层的色调可以保持纯黑色，作为显示装置用遮光层较为理想。
而且本发明的显示装置用带遮光层的基板能够用于制作滤色片。
这种显示装置用带遮光层的基板中的遮光层的膜厚，优选处于0.2～2.0微米，特别优选处于0.2～0.9微米。本发明的显示装置用遮光层基板中的遮光层由于是将银微粒分散而成的，所以即使是如上所述薄膜也具有充分的光学浓度。
实施例以下具体列举实施例对本发明作更详细说明，但是本发明并不受这些
(实施例1)1.受像材料的制作(感光性含有银沉积核的受像层涂布液的制备)将24.3克甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物(摩尔比73/27，重均分子量＝3万)溶解在380克丙酮和308克甲基乙基酮中，将此溶液加入容器中，一边以550rpm搅拌一边向其中以每秒1毫升的速度加入16毫升0.07M硫化钠9水合物的盐水溶液和36毫升丙酮的混合液，然后继续搅拌2分钟，接着以每秒1毫升速度加入0.070M四氯化钯二钠三水合物的盐水溶液和36毫升甲醇的混合液，然后继续搅拌5分钟。这些操作在25℃下进行。
进而添加17.3克甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物(摩尔比＝78/22，重均分子量＝4万)和132克甲氧基丙二醇乙酸酯、39.5克二季戊四醇六丙烯酸酯、2.02克2-三氯甲基-5-(对苯乙烯基苯乙烯基)-1，3，4-噁二唑、0.2228克吩噻嗪、1.194克Megafac F176PF(大日本油墨制造，含氟表面活性剂)并搅拌，得到了含有银沉积核的感光性组合物，并作为含感光性银沉积核的受像层的涂布液。
(含感光性银沉积核的受像层的形成)利用旋涂器在玻璃基板上涂布上述含感光性银沉积核的受像层的涂布液使膜厚达到0.2微米，在100℃下干燥5分钟，形成了含感光性银沉积核的受像层。然后用旋涂器在其上涂布下记保护层涂布液使膜厚达到1.5微米，在100℃下干燥5分钟后得到了含感光性银沉积核的受像材料。
〔保护层涂布液〕聚乙烯醇(クラレ株式会社制造，PVA205) 3.0质量份聚乙烯基吡咯烷酮(GAF公司出品，PVP-K30)1.3质量份蒸馏水50.7质量份甲醇 45.0质量份2.显示装置用遮光层的制作(曝光和显影)借助于显示装置用遮光层用光掩膜，利用超高压汞灯以70mJ/cm2表面能量从涂布面侧对上述得到的受像材料进行曝光。然后利用显影处理液TCD(富士胶片株式会社制造，碱性显影液)在33℃下显影处理20秒钟后水洗，利用气刀除去水后干燥。进而在240℃下热处理50分钟后，形成了含有银沉积核的受像层图案(银沉积核图案)。
〔银络合物处理液的制备〕银络合物处理液制备了具有下记组成的。
40％氢氧化钠水溶液323毫升氧化锌9.75克
N，N-双甲氧基乙基羟基胺 75克乙醇胺水溶液(6.2份水对4.5份乙醇胺)17.14克四氢嘧啶硫酮 0.4克2，4-二巯基嘧啶 0.35克尿嘧啶80克水1193克(银乳剂)向该溶液中再添加平均粒径1.1微米的碘溴化银(AgI含量6.0摩尔％，均一型结构)、4-羟基-6-甲基-1，3，3a，7-四氮杂茚(tetrazaindene)、下记增感色素A、B、C，分别达到下记涂布量，将制成的含有乳剂的银络合物处理液涂布在已形成有图案的银沉积核上，其干燥膜厚为40微米。
