感光性组合物、感光性薄膜、感光性层叠体、永久图案形成方法及印刷电路板的制作方法

专利名称：：感光性组合物、感光性薄膜、感光性层叠体、永久图案形成方法及印刷电路板的制作方法
技术领域：
：本发明涉及一种可以高效形成高精度的永久图案(保护膜、层间绝缘膜及抗焊剂图案等)的感光性组合物、感光性薄膜、感光性层叠体、使用该感光性层叠体的永久图案形成方法、以及通过该永久图案形成方法形成永久图案的印刷电路板。
背景技术：
：以往抗焊剂图案等永久图案形成时，是使用将感光性组合物涂布于支撑体并干燥形成感光层的感光性薄膜。作为上述永久图案的制造方法，例如是在形成上述永久图案的镀铜层叠板等基体上，层叠上述感光性薄膜，形成层叠体，对该层叠体上的上述感光层进行曝光，曝光后使上述感光层显影形成图案，然后进行固化处理，从而形成上述永久图案。作为上述感光性组合物，为了提高稳定性，提出了一种感光性组合物，它含有将具有环氧基的(甲基)丙烯酸酯化合物加成于具有炭原子数1~6的脂肪族烃基的(甲基)丙烯酸单体和(甲基)丙烯酸的共聚物而成高分子化合物(参照特许文献l)。另外，与上述提案几乎目的相同，提出了一种感光性组合物，它含有将具有脂环式环氧基的不饱和化合物加成于侧链具有羧基的共聚物所得的高分子化合物(参照特许文献2)。还有，为了提高耐热性或耐药品性，提出了一种感光性组合物，其组合物中含有具有不饱和双键和特定范围酸价及分子量的粘合剂聚合物、具有不饱和双键和特定酸价及环氧当量的环氧化合物(参照特许文献3)。但这些感光性组合物的感度和保存稳定性还不充分，特别是通过激光扫描曝光形成图案潜影时，由于曝光部分的固化不充分，在碱性显影工序中图像部分被完全除去，感光性组合物被薄膜化形成长条状辊状时，经过一段时间会引起端面的融合，由于该融合部分在叠片时有时会落于层叠体的曝光面，因此存在曝光时引起曝光图案断线等故障的问题。还有，在使用碱可溶性环氧树脂时，存在在镀金处理工艺中，与基板的附着不良，感光性组合物鼓泡，镀不上金等问题。在此作为上述环氧化合物，液状物和固状物有很大的区别。其中前者由于流动性大，溶融粘度下降，所得膜的埋置性优良，但另一方面也存在上述膜的玻璃化转变温度(Tg)和弹性模数下降的问题。与此相对，后者流动性欠佳，但另一方面也有所得膜的Tg不降低，弹性模数也高的优点。所以，一般用于液状抗蚀剂型永久图案形成的感光性组合物都两者并用以最大限度地发挥双方的优点。然而，以往的感光性组合物，只不过是简单地并用液状和固状的化合物，并没有探讨由于与粘合剂的关系，具体地与各种各样的化合物并用可以获得的更优良的效果。特别是对于感度、保存性和粘着性优良的薄膜型且含热交联剂的感光性组合物而言，没有提出与上述环氧化合物2种以上并用的感光性组合物本身。另外，如果聚合性化合物只由脂肪族酯类单体(如二季戊四醇六丙烯酸酯、三羟甲基丙垸三丙烯酸酯、三羟甲基丙垸三甲基丙烯酸酯)构成，聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等支撑体就不太容易剥离(粘性)，支撑体剥离时，存在固化感光层受伤的问题。特许文献1:特开平3-172301号公报特许文献2:特开平10-10726号公报特许文献3:特开平7-199457号公报
发明内容本发明是鉴于以上现状而作出的，把解决以往的上述诸问题、达成以下的目的作为课题。即，本发明的目的在于第一提供通过规定粘合剂及其并用热交联剂可以高效形成高感度和高析像度、非电解镀金耐性及支柱或通孔埋置性优良、高精度的永久图案(保护膜、层间绝缘膜及抗焊剂图案等)的感光性组合物、感光性薄膜、感光性层叠体、使用上述感光性层叠体的永久图案形成方法、以及由上述永久图案形成方法形成图案的印刷电路板。第二提供通过脂肪族酯类单体以外单体的组合，可以高效形成感度、析像度、粘着性、非电解镀金耐性及保存稳定性优良、高精度的永久图案(层间绝缘膜、抗焊剂图案等)的感光性组合物、感光性薄膜、感光性层叠体、使用上述感光性层叠体的永久图案形成方法、通过上述永久图案形成方法形成的永久图案、以及形成上述永久图案的印刷电路板。为解决上述问题，本发明者们通过锐意研究，结果发现，含有粘合剂、聚合性化合物、光聚合引发剂和热交联剂的感光性组合物通过规定粘合剂以及并用的热交联剂可以高效形成高感度和高析像度、非电解镀金耐性和支柱或通孔埋置性优良、高精度的永久图案，上述粘合剂含侧链具有酸性基团和乙烯性不饱和键的高分子化合物，而且热交联剂含有2种以上的树脂。另外发现，含有粘合剂、2种以上的聚合性化合物、光聚合引发剂以及热交联剂的感光性组合物可以高效形成感度、析像度、粘着性、非电解镀金耐性和保存稳定性优良、高精度的永久图形，上述粘合剂含侧链具有酸性基团和乙烯性不饱和键的高分子化合物，而且聚合性化合物含2种以上单体。本发明是基于本发明者的上述见解而作出的，作为解决上述课题的手段，如下所述。即<1>一种感光性组合物，其特征在于含有粘合剂、聚合性化合物、光聚合引发剂和热交联剂，上述粘合剂含有侧链具有酸性基团和乙烯性不饱和键的高分子化合物，而且聚合性化合物和热交联剂的至少任何一种含有两种以上的化合物。<2>上述<1>所述的感光性组合物，其中热交联剂为从环氧化合物、氧杂环丁烷化合物、聚异氰酸酯化合物、封端剂与聚异氰酸酯化合物反应所得化合物、以及三聚氰胺衍生物中选择的至少一种化合物。<3>上述<1>至<2〉的任何一项所述的感光性组合物，其中热交联剂为从环氧化合物、氧杂环丁烷化合物、聚异氰酸酯化合物、封端剂与聚异氰酸酯化合物反应所得化合物、以及三聚氰胺衍生物中选择的2种以上的化合物。<4>上述<3>所述的感光性组合物，其中热交联剂为环氧化合物，该环氧化合物为从(线型)酚醛树脂型环氧化合物、双酚型环氧化合物、含杂环的环氧化合物和脂环式环氧化合物中选择的任何2种化合物。<5>上述<4>所述的感光性组合物，其中热交联剂含有环氧当量为90~400g/eq的环氧化合物和环氧当量为150~9，OOOg/eq的环氧化合物。