碘溴化银(换算成银2.0)4-羟基-6-甲基-1，3，3a，7-四氮杂茚(0.01)下记增感剂色素A(3.2×10-4)下记增感剂色素B(3.2×10-4)下记增感剂色素C(1.2×10-4)还有[ ]内的数字表示固形分换算涂布量，单位为克/平方米。
通过以上操作制作了在玻璃基板上设置有感光性银沉积核层、保护层的试样。
化1

涂布后在25℃保持40秒钟，使银沉积在银沉积核上。然后用30℃的蒸馏水除支多余的银络合物处理液，用气刀除去水后干燥。通过这种处理，在一个工序中进行除去未固化的受像层，和因固化的受像层图案显色成黑色而形成图案状遮光层的操作，得到了具有图案状遮光层的实施例1的显示装置用遮光层。
〔显示装置用遮光层的评价〕1.膜厚的测定利用以下方法测定了膜厚。利用超高压汞灯在70mJ/cm2曝光能量条件下从涂布面一侧对涂布了受像层的样品进行曝光，使受像层固化。在形成的显示装置用遮光层中，利用触针式表面粗度计(TENKOP公司制造)测定了受像层形成区域和未形成区域(仅有支撑体的区域)的膜厚，求出二者之差，以此方式测定了受像层的厚度。
2.光学浓度的测定利用以下方法测定了膜的光学浓度。利用超高压汞灯从涂布面侧对玻璃基板上涂布的银沉积核层进行500mJ/cm2的曝光，然后用贝克曼浓度计(麦克贝斯公司制造的TD-904)测定其光学浓度(OD)。利用同样方法测定另一玻璃基板的光学浓度(OD0)，以两个光学浓度之差，即OD与OD0之差值作为膜的光学浓度。
3.蓝、红、绿色像素的形成和像素气泡的评价利用公开专利公报2002-341127号说明书中实施例1记载的样品R1、G1、B1，在形成了显示装置用遮光层的玻璃基板上形成了各种颜色的像素。关于像素的形成方法采用了此专利中记载的方法。
由于在显示装置用遮光层的凹凸上形成了各种颜色像素，所以在玻璃基板与各种颜色像素之间往往会混入气泡。利用下述方法测定了这种气泡的产生程度。
利用光学显微镜就此基板的三种颜色像素各100个总数300个像素目视观测计数气泡数目。数目越少评价越好。
4.加热引起显示装置用遮光层的色调变化目视观察在220℃下对形成了显示装置用遮光层的玻璃基板热处理2小时前后显示装置用遮光层的色调变化情况，其中在以下评价中实用上容许的是A～C的水平。
没有见到任何变化 A仅有少许金属光泽的B虽有少许金属光泽，但是实用上容许的C金属光泽达到影响实用程度的D具有完全金属光泽的E以上评价结果示于表1之中。
(实施例2～7)代替实施例1中形成银沉积核用的0.070M的四氯化钯二钠三水合盐的水溶液，分别使用同浓度的氯金酸水溶液(实施例2)、氯化铱水溶液(实施例3)、氯化铜水溶液(实施例4)、氯铂酸水溶液(实施例5)、二氯化锇水溶液(实施例6)和硝酸银水溶液(实施例7)，除此以外与实施例1同样形成显示装置用遮光层，并进行了同样的评价。结果一并记入表1之中。
(实施例8～11)代替实施例1中形成银沉积核用的0.070M的四氯化钯二钠三水合盐的水溶液，按照表1所示比例并用同浓度的四氯化钯二钠三水合盐的水溶液、氯金酸水溶液、氯铂酸水溶液和硝酸银水溶液，除此以外与实施例1同样形成显示装置用遮光层，并进行了同样的评价。结果一并记入表1之中。
(实施例12)在实施例1中形成含有感光性银沉积核的受像层之后，添加平均粒径为1.1微米的碘溴化银(碘化银含量为6.0摩尔％，均匀型结构)、4-羟基-6-甲基-1，3，3a，7-四氮杂茚、下记增感色素A、B、C调制卤化银乳剂液，使其涂布量分别达到下述的量。
碘溴化银[银换算2.0]4-羟基-6-甲基-1，3，3a，7-四氮杂茚
上记增感色素A[3.2×10-4]上记增感色素B[3.2×10-4]上记增感色素C[1.2×10-4]明胶 [2.0]还有[ ]内的数字表示固形分换算涂布量，单位为克/平方米。
在其上，涂布实施例1中记载的保护层涂布液，其干燥膜厚为1.5微米，从而形成了含有感光性银沉积核的受像材料。将由此获得的含有感光性银沉积核的受像材料通过介助显示装置用光掩膜，利用超高压汞灯从涂布面一侧以70mJ/cm2的表面能进行了曝光。
接着，以40微米的厚度涂布温度为10℃的下述组成的溶液，在10℃保持50秒钟，使银沉积在银沉积核上。
40％氢氧化钠水溶液323毫升氧化锌9.75克N，N-双甲氧基乙基羟基胺 75克三乙醇胺水溶液(6.2份水对4.5份三乙醇胺)17.14克四氢嘧啶硫酮0.4克2，4-二巯基嘧啶 0.35克尿嘧啶 80克水 1193克之后用10℃的蒸馏水除去多余的银络合物处理液和卤化银乳剂层，并用气刀除去水，进行干燥。进而在240℃进行50分钟的热处理，形成了图案状的显示装置用遮光层。对该显示装置用遮光层进行了与实施例1相同的评价。
(实施例13～24)除了在实施例1～12中在受像层表面上未形成保护层，而且将曝光量从70mJ/cm2改变成500mJ/cm2以外，与实施例1同样形成了显示装置用遮光层，并进行了同样的评价。结果一并记入表1之中。
表1

表1的结果说明，本发明的显示装置用遮光层尽管遮光层的厚度薄，但是却显示出高的光学浓度和优良的遮光性。而且没有发现像素形成时能够经目视确认的气泡，也适于滤色片的形成。此外，在加热后几乎没有发现色调产生变化，热稳定性也高，所以即使用于液晶显示元件的情况下也能出现高的耐久性。
(实施例25～36)1.转印材料的制作利用滑动涂布器在经过双向拉伸的75微米厚聚对苯二甲酸乙二醇酯支撑体上涂布下记组成的热塑性树脂层涂布液，使其厚度达到15微米，在100℃干燥5分钟。然后在其上作为中间层涂布与上述实施例1中使用的保护层涂布液，使其厚度达到1.5微米，在100℃干燥5分钟。
〔热塑性树脂层涂布液〕甲基丙烯酸甲酯/2-2-乙基己基丙烯酸酯/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸＝54/12/5/29的共聚物(数均分子量80000)58份苯乙烯/丙烯酸＝70/30的共聚物(数均分子量7000)136份多官能团丙烯酸酯(BPE-500，新中村化学株式会社制造) 90份含氟表面活性剂(F176PF，大日本油墨化学株式会社制造) 1份甲基乙基酮541份1-甲氧基-2-丙醇63份甲醇111份进而在上述中间层上涂布与在实施例1～11使用的同样的感光性银沉积核层涂布液并干燥，制成了转印材料。
2.显示装置用遮光层的制作将上述得到的各转印材料与玻璃基板重合，使受像层与玻璃面密着，利用层压机将二者粘合。层压条件为压力0.8千克/平方厘米，温度130℃。
然后将聚对苯二甲酸乙二醇酯支撑体剥离，得到了将受像层和保护层转印在玻璃基板上的层叠体。利用超高压汞灯，从中间层形成面侧以面上能量为70mJ/cm2条件对此层叠体进行曝光，然后采用以下显影液进行显影。