<6>上述<1>至<5>的任何一项所述的感光性组合物，其中热交联剂的至少一种为碱不溶性的。<7>上述<1>至<6>的任何一项所述的感光性组合物，其含有热固化促进剂。<8><1>至<7>的任何一项所述的感光性组合物，其中聚合性化合物含具有1个以上乙烯性不饱和键的化合物。<9>上述<1>至<2>和<6>至<8>的任何一项所述的感光性组合物，其中聚合性化合物含有官能团数不同的2种以上的单体。<10>上述<9>的感所述光性组合物，其中聚合性化合物含有具有氨基甲酸酯基、芳基、酯基、醚基以及由环氧化合物衍生的基团的至少任何一种的单体。<11>上述<9>至<10>的任何一项所述的感光性组合物，其中聚合性化合物含具有4个以上官能团的单体<12>上述<10>至<11>的任何一项所述的感光性组合物，其含有重均分子量为2009，000的单体。<13>上述<1>至<2>和<6>至<12>的任何一项所述的感光性组合物，其中聚合性化合物含有脂肪族酯类单体。<14>上述<1>至<2>和<6〉至<8>的任何一项所述的感光性组合物，其中聚合性化合物含有从具有(甲基)丙烯酸基的单体中选择的至少1种单体。<15>上述<1>至<14>的任何一项所述的感光性组合物，其中粘合剂含有侧链具有酸性基团、可以含杂环的芳香基和乙烯性不饱和键的高分子化合物。<16>上述<1>至<15>的任何一项所述的感光性组合物，其中高分子化合物含0.53.0meq/g的乙烯性不饱和键。<17>上述<1>至<16>的任何一项所述的感光性组合物，其中高分子化合物的酸基为羧基，上述高分子化合物中上述羧基的含量为1.04.0meq/g。<18>上述<1>至<17>的任何一项所述的感光性组合物，其中高分子化合物的重均分子量为10，000以上100，000以下。<19>上述<1>至<18>的任何一项所述的感光性组合物，其中高分子化合物含下述结构式(I)所示结构单元20mol。/。以上。[化l]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage8</formula>上述结构式(I)中，Ri、R2和R3表示氢原子或1价有机基团。L表示有机基团，也可以没有。Ar表示芳香基团。<20>上述<1>至<19>的任何一项所述的感光性组合物，其中光聚合引发剂含有从卤代烃衍生物、六芳基二咪唑、肟衍生物、有机过氧化物、硫化合物、酮化合物、芳香族鑰盐、芳环烯金属衍生物和酰基膦化氧中选择的至少一种化合物。<21>上述<1>至<20>的任何一项所述的感光性组合物，其中感光性组合物含增感剂。<22>上述<21>所述的感光性组合物，其中增感剂为杂稠环类化合物。<23>—种感光性薄膜，其特征在于，其具有支撑体和支撑体上的由上述<1>至<22>的任何一项所述的感光性组合物而成的感光层。<24>上述<23>所述的感光性薄膜，其中支撑体含合成树脂，而且是透明的。〈25〉上述〈23〉至〈24^的任何一项所述的感光性薄膜，其中支撑体为长条状状。<26>上述<23>至<25>的任何一项所述的感光性薄膜，其为长条状形，巻成辊状。<27〉上述<23>至<26>的任何一项所述的感光性薄膜，其中感光性薄膜的感光层上具有保护薄膜。<28>—种感光性层叠体，其特征在于基体上具有上述<1>至<22>的任何一项所述的感光性组合物而成的感光层。<29>上述<28>所述的感光性层叠体，其中感光层由上述<23>至<27>的任何一项所述的感光性薄膜形成。结构式(I)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage8</formula><30>上述<28>至<29>的任何一项所述的感光性层叠体，其中感光层的厚度为l100|tim。<31>—种图案形成装置，其特征在于具备上述<28>至<30>的任何一项所述的感光性层叠体中的感光层，至少具有可照射光的光照射机构和调制来自该光照射机构的光的光调制机构，所述光调制机构对上述感光性薄膜中的感光层进行曝光。上述<31>所述的图案形成装置中，上述光照射机构向上述光调制机构照射光。上述光调制机构对由上述光照射机构接受的光进行调制。由上述光调制机构调制的光使上述感光层曝光。然后将上述感光层显影，就可形成高精细的图案。<32>上述<31>所述的图案形成装置，其中光调制机构还具有基于所形成的图案信息生成控制信号的图案信号生成机构，按照由该图案信号生成机构生成的控制信号，调制由光照射机构照射的光。该<32>所述的图案形成装置中，由于上述光调制机构具有上述图案信号生成机构，可以按照由该图案信号生成机构生成的控制信号调制由上述光照射机构照射的光。<33>上述<31>至<32>的任何一项所述的图案形成装置，其中光调制机构具有n个描素部，可以按照所形成的图案信息，控制该n个描素部中连续排列的任意少于n个的上述描素部。该<33>所述的图案形成装置中，通过按照图案信息来控制上述光调制机构的n个描素部中连续排列的任意少于n个的上述描素部，可快速调制来自于上述光照射机构的光。<34>上述<31>至<33>的任何一项所述的图案形成装置，其中光调制机构为空间光调制元件。<35>上述<34>所述的图案形成装置，其中空间光调制元件为数码微镜元件(DMD)。<36>上述<33>至<35>的任何一项所述的图案形成装置，其中描素部为微镜。<37>上述<31>至<36>的任何一项所述的图案形成装置，其中光照射机构可将2种以上的光合成照射。该<37>所述的图案形成装置中，由于上述光照射机构可以将上述2种以上的光合成照射，可以由焦点深度深的曝光光进行曝光。结果，对上述感光层的曝光可以极其高精细地进行。例如，若其后进行上述感光层的显影，则可以形成极其高精细的图案。<38>上述<31>至<37>的任何一项所述的图案形成装置，其中光照射机构具有多个激光器、多模式光学纤维、将由该多个激光器分别照射出的激光聚光而结合于上述多模式光学纤维的聚光光学系统。该<38>所述的图案形成装置中，由于上述光照射机构中可以利用上述聚光光学系统将上述多个激光器分别照射的激光聚光并结合于上述多模式光学纤维，可以由焦点深度深的曝光光进行曝光。结果，对上述感光层的曝光可以极其高精细地进行。例如，如果其后进行上述感光层的显影，则可以形成极其高精细的图案。<39>—种永久图案形成方法，其特征在于，其中包含对上述<28>至<30>的任何一项所述的感光性层叠体中的感光层进行曝光。<40>上述<39>所述的永久图案形成方法，其中使用350415nm波长的激光进行曝光。<41>上述<39>至<40>的任何一项所述的永久图案形成方法，其中根据所形成的图案信息，以图案状进行曝光。<42>上述<39>至<41>的任何一项所述的永久图案形成方法，其中，曝光时使用的曝光头具有光照射机构和光调制机构，所述光调制机构具有接受来自上述光照射机构的光并射出的n个(n为2以上的自然数)2维排列的描素部，并可以按照图案信息控制上述描素部，使上述描素部的列方向相对于该曝光头的扫描方向成规定的设定倾斜角度e;曝光时，对于上述曝光头，通过使用描素部指定机构来指定可以使用的上述描素部中用于N重曝光(N为2以上的自然数)的上述描素部；并通过描素部控制机构对上述描素部进行控制，以使只有由上述使用描素部指定机构指定的上述描素部参与曝光；同时使上述曝光头相对于上述感光层，沿扫描方向相对移动。上述<42>所述的永久图案形成方法中，对于上述曝光头，利用使用描素部指定机构，指定可以使用的上述描素部中用于N重曝光(N为2以上的自然数)的上述描素部，并通过描素部控制机构控制上述描素部，以使只有由上述使用描素部指定机构指定的上述描素部参与曝光。通过使上述曝光头相对上述感光层沿扫描方向相对移动而进行曝光，可以淡化上述曝光头的安装位置或安装角度的偏差所造成的、在上述感光层的被曝光面上形成的上述图案的析像度的不均匀或浓度不均。其结果，可以使上述感光层的曝光高精细地进行，然后通过上述感光层的显影形成高精细的图案。<43>上述<42>所述的永久图案形成方法，其中曝光由多个曝光头进行，使用描素部指定机构在参与由多个上述曝光头形成的被曝光面上的重复曝光区域即曝光头间连接区域的曝光的描素部中，指定为了实现上述曝光头间连接区域的N重曝光而使用的上述描素部。该43〉所述的永久图案形成方法中，通过使曝光由多个曝光头进行，使用描素部指定机构在参与由多个上述曝光头形成的被曝光面上的重复曝光区域即曝光头间连接区域的曝光的描素部中，指定为了实现上述曝光头间连接区域的N重曝光而使用的上述描素部，可以淡化由于上述曝光头的安装位置或安装角度的偏差造成的、在上述感光层的被曝光面上的曝光头间连接区域内形成的上述图案的析像度的不均匀或浓度不均。其结果，可以高精细地进行上述感光层的曝光。其后通过使上述感光层显影可以形成高精细的图案。<44>上述<43>所述的永久图案形成方法，其中曝光由多个曝光头进行，使用描素部指定机构在参与由多个上述曝光头形成的被曝光面上的重复曝光区域即曝光头间连接区域以外区域的曝光的描素部中，指定为了实现上述曝光头间连接区域以外的区域的N重曝光而使用的上述描素部。该〈44〉所述的永久图案的形成方法中，通过使曝光由多个曝光头进行，使用描素部指定机构在参与由多个上述曝光头形成的被曝光面上的重复曝光区域即曝光头间连接区域以外区域的曝光的描素部中，指定为了实现上述曝光头间连接区域以外的区域的N重曝光而使用的上述描素部，可以淡化由于上述曝光头的安装位置或安装角度的偏差造成的、在上述感光层的被曝光面上的曝光头间连接区域以外的区域形成的上述图案的析像度的不均匀或浓度不均。其结果，可以高精细地进行上述感光层的曝光。其后通过使上述感光层显影可以形成高精细的图案。<45>上述<42>至<44〉的任何一项所述的永久图案形成方法，其中设定倾斜角度e被设定为满足e^e^的关系，其中0idear满足式Spsin6idea^NS，其中N为N重曝光数，s为描素部的列方向的个数，p为上述描素部的列方向的间隔，s为曝光头倾斜的状态下与该曝光头的扫描方向垂直的方向上的描素部的列方向的间距。<46>上述<42>至<45>的任何一项所述的永久图案形成方法，其中N重曝光的N为3以上的自然数。该<46>所述的永久图案形成方法中，由于N重曝光的N为3以上的自然数，可以进行多重描绘。其结果，由于补偿的效果，由上述曝光头的安装位置或安装角度的偏差造成的、上述感光层的被曝光面上形成的上述图案析像度的不均匀或浓度不均会更精密地被淡化。<47>上述<42>至<46>的任何一项所述的永久图案形成方法，其中使用描素部指定机构包括光点位置检测机构和描素部选择机构，所述光点位置检测机构在被曝光面上检测由描素部生成的、作为构成被曝光面上的曝光区域的描素单元的光点位置，所述描素部选择机构根据上述光点位置检测机构的检测结果，选择为了实现N重曝光而使用的描素部。<48>上述<42>至<47>的任何一项所述的永久图案形成方法，其中使用描素部指定机构以行为单位指定为了实现N重曝光使用的使用描素部。<49>上述<47>至<48>的任何一项所述的永久图案形成方法，其中光点位置检测机构基于所检测的至少2个光点位置，设定使曝光头倾斜的状态下被曝光面上光点的列方向和上述曝光头的扫描方向形成的实际倾斜角度e'，描素部选择机构选择使用描素部以消除上述实际倾斜角度e'和设定倾斜角度e间的误差。<50>上述<49>所述的永久图案形成方法，其实际倾斜角度e'为使曝光头倾斜的状态下被曝光面上光点的列方向和上述曝光头的扫描方向所形成的多个实际倾斜角的平均值、中间值、最大值和最小值中的任何一个。<51〉上述<47>至<50>的任何一项所述的永久图案形成方法，其中描素部选择机构基于实际倾斜角度e'，导出接近满足关系ttane^N(N表示N重曝光数的N)的t的自然数T，并且从排列成m行(m表示2以上的自然数)的描素部中，选择第1行到上述第T行的上述描素部作为使用描素部。