(1)使用显影处理液TPD(富士胶片株式会社制造，碱性显影液)，在30℃下显影处理40秒钟。
(2)使用显影处理液TCD(富士胶片株式会社制造，碱性显影液)，在33℃下显影处理20秒钟。
(3)使用显影处理液TSD(富士胶片株式会社制造，碱性显影液)，在33℃下显影处理20秒钟。
显影处理后水洗，利用气刀除去水。进而在240℃下热处理50分钟，形成了含有银沉积核的银沉积核层图案。
之后采用与实施例1同样的方法形成卤化银乳剂层并浸渍银络合物处理液，获得了带有遮光层的基板。对于这些试样进行了与实施例1相同的评价。
表2

(对照例1)1.银微粒的制作(A液的制备)向50克脱灰明胶中添加1950克蒸馏水，将这样得到的混合物加热至大约40℃使明胶溶解。利用5％的氢氧化钠水溶液将其调整到pH9.2，在40℃下保温。
(B液的制备)向150克脱灰明胶中添加1350克蒸馏水，将这样得到的混合物加热至大约40℃使明胶溶解。同样用5％的氢氧化钠水溶液将其调整到pH9.2。将16.0克乙酸钙和溶解在320毫升蒸馏水中的160克硝酸银在搅拌下溶解，添加蒸馏水，将最终容积调整到2000毫升，在40℃下保温。
(C液的制备)将110克无水亚硫酸钠溶解在700毫升蒸馏水中，在其中混合将80克氢醌溶解在70毫升甲醇和80毫升水中的溶液，进而添加蒸馏水，将最终容积调整到2000毫升，在40℃下保温。
一边将A液快速搅拌，一边在10秒钟内同时添加B液和C液。10分钟后，添加将1600克无水硫酸钠溶解在70毫升浓盐酸和8000毫升蒸馏水中的溶液，搅拌80分钟后使其沉降，冷却。除去上清液后，用蒸馏水洗涤至添加溴盐溶液不再沉淀为止。除去水后，于40℃下再溶解。进而将生成物(再溶解的溶液)冷却到接近凝胶化的温度下，经小孔将其注入冷却的水中，这样形成了非常微细的面条状物质。
利用将20克无水亚硫酸钠、0.6克氢氧化钠溶解在2000毫升蒸馏水中的溶液洗涤，进而用将20克冰醋酸溶解在2000毫升蒸馏水中的溶液洗涤。在尼龙网袋中借助于浆液使自来水通过得到的黑色浆液粒子，洗涤水通过袋大约30分钟，以此方式进行洗涤，洗除全部盐类。
调整生成物的水份，得到一种将被分散在凝胶浆液中的洗净的黑色银熔融的情况下具有1.5质量％银浓度的黑色银分散体。
(银微粒的制备)
向如上所述方式得到的5000克银分散浆液中，添加25克分散剂(Rapisol B90，日本油脂株式会社制造)和1000克5质量％木瓜酶水溶液，在37℃下保存24小时。以2000rpm将此液离心分离5分钟，使银微粒沉降。除去上清夜之后，用蒸馏水洗涤除去了被酶分解的明胶分解物。然后，用甲醇将银微粒沉降物洗涤后干燥。得到了大约85克银微粒的凝聚物。将73.5克这种凝聚物与1.05克Solsperse 20000(Avecia株式会社制造的分散剂)和16.4克甲基乙基酮混合。用珠粒分散机(氧化锆珠粒0.3毫米)，得到了平均粒径为30纳米的银微粒分散液A-1。
2.感光层用涂布液的制备在上述得到的银微粒分散液A-1中添加下记添加剂，制成感光层用涂布液。
〔感光层用涂布液〕银微粒分散液A-1 40.0克丙二醇单甲醚乙酸酯 40.0克甲基乙基酮 37.6克含氟表面活性剂(大日本油墨制，F176PF(20％)) 0.2克氢醌单甲醚 0.001克二季戊四醇六丙烯酸酯(添加至银微粒子在感光层中的容积百分数达到0.126)双[4-[N-[4-(4，6-双三氯甲基-s-三嗪-2-基)苯基]氨基甲酰基]苯基]癸二酸酯 0.1克3.保护层涂布液的制备制备了与上述实施例1中使用的同样的保护层涂布液。
4.感光材料的制备用旋涂器在玻璃基板上涂布上述感光层用涂布液，使光学浓度达到4.0，在100℃下干燥5分钟。然后用旋涂器在其上涂布上述保护层涂布液使干燥膜厚达到1.5微米，在100℃下干燥5分钟。
5.显示装置用遮光层的制作使用超高压汞灯，从涂布面侧以面上能量为70mJ/cm2条件，借助于显示装置用遮光层用掩膜进行曝光。然后在以下条件下依次进行显影处理得到了显示装置用遮光层。
(1)使用显影处理液TCD(富士胶片株式会社制造，碱性显影液)，在33℃下显影处理20秒钟。
(2)使用显影处理液TSD(富士胶片株式会社制造，碱性显影液)，在33℃下显影处理20秒钟。
〔显示装置用遮光层的评价〕与实施例1中的同样评价了显示装置用遮光层。结果一并记入表2之中。特别是热处理前后显示装置用遮光层色调变化的结果，若按上述评价标准来看，显示出完全的金属光泽，属于E级，不能实用。
而且膜厚的测定结果为0.11微米。
(对照例2)1.感光转印材料的制备利用滑动涂布器在经过双向拉伸的75微米厚聚对苯二甲酸乙二醇酯支撑体上，涂布与上述实施例23中采用的同样的热塑性树脂层涂布液，使其厚度达到15微米，在100℃干燥5分钟。然后在其上涂布实施例25的中间层涂布液使干燥厚度达到1.5微米，在100℃干燥5分钟。进而将与对照例1中使用的同样的感光层涂布液涂布干燥，制成了感光转印材料。
2.显示装置用遮光层的制作将此感光转印材料与玻璃基板重合，使感光层与玻璃面密着，利用与上述实施例23中使用的同样的层压机将二者贴合。层压条件为压力0.8千克/平方厘米，温度130℃。
然后将聚对苯二甲酸乙二醇酯支撑体剥离。借助于显示装置用遮光层用掩膜，利用超高压汞灯从涂布面侧以面上能量为70mJ/cm2条件进行曝光，然后在以下条件下进行显影处理后水洗，用气刀除去水后得到了显示装置用遮光层。
(1)使用显影处理液TPD(富士胶片株式会社制造，碱性显影液)，在30℃下显影处理40秒钟。
(2)使用显影处理液TCD(富士胶片株式会社制造，碱性显影液)，在33℃下显影处理20秒钟。
(3)使用显影处理液TSD(富士胶片株式会社制造，碱性显影液)，在33℃下显影处理20秒钟。
〔显示装置用遮光层的评价〕与实施例1中的同样评价了显示装置用遮光层。结果一并记入表2之中。特别是热处理前后的显示装置用遮光层色调变化的结果，若按上述评价标准来看，显示出完全的金属光泽，属于E级，不能实用。
而且膜厚的测定结果为0.11微米。
(对照例3)1.抗蚀剂涂布液的制备在玻璃基板上涂布下记黑色抗蚀剂涂布液，使光学浓度OD达到4.0，在100℃干燥5分钟。然后在其上涂布中间层涂布液使干燥膜厚达到1.5微米，在100℃干燥5分钟。还有中间层涂布液与实施例25至36相同。黑色抗蚀剂涂布液CFP-FF-775B(C.I.PB156分散液，富士胶片Olin株式会社制)4.50份CFP-FF-293Y(C.I.PY139分散液，富士胶片Olin株式会社制)3.37份CFP-FF-802V(C.I.PV23分散液，富士胶片Olin株式会社制)4.16份CFP-FF-949K(炭黑分散液，富士胶片Olin株式会社制)11.9份MMPG-AC(丙二醇单甲醚乙酸酯)18.9份甲基乙基酮52.0份氢醌单甲醚0.0022份二季戊四醇六丙烯酸酯4.85份双[4-[N-[4-(4，6-双三氯甲基-s-三嗪-2-基)苯基]氨基甲酰基]苯基]癸二酸酯0.238份下记共聚物(甲基异丁基酮30质量％溶液)0.065份化2