<52>上述<47>至<51>的任何一项所述的永久图案形成方法，其中描素部选择机构基于实际倾斜角度e'，导出接近满足关系ttane^N(N表示N重曝光数的N)的t的自然数T，将排列成m行(m表示2以上的自然数)的描素部中的第(T+l)行到第m行的上述描素部设定为不使用描素部，将选择除去该不使用描素部的上述描素部作为使用描素部。<53>上述<47>至<52>的任何一项所述的永久图案形成方法，其中描素部选择机构为以如下所述的(1)一(4)中任一种方式选择使用描素部的机构，在至少含有由多个描素部列形成的被曝光面上的重复曝光区域的区域内，(O相对于理想的N重曝光，曝光过度的区域和曝光不足的区域的合计面积达到最小；(2)相对于理想的N重曝光，曝光过度区域的描素单元数和曝光不足区域的描素单元数相等；(3)相对于理想的N重曝光，曝光过度区域的面积最小，而且尽量不产生曝光不足的区域；(4)相对于理想的N重曝光，曝光不足区域的面积最小，而且尽量不产生曝光过度的区域。<54>上述<47>至<53>的任何一项所述的永久图案形成方法，其中描素部选择机构为以如下所述的(1)一(4)中任一种方式从头间连接区域的参与曝光的描素部设定不使用描素部并将除所述不使用描素部之外的所述描素部选择为使用描素部的机构，在由多个曝光头形成的被曝光面上的重复曝光区域即曝光头间连接区域中，(1)相对于理想的N重曝光，曝光过度区域和曝光不足区域的合计面积最小；(2)相对于理想的N重曝光，曝光过度区域的描素单元数和曝光不足区域的描素单元数相等；(3)相对于理想的N重曝光，曝光过度区域的面积最小，而且尽量不产生曝光不足的区域；(4)相对于理想的N重曝光，曝光不足区域的面积最小，而且尽量不产生曝光过度的区域。<55>上述<54>所述的永久图案形成方法，其中不使用描素部以行为单位被加以设定。<56>上述<42>至<55>的任何一项所述的永久图案形成方法，其中为了用使用描素部指定机构指定使用描素部，在可以使用的上述描素部中，只使用对于N重曝光的N构成每(N-l)列的描素部列的上述描素部进行参照曝光。该<56>所述的永久图案形成方法中，为了用使用描素部指定机构指定使用描素部，在可以使用的上述描素部中，只使用相对于N重曝光的N构成每(N-l)列的描素部列的上述描素部进行参照曝光，得到近似1重描绘的单纯图案。其结果，容易指定上述头间连接区域的上述描素部。<57>上述<42>至<55>的任何一项所述的永久图案形成方法，其中为了用使用描素部指定机构指定使用描素部，在可以使用的上述描素部中，只使用相对于N重曝光的N构成每1/N行的描素部行的上述描素部进行参照曝光。该<57>所述的永久图案形成方法中，为了用使用描素部指定机构指定使用描素部，在可以使用的上述描素部中，只使用对于N重曝光的N构成每1/N行的描素部行的上述描素部进行参照曝光，得到近似1重描绘的单纯图案。其结果，容易指定上述曝光头间连接区域的上述描素部。<58>上述<42>至<57>的任何一项所述的永久图案形成方法，其中使用描素部指定机构中，作为光点位置检测机构具有狭缝(slit)和光检测器，同时作为描素部选择机构具有与上述光检测器连接的演算装置。<59>上述<42>至<58>的任何一项所述的永久图案形成方法，其中N重曝光的N为3以上7以下的自然数。<60>上述<42>至<59>的任何一项所述的永久图案形成方法，其中光调制机构还具有基于形成的图案信息生成控制信号的图案信号生成机构，对于由光照射机构照射的光，按照该图案信号生成机构生成的控制信号进行调制。该<60>所述的永久图案形成装置中，由于上述光调制机构具有上述图案信号生成机构，因此来自于上述光照射机构的照射光可以按照该图案信号生成机构生成的控制信号被加以调制。<61>上述<42>至<60>的任何一项所述的永久图案形成方法，其中光调制机构为空间光调制元件。<62>上述<61>所述的永久图案形成方法，其中空间光调制元件为数码-微镜元件(DMD)。<63>上述<42>至<62>的任何一项所述的永久图案形成方法，其中描素部为微镜。<64>上述<42>至<63>的任何一项所述的永久图案形成方法，其中具有变换上述图案信息的变换机构，通过其变换，图案信息所表示的图案的规定部分的尺寸，变成与由指定的使用描素部可以实现的对应部分的尺寸相一致。<65>上述<42>至<64>的任何一项所述的永久图案形成方法，其中光照射机构可以将2种以上的光合成、照射。该<65〉所述的永久图案形成方法中，由于上述光照射机构可以合成、照射2种以上的光，因此曝光可以由焦点深度深的曝光光进行。结果对上述感光性薄膜的曝光可以极其高精细地进行。如果其后使上述感光层显影，则可以形成极其高精细的图案。<66>上述<42>至<65〉的任何一项所述的永久图案形成方法，其中光照射机构具有多个激光器、多模式光学纤维、将由该多个激光器分别照射的激光聚光并结合于上述多模式光学纤维的聚光光学系统。该<66>所述的永久图案形成方法中，由于上述光照射机构中可以通过上述聚光光学系统将上述多种激光分别照射的激光聚光并结合于上述多模式光学纤维，因此可以由焦点深度深的曝光光进行曝光。结果，对上述感光性薄膜的曝光可以极其高精细地进行。例如，如果其后进行上述感光层的显影，则可以形成极其高精细的图案。<67>上述<39>至<66>的任何一项所述的永久图案形成方法，其中曝光后进行感光层的显影。该<67>所述的永久图案形成方法中，通过上述曝光后使上述感光层显影，可以形成高精细的图案。<68>上述<67>所述的永久图案形成方法，其中显影后形成永久图案。<69>—种永久图案，其特征在于，该图案是由上述<39〉至<68>的任何一项所述的图案形成方法形成。由于该<69>所述的永久图案是由上述图案形成方法所形成的，因此具有优良的耐药品性、表面硬度、耐热性等，而且精度高，对半导体或部件的多层布线基板或组合布线基板等的高密度安装是有用的。