(MW30000，n＝4～16，PO环氧丙烷；EO环氧乙烷)2.显示装置用遮光层的制作利用超高压汞灯，从涂布面侧以面上能量为70mJ/cm2条件，借助于显示装置用遮光层用掩膜，对涂布了上述黑色抗蚀剂涂布液的感光材料进行曝光。然后在以下条件下依次进行显影处理后水洗，利用气刀除去水份后，得到了显示装置用遮光层。
(1)使用显影处理液TCD(富士胶片株式会社制造，碱性显影液)，在33℃下显影处理20秒钟。
(2)使用显影处理液TSD(富士胶片株式会社制造，碱性显影液)，在33℃下显影处理20秒钟。
〔显示装置用遮光层的评价〕
与实施例1中的同样评价了显示装置用遮光层。结果一并记入表2之中。膜厚的测定结果为2.35微米。由于具有这样厚的遮光层，所以在“蓝、红、绿色像素的形成和像素气泡的评价”中，对能够目视确认的气泡数目计数后为50个，不能作为滤色片使用。
(对照例4)1.感光转印材料的制备利用滑动涂布器在经过双向拉伸的75微米厚聚对苯二甲酸乙二醇酯支撑体上，涂布与上述实施例23中所用同样的热塑性树脂层涂布液，使其厚度达到15微米，在100℃干燥5分钟。然后在其上涂布实施例25的中间层涂布液使干燥厚度达到1.5微米，在100℃干燥5分钟。进而将与对照例3中所用同样的黑色抗蚀剂用涂布液涂布干燥，制成了感光转印材料。
2.显示装置用遮光层的制作将此感光转印材料与玻璃基板重合，使感光层与玻璃面密着，利用与上述实施例25中所用的同样的层压机将二者贴合。层压条件为压力0.8千克/平方厘米，温度130℃。
然后将聚对苯二甲酸乙二醇酯支撑体剥离。借助于显示装置用遮光层用掩膜，利用超高压汞灯从涂布面侧以面上能量为70mJ/cm2条件进行曝光。然后在以下条件下依次进行显影处理后水洗，用气刀除去水后得到了显示装置用遮光层。
(1)使用显影处理液TCD(富士胶片株式会社制造，碱性显影液)，在30℃下显影处理40秒钟。
(2)使用显影处理液TCD(富士胶片株式会社制造，碱性显影液)，在33℃下显影处理20秒钟。
(3)使用显影处理液TSD(富士胶片株式会社制造，碱性显影液)，在33℃下显影处理20秒钟。
〔显示装置用遮光层的评价〕与实施例1中的同样评价了显示装置用遮光层。结果一并记入表2之中。膜厚的测定结果为2.35微米。由于是这样厚的遮光层，所以在“蓝、红、绿色像素的形成和像素气泡的评价”中，对能够目视确认的气泡数目计数后为50个，不能作为滤色片使用。
从上述实施例1～33和对照例1～4的评价结果可知，用本发明的感光性组合物制作的显示装置用遮光层，无论是用涂布法形成的，或是用转印法形成的，即使层薄也能显示高的光学密度，而且加热后色调也不发生变化，在形成像素制成滤色片的情况下，可以抑制气泡的产生，能够适于在光学元件和滤色片中使用。
另一方面，具有以往的分散了银微粒的遮光层的对照例1、2的显示装置用遮光层，虽然遮光性能优良，但是热处理后光泽变化显著，所以不适于作为显示装置用遮光层使用。此外，采用黑色抗蚀剂用涂布液制作的对照例3和4的显示装置用遮光层，遮光层的膜厚厚，形成像素时气泡显著产生，不适于作为滤色片用显示装置用遮光层。