<70>上述<69>所述的永久图案，它是保护膜、层间绝缘膜和抗焊剂图案的至少任何一种。由于该<70>所述的永久图案是保护膜、层间绝缘膜和抗焊剂图案的至少任何一种，因此通过该膜具有的绝缘性、耐热性等，可以保护布线免受来自外部的冲击或弯曲等。<71>—种印刷电路板，其特征在于，其通过上述<39>至<68>的任何一项所述的永久图案形成方法形成永久图案。根据本发明，可以解决以往存在的问题，第一，可以提供通过规定粘合剂及其并用的热交联剂可以高效形成高感度和高析像度、非电解镀金耐性及支柱或通孔埋置性优良、高精度的永久图案(保护膜、层间绝缘膜及抗焊剂图案等)的感光性组合物、感光性薄膜、感光性层叠体、使用上述感光性层叠体的永久图案形成方法、以及由上述永久图案形成方法形成图案的印刷电路板。第二可以提供通过组合脂肪族酯类单体以外单体，可以高效形成感度、析像度、粘着性、非电解镀金耐性及保存稳定性优良、高精度的永久图案(层间绝缘膜、抗焊剂图案等)的感光性组合物、感光性薄膜、感光性层叠体、使用上述感光性层叠体的永久图案形成方法、通过上述永久图案形成方法形成的永久图案、以及形成上述永久图案的印刷电路板。[图l]图1是表示图案形成装置之一例的外观的立体图。[图2]图2是表示图案形成装置的扫描器结构之一例的立体图。[图3A]图3A是表示在感光层的被曝光面上形成的己曝光区域的俯视图。[图3B]图3B是表示由各曝光头形成的曝光区域的排列的俯视图。[图4]图4是表示曝光头大致构成之一例的立体图。[图5A]图5A是表示曝光头的详细构成之一例的仰视图。[图5B]图5B是表示曝光头的详细构成之一例的侧视图。[图6]图6是表示图1的图案形成装置的DMD之一例的部分放大图。[图7A]图7A是说明DMD动作的立体图。[图7B]图7B是说明DMD动作的立体图。[图8]图8是表示存在曝光头的安装角度误差和图案变形时，被曝光面上的图案上产生的斑点例的说明图。[图9]图9是表示由一个DMD产生的曝光区域和对应的狭缝间的位置关系的仰视图。[图IO]图IO是为说明用狭缝测定被曝光面上光点位置的方法的仰视图。[图ll]图11是表示只将被选择的微镜用于曝光从而改善了被曝光面上的图案上产生的斑点的状态的说明图。[图12]图12是表示相邻曝光头间相对位置有偏差时，被曝光面上的图案上产生斑点的例子的说明图。[图13]图13是表示由相邻的2个曝光头形成的曝光区域和对应的狭缝间的位置关系的仰视图。[图14]图14是为说明用狭缝测定被曝光面上光点位置的方法的仰视图。[图15]图15是表示只使图12的例子中选择的使用像素发生实际动作，从而改善被曝光面上的图案上产生的斑点的状态的说明图。[图16]图16是表示存在相邻曝光头间相对位置的偏差和安装角度的误差时，被曝光面上的图案上产生的斑点的例子的说明图。[图17]图17是表示只使用了图16的例子中所选择的使用描素部的曝光的说明图。闺18A]图18A是表示放大倍率失真的例子的说明图。[图18B]图18B是表示光束径失真的例子的说明图。[图19A]图19A是表示使用单一曝光头的参照曝光的第一例的说明图。[图19B]图19B是表示使用单一曝光头的参照曝光的第一例的说明图。[20]图20是表示使用多个曝光头的参照曝光的第一例的说明图。[21A]图21A是表示使用单一曝光头的参照曝光的第二例的说明图。[21B]图21B是表示使用单一曝光头的参照曝光的第二例的说明图。[图22]图22是表示使用多个曝光头的参照曝光的第二例的说明图。具体实施方式(感光性组合物)[第一种方式]本发明的第一种方式的感光性组合物含有粘合剂、聚合性化合物、光聚合引发剂和2种以上的热交联剂，优选含有热固化促进剂，根据需要还可以含其他的成分。<热交联剂>作为上述热交联剂，含2种以上的化合物，从镀金耐性的观点出发，其中至少一种优选为碱不溶性。作为上述化合物，没有特别的限制，可以根据需要进行适当的选择，为了改善使用上述感光性组合物形成的感光层的固化后的膜强度，在对显影性等没有不良影响的范围内，可以使用从环氧化合物、氧杂环丁垸化合物、聚异氰酸酯化合物、封端剂与聚异氰酸酯化合物反应所得的化合物、以及三聚氰胺衍生物中选择的2种以上的化合物。本发明中"热交联剂含两种以上的化合物"也指热交联剂作为混合物含2种以上化合物的情况。作为上述环氧化合物，可以列举1分子中具有至少2个环氧乙垸基的环氧化合物、1分子中至少含有2个(3位具有烷基的环氧基的环氧化合物等。作为上述1分子中含至少2个环氧乙烷基的环氧化合物，可以列举双二甲酚型或二苯酚型环氧树脂("YX4000日本环氧树脂(夕+八°乂工求年、乂P-y)公司制"等)或它们的混合物、具有三聚异氰酸酯骨架等的杂环式环氧树脂("TEPIC;日产化学工业(股份)制"、"阿劳戴特(7，，夕'一卜)PT810;汽巴精化公司制"等)、双酚A型环氧树脂、(线型)酚醛树脂型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、氢化双酚A型环氧树脂、双酚S型环氧树脂、苯酚(线型)酚醛树脂型环氧树脂、甲酚(线型)酚醛树脂型环氧树脂、卤化环氧树脂(如低溴化环氧树脂、高卤化环氧树脂、溴化苯酚(线型)酚醛树脂型环氧树脂等)、含烯丙基的双酚A型环氧树脂、三苯酚甲烷型环氧树脂、二苯基二甲醇型环氧树脂、苯酚二亚苯基型环氧树脂、二环戊二烯型环氧树脂("HP-7200,HP7200H;大日本油墨化学工业(股份)制"等)、环氧丙胺型环氧树脂(二氨基二苯基甲垸型环氧树脂、二环氧丙基苯胺、三环氧丙基氨基苯酚等)、环氧丙基酯型环氧树脂(邻苯二甲酸二环氧丙基酯、己二酸二环氧丙基酯、六氢化邻苯二甲酸二环氧丙基酯、二聚酸二环氧丙基酯等)、乙内酰脲型环氧树脂、脂环式环氧树脂(3，4-环氧基环己基甲基-3'，4'-环氧基环己垸羧酸酯、双(3，4-环氧基环己基甲基)己二酸酯、双环戊二烯二环氧化物、"GT-300、GT-400、ZEHPE3150;Daicel化学工业制"等)、(酰)亚胺型脂环式环氧树脂、三羟基苯基甲烷型环氧树脂、双酚A(线型)酚醛树脂型环氧树脂、四苯酚基乙垸型环氧树脂、邻苯二甲酸环氧丙酯树脂、四环氧丙基二甲酚基乙烷树脂、含萘基的环氧树脂(萘酚芳烷基型环氧树脂、萘酚(线型)酚醛树脂型环氧树脂、4官能萘型环氧树脂、市售品有"ESN-190，ESN-360;新日铁化学(股份)制"、"HP-4032、EXA-4750，EXA-4700;大日本油墨化学工业(股份)制"等)、苯酚化合物和二乙烯基苯或双环戊二烯等二烯烃化合物进行加成反应所得聚苯酚化合物与环氧氯丙垸的反应物、用过乙酸等将4-乙烯基环己烯-l-氧化物的开环聚合物环氧化所得的反应物、具有线状含磷结构的环氧树脂、具有环状含磷结构的环氧树脂、a-甲基-l，2-二苯乙烯型液晶环氧树脂、二苯甲酰基氧化苯型液晶环氧树脂、苯偶氮型液晶环氧树脂、甲亚胺苯基型液晶环氧树脂、联二萘型液晶环氧树脂、吖嗪型环氧树脂、甲基丙烯酸环氧丙基酯共聚合类环氧树脂("CP-50S，CP-50M;日本油脂(股份)制"等)、环己基马来酰亚胺和甲基丙烯酸环氧丙基酯共聚合环氧树脂、双(环氧丙基氧化苯基)芴型环氧树脂、双(环氧丙基氧化苯基)金刚烷型环氧树脂等，但并不限于这些物质。这些环氧树脂，可以l种单独使用，也可以2种以上并用。另外，除了1分子中具有至少2个环氧乙垸基的上述环氧化合物以外，可以使用1分子中至少具有2个p位含垸基的环氧基的环氧化合物、特别优选含p位被烷基取代的环氧基(更具体地讲是指(3-烷基取代环氧丙基等)的化合物。上述至少含P位具有烷基的环氧基的环氧化合物，1分子中所含2个以上环氧基可以全部是p-垸基取代环氧丙基，也可以是至少1个环氧基为卩-垸基取代环氧丙基。上述含P位具有烷基的环氧基的环氧化合物，从室温下保存稳定性的观点考虑，对于上述感光性组合物中所含全部上述环氧化合物，全部环氧基中{3-垸基取代环氧丙基所占比例优选为30%以上，尤其优选为40%以上，特别优选为50%以上。作为上述P-烷基取代环氧丙基，没有特别的限制，可以根据需要适当进行选择，可以列举P-甲基环氧丙基、P-乙基环氧丙基、p-丙基环氧丙基、P-丁基环氧丙基等，从提高上述感光性树脂组合物的保存稳定性的观点和合成容易性的观点考虑，其中优选为p-甲基环氧丙基。作为上述含P位具有垸基的环氧基的环氧化合物，优选为由多价苯酚化合物和P-烷基环氧卤丙烷衍生的环氧化合物。作为上述P-浣基环氧卤丙垸，没有特别的限制，可以根据需要进行适当的选择，可以列举P-甲基环氧氯丙烷、P-甲基环氧溴丙垸、(3-甲基环氧氟丙烷等P-甲基环氧卤丙烷；(3-乙基环氧氯丙垸、P-乙基环氧溴丙烷、(3-乙基环氧氟丙烷等P-乙基环氧卤丙烷；Beta-丙基环氧氯丙垸、(3-丙基环氧溴丙烷、Beta-丙基环氧氟丙烷等P-丙基环氧卤丙垸；(3-丁基环氧氯丙烷、Beta-丁基环氧溴丙垸、Beta-丁基环氧氟丙烷等p-丁基环氧卤丙烷等。从与上述多价苯酚的反应性和流动性的观点考虑，其中优选为Beta-甲基环氧卤丙垸。作为上述多价苯酚化合物，只要是1分子中含2个以上芳香族羟基的化合物，则没有特别的限制，可以根据需要进行适当选择，可以列举双酚A、双酚F、双酚S等双苯酚化合物、双苯酚、四甲基双苯酚等双苯酚化合物、二羟基萘、双萘酚等萘酚化合物、苯酚-甲醛缩聚物等苯酚(线型)酚醛树脂、甲酚-甲醛縮聚物等炭原子数1~10的单烷基取代苯酚-甲醛縮聚物、二甲酚-甲醛缩聚物等炭原子数1~10的二烷基取代苯酚-甲醛縮聚物、双酚A-甲醛缩聚物等双苯酚化合物-甲醛縮聚物、苯酚和炭原子数1~10的单烷基取代苯酚与甲醛的縮聚物、苯酚化合物和二乙烯基苯的加聚物等。其中，为了提高流动性和保存稳定性，优选为上述双苯酚化合物。作为上述含P位具有烷基的环氧基的环氧化合物，可以列举双酚A的二-Beta-烷基环氧丙基醚、双酚F的二-Beta-烷基环氧丙基醚、双酚S的二-(3-烷基环氧丙基醚等双苯酚化合物的二-Beta-烷基环氧丙基醚；双苯酚的二-Beta-烷基环氧丙基醚、四甲基双苯酚的二-P-烷基环氧丙基醚等双苯酚化合物的二-Beta-烷基环氧丙基醚、；二羟基萘的二-Beta-烷基环氧丙基醚、双萘酚的二-Beta-垸基环氧丙基醚等萘酚化合物的Beta-烷基环氧丙基醚；苯酚-甲醛縮聚物的聚-Beta-烷基环氧丙基醚；甲酚-甲醛缩聚物的聚-Beta-烷基环氧丙基醚等炭原子数1~10的单烷基取代苯酚-甲醛縮聚物的聚-Beta-焼基环氧丙基醚；二甲酚-甲醛縮聚物的聚-Beta-烷基环氧丙基醚等炭原子数110的二垸基取代苯酚-甲醛缩聚物的聚-p-烷基环氧丙基醚；双酚A-甲醛縮聚物的聚-Beta-垸基环氧丙基醚等双苯酚化合物-甲醛縮聚物的聚-P-烷基环氧丙基醚；苯酚化合物和二乙烯基苯的加聚物的聚-Beta-烷基环氧丙基醚等。其中优选下述结构式(i)所示双苯酚化合物以及由它们和环氧氯丙烷等所得聚合物衍生的Beta-垸基环氧丙基醚、下述结构式(ii)所示苯酚化合物-甲醛缩聚物的聚－Beta垸基环氧丙基醚。[化2]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage21</formula>CH3/^O结构式(i)结构式(ii)上述结构式(i)中，R表示氢原子和炭原子l6的烷基的任何一种，n表示020的整数。上述结构式(ii)中R表示氢原子和炭原子l-6的垸基的任何一种，R〃表示氢原子和CH3的任何一种，n表示020的整数。这些含P位具有垸基的环氧基的环氧化合物，可以1种单独使用，也可以2种以上并用。另外，也可以并用1分子中至少含有2个环氧乙垸基的环氧化合物和含P位具有垸基的环氧基的环氧化合物。还有作为上述环氧化合物，可以适当使用特开2005-182004号公报所述的市售品及其混合物。作为上述氧杂环丁垸化合物，可以列举1分子内至少含有2个氧杂环丁烷基的氧杂环丁垸化合物。