权利要求
1.一种感光性组合物，其特征在于其中含有至少一种银沉积核。
2.一种感光性组合物，其特征在于其中含有至少一种银沉积核、光聚合引发剂、光聚合性单体和粘合剂。
3.按照权利要求1或2所述的感光性组合物，其特征在于其中所述的银沉积核至少含有硫化物。
4.一种感光性转印材料，其特征在于在支撑体上至少设有感光性银沉积核层的感光性转印材料中，所述的感光性银沉积核层含有至少一种银沉积核、光聚合引发剂、光聚合性单体和粘合剂。
5.一种显示装置用遮光层，其特征在于对用权利要求1～3中任何一项记载的感光性组合物或者用权利要求4中所述的感光性转印材料在基板上形成的感光性银沉积核层，进行曝光、显影处理后使银沉积。
6.一种显示装置用遮光层，其特征在于在用权利要求1～3中任何一项所述的感光性组合物或者用权利要求4中所述的感光性转印材料在基板上形成的感光性银沉积核层上沉积银之后，进行曝光显影处理。
7.一种滤色片，其特征在于是在光透过性基板上具有由着色层构成、呈现互相不同颜色的两种以上像素组，构成所述的像素组的各像素之间被显示装置用遮光层互相隔离的滤色片，所述的显示装置用遮光层是权利要求5或6所述的显示装置用遮光层。
8.一种液晶显示元件，其特征在于在至少一个是光透过性的一对基板之间至少备有滤色片、液晶层和液晶驱动手段的液晶显示元件中，所述的滤色片是权利要求7中所述的滤色片。
9.一种液晶显示元件，其特征在于是至少一个为光透过性的一对基板之间备有滤色片、液晶层和液晶驱动手段的液晶显示元件，其中所述的液晶驱动手段具有有源元件，在各有源元件之间形成有权利要求5或6所述的显示装置用遮光层。
10.一种显示装置用带遮光层基板，其特征在于是具有光透过性基板和在该基板上设置的遮光层的显示装置用带遮光层基板，所述的遮光层是权利要求5或6所述的显示装置用遮光层。
11.一种显示装置用带遮光层基板的制作方法，其特征在于其中具有以下工序在光透过性基板上形成其中含有至少一种银沉积核、光聚合引发剂、光聚合性单体和粘合剂的感光性银沉积核层的工序，对该感光性银沉积核层按照图案曝光，使曝光部分光聚合的曝光工序，利用显影处理液除去未曝光部分，形成银沉积核图案的工序，及采用含有卤化银溶剂的银络合物处理液处理银沉积核图案，使银沉积在银沉积核上，形成遮光层的工序。
12.一种显示装置用带遮光层基板的制作方法，其特征在于其中具有以下工序在光透过性基板上形成其中含有至少一种银沉积核、光聚合引发剂、光聚合性单体和粘合剂的感光性银沉积核层的工序，采用含有卤化银溶剂的银络合物处理液，使银从卤化银乳剂沉积在银沉积核上的工序，对该感光性银沉积层按照图案曝光，使曝光部分光聚合的曝光工序，利用显影处理液除去未曝光部分，形成银沉积图案的工序。
全文摘要
本发明提供一种能以低成本制作薄膜、遮光性能高的显示装置用遮光层的感光性组合物和感光性转印材料，以及能以低成本制造薄膜、遮光性能高的显示装置用遮光层的方法。所述显示装置用遮光层受像层制作用感光性组合物，其特征在于其中含有至少一种银沉积核，使用其能够得到显示装置用遮光层。
文档编号G02F1/1335GK1673781SQ20051006243
公开日2005年9月28日 申请日期2005年3月28日 优先权日2004年3月26日
发明者后藤英范, 畠山晶 申请人:富士胶片株式会社