具体地可以列举，双[(3-甲基-3-氧杂环丁烷基甲氧基)甲基]醚、双[(3-乙基-3-氧杂环丁垸基甲氧基)甲基]醚、1，4-二[(3-甲基-3-氧杂环丁垸基甲氧基)甲基]苯、1，4-二[(3-乙基-3-氧杂环丁烷基甲氧基)甲基〗苯、丙烯酸(3-甲基-3-氧杂环丁垸基)甲酯、丙烯酸(3-乙基-3-氧杂环丁烷基)甲酯、甲基丙烯酸(3-甲基-3-氧杂环丁烷基)甲酯、甲基丙烯酸(3-乙基-3-氧杂环丁烷基)甲酯、还有除了它们的低聚物或共聚物等多官能氧杂环丁垸类外，具有氧杂环丁烷基的化合物与(线型)酚醛树脂、聚(p-羟基苯乙烯)、卡尔多(力AK)型双苯酚类、杯(Calix，力y:y夕7)芳烃类、杯(Calix，力U:y夕7)间苯二酚芳烃类、倍半硅氧垸(Silsesquioxane，、乂少t7年才年廿乂)等具有羟基的树脂的醚化合物，其它还可以列举具有氧杂环丁烷环的不饱和单体与(甲基)丙烯酸烷基酯的共聚物等。另外，作为上述聚异氰酸酯化合物，可以使用特开平5-9407号公报所述的聚异氰酸酯化合物，该聚异氰酸酯化合物可以由至少含2个异氰酸酯基的脂肪族、脂环族或芳香基取代脂肪族化合物衍生而来。具体地可以列举2官能异氰酸酯(如1，3-亚苯基二异氰酸酯和1，4-亚苯基二异氰酸酯的混合物、2，4-和2，6-甲苯二异氰酸酯、1，3-禾卩l，4-亚二甲苯基二异氰酸酯、双(4-异氰酸酯苯基)甲垸、双(4-异氰酸环己基)甲烷、异氟尔酮二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、三甲基六亚甲基二异氰酸酯等)、该2官能异氰酸酯与三羟甲基丙烷、季戊四醇、甘油等的多官能醇类；该多官能醇的亚烷基氧化物加成物与上述2官能异氰酸酯的加成物；六亚甲基二异氰酸酯、六亚甲基-1，6-二异氰酸酯及其衍生物等的环式三聚体；等等。封端剂与上述聚异氰酸酯化合物反应所得化合物，也就是封端剂与聚异氰酸酯及其衍生物的异氰酸酯基反应所得化合物中，作为异氰酸酯基封端剂，可以列举醇类(如异丙醇、tert-丁醇等)、内酰胺类(如s-己内酰胺等)、苯酚类(如苯酚、甲酚、p-tert-丁基苯酚、p-sec-丁基苯酚、p-sec-戊基苯酚、p-辛基苯酚、p-壬基苯酚等)、杂环式羟基化合物(如3-羟基吡啶、8-羟基喹啉等)、活性乙烯基化合物(如二烷基丙二酸酯、甲基乙基酮肟、乙酰基丙酮、垸基乙酰醋酸酯肟、丙酮肟、环己酮躬等)等。除此以外，还可以使用特开平6-295060号公报所述的分子内具有至少一个可以聚合的双键和至少1个嵌段异氰酸酯基中的任何一个基团的化合物等。作为上述三聚氰胺衍生物，可以列举如羟甲基三聚氰胺、垸基化羟甲基三聚氰胺(用甲基、乙基、丁基等将羟甲基醚化的化合物)等。它们可以l种单独使用，也可以2种以上并用。其中，从保存稳定性良好，有效提高感光层的表面硬度或固化膜的膜强度考虑，优选为垸基化羟甲基三聚氰胺，特别优选为六甲基化羟甲基三聚氰胺。作为上述热交联剂的组合，优选为2官能化合物之间的组合、2官能化合物与3官能以上化合物的组合、单官能化合物与多官能化合物的组合。其中特别优选为2官能化合物之间的组合、2官能化合物与3官能以上化合物的组合。作为上述2官能化合物，优选为环氧化合物中的双苯酚型环氧化合物，具体地讲，优选从双酚A型、双酚F型、双酚S型和双苯酚型中选择的2种化合物的组合。另外，也优选双苯酚型环氧化合物与(线型)酚醛树脂型环氧化合物的组合、双苯酚型环氧化合物与含杂环环氧化合物的组合、双苯酚型环氧化合物与脂环式环氧化合物的组合、(线型)酚醛树脂型环氧化合物与含杂环环氧化合物的组合、杂环环氧化合物与脂环式环氧化合物的组合。上述热交联剂的组合，优选为环氧当量90400g/eq.的环氧化合物与150~9，000g/叫.的环氧化合物的组合，尤其优选为环氧当量90~300g/eq.的化合物与1508，000g/叫.的化合物的组合。即，上述热交联剂为含2种以上化合物的混合物的情况下，该混合物的环氧当量优选为150400g/eq.，尤其优选为150300g/叫。环氧当量可以依据JISK7236进行测定。上述树脂的含量比，如果将环氧当量值小的树脂设定为A,环氧当量值高的树脂设定为B，则质量比优选为A:B=h100100:1，尤其优选为l:20~20:1，特别优选为l:1010:1。上述感光性组合物中上述热交联剂的固体组分含量优选为1~50质量%，更优选为330质量％。该固体组分含量如果不满1质量％，则不能提高固化膜的膜强度，如果超过50质量％，则显影性或曝光感度会下降。<热固化促进剂>为了促进上述热交联剂环氧化合物或上述氧杂环丁烷化合物的热固化，作为热固化促进剂，可以使用胺化合物(如双氰胺、苄基二甲胺、4-(二甲基氨基)-N，N-二甲基苄基胺、4-甲氧基-N，N-二甲基苄基胺、4-甲基-N，N-二甲基苄基胺等)、季铵盐化合物(如三乙基苄基铵氯化物等)、嵌段异氰酸酯化合物(如二甲基胺等)、咪唑衍生物二环式脒化合物及其盐(如咪唑、2-甲基咪唑、2-乙基咪唑、2-乙基-4-甲基咪唑、2-苯基咪唑、4-苯基咪唑、l-氰基乙基-2-苯基咪唑、1-(2-氰基乙基)-2-乙基-4-甲基咪唑等)、磷化合物(如三苯膦等)、鸟粪胺化合物(如三聚氰胺、鸟粪胺、甲基胍胺、苯鸟粪胺等)、S-三嗪衍生物(如2，4-二氨基-6-甲基丙烯酰氧基乙基-S-三嗪、2-乙烯基-2，4-二氮基-S-三嗪、2-乙烯基-4，6-二氨基-8-三嗪'三聚异氰酸加成物、2，4-二氨基-6-甲基丙烯酰氧基乙基-S-三嗪-三聚异氰酸加成物等)等。它们可以l种单独使用，也可以2种以上并用。只要是上述环氧树脂化合物或上述氧杂环丁烷化合物的固化催化剂，或可以促进它们与羧基的反应的物质，则没有特别的限制，也可以使用上述以外的能促进热固化的化合物。上述环氧化合物、上述氧杂环丁垸化合物、以及可以促进它们与羧酸的热固化的热固化促进剂占上述感光性组合物固体成分的固体含量通常为0.01-15质量％。另外，为了促进作为上述热交联剂的除环氧化合物或上述氧杂环丁垸化合物以外的热交联剂的热固化，可以使用胺化合物(如双氰胺、苄基二甲基胺、4-(二甲基氨基)-N，N-二甲基苄基胺、4-甲氧基-N，N-二甲基苄基胺、4-甲基-N，N-二甲基苄基胺等)、季铵盐化合物(如三乙基苄基铵氯化物等)、嵌段异氰酸酯化合物(如二甲基胺等)、咪唑衍生物二环式脒化合物及其盐(如咪唑、2-甲基咪唑、2-乙基咪唑、2-乙基-4-甲基咪唑、2-苯基咪唑、4-苯基咪唑、l-氰基乙基-2-苯基咪唑、1-(2-氰基乙基)-2-乙基-4-甲基咪唑等)、磷化合物(如三苯基膦等)、鸟粪胺化合物(如三聚氰胺、鸟粪胺、甲基胍胺、苯鸟粪胺等)、S-三嗪衍生物(如2，4一二氨基-6-甲基丙烯酰氧基乙基-S-三嗪、2-乙烯基-2，4-二氨基-S-三嗪、2-乙烯基-4，6-二氨基-S-三嗪三聚异氰酸加成物、2，4-二氨基-6-甲基丙烯酰氧基乙基-S-三嗪，三聚异氰酸加成物等)等作为热固化促进剂。它们可以l种单独使用，也可以2种以上并用。只要是上述热交联剂的固化催化剂，或能够促进它们与羧基的反应的物质，则没有特别的限制，也可以使用能促进热固化的上述以外的化合物。上述热交联剂、以及能够促进它们与羧酸的热固化的热固化促进剂占上述感光性组合物的固体含量优选为0.01-15质量％。<粘合剂>作为上述粘合剂，可以使用侧链含酸性基团和乙烯性不饱和键的高分子化合物。作为上述酸性基团，可以列举羧基、磷酸基、磺酸基等，但从原料的获得考虑，优选为羧基。作为上述粘合剂，优选不溶于水、且在碱性水溶液中溶胀或溶解的化合物。另外，作为上述粘合剂，分子内可以具有至少l个可以聚合的双键，如(甲基)丙烯酸酯基或(甲基)丙烯酰胺基等丙烯酸基、羧酸的乙烯基酯、乙烯基醚、烯丙醚等各种聚合性双键。更具体地讲，可以列举将含环状醚基的聚合性化合物加成于含羧基作为酸性基的丙烯酸树脂所得的化合物，这些含环状醚基的化合物可以是丙烯酸环氧丙基酯、甲基丙烯酸环氧丙基酯、肉桂酸等不饱和脂肪酸的环氧丙基酯或具有脂环式环氧基(如同一分子中的环己烯氧化物等的环氧基)和(甲基)丙烯酰基的化合物等含环氧基的聚合性化合物。另外，可以列举将(甲基)丙烯酸异氰酸酯等含异氰酸酯基的聚合性化合物加成于含酸性基和羟基的丙烯酸树脂所得的化合物、将(甲基)丙烯酸羟基垸基酯等含羟基的聚合性化合物加成于含酸酐基的丙烯酸树脂所得的化合物等。还可以列举使甲基丙烯酸环氧丙基酯等含环状醚基的聚合性化合物与(甲基)丙烯酰基烷基酯等乙烯基单体共聚，将(甲基)丙烯酸加成于侧链的环氧基所得的化合物等。这些例子在特许2763775号公报、特开平3-172301号公报、特开2000-232264号公报等都有列举。其中上述粘合剂特别优选从含环状醚基(如部分结构具有环氧基、氧杂环丁烷基的基团)的聚合性化合物加成于高分子化合物的一部分酸性基的物质、含羧基的聚合性化合物加成于高分子化合物的一部分或全部环状醚基的物质中选择的高分子化合物。此时，与具有酸性基和环状醚基的化合物的加成反应优选在催化剂的存在下进行，该催化剂特别优选从酸性化合物和中性化合物中选择的物质。其中，从感光性组合物的经时显影稳定性考虑，粘合剂优选含有在侧链具有羧基和可含杂环的芳香基，以及在侧链含有乙烯性不饱和键的高分子化合物。——可以含杂环的芳香基——作为上述可以含杂环的芳香基(下面简单地称为"芳香基")，可以列举苯环、2至3个苯环形成稠环的芳香基、苯环和5元不饱和环形成稠环的芳香基等。作为上述芳香基的具体例子，可以列举苯基、萘基、蒽基、菲基、茚基、苊基、芴基、苯(并)吡咯环基、苯(并)呋喃环基、苯并噻吩环基、吡唑环基、异噁唑环基、异噻唑环基、tl引唑环基、苯并异噁唑环基、苯并异噻唑环基、咪唑环基、噁唑环基、噻唑环基、苯并咪唑环基、苯并噁唑环基、苯并噻唑环基、吡啶环基、喹啉环基、异喹啉环基、哒嗪环基、嘧啶环基、吡嗪环基、酞嗪环基、喹唑啉环基、喹喔啉环基、氮丙啶环基、菲啶环基、咔唑环基、嘌呤环基、吡喃环基、哌啶环基、哌嗪环基、吲哚环基、吲哚嗪环基、色烯环基、肉啉环基、吖啶环基、吩噻嗪环基、四唑环基、三嗪环基等。其中优选为芳香烃基，更优选为苯基、萘基。上述芳香基可以具有取代基，作为上述取代基，可以列举如卤原子、可以具有取代基的氨基、烷氧基羰基、羟基、醚基、硫醇基、硫醚基、甲硅垸基、硝基、氰基、可具有取代基的烷基、可具有取代基的烯基、可具有取代基的炔基、可具有取代基的芳基、可具有取代基的杂环基等。作为上述烷基，可以列举如碳原子数1至20的直链型垸基、支链型垸基、环状烷基等。作为上述垸基的具体例子，可以列举甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二垸基、十三垸基、十六烷基、十八烷基、二十烷基、异丙基、异丁基、s-丁基、t-丁基、异戊基、新戊基、l-甲基丁基、异己基、2-乙基己基、2-甲基己基、环己基、环戊基、2-降冰片垸基等。其中优选为碳原子数1至12的直链型垸基、碳原子数3至12的支链型垸基、碳原子数5至10的环状烷基。作为上述烷基可以具有的取代基，可以列举如除去氢原子的一价非金属原子团而成的基团。作为这样的取代基，可以列举如卤原子(-F、-Br、-Cl、-1)、羟基、烷氧基、芳氧基、巯基、垸硫基、芳硫基、垸二硫基、芳二硫基、氨基、N-烷基氨基、N,N-二垸基氨基、N-芳基氨基、N，N-二芳基氨基、N-垸基-N-芳基氨基、酰氧基、氨基甲酰氧基、N-垸基氨基甲酰氧基、N-芳基氨基甲酰氧基、N,N-二垸基氨基甲酰氧基、N，N-二芳基氨基甲酰氧基、N-垸基-N-芳基-氨基甲酰氧基、垸基硫氧基(sulfoxy)、芳基硫氧基、酰基硫基、酰基氨基、N-垸基酰基氨基、N-芳基酰基氨基、脲基、N'-烷基脲基、N'，N'-二烷基脲基、N'-芳基脲基、N'，N'-二芳基脲基、N'-烷基-N'-芳基脲基、N-烷基脲基、N-芳基脲基、N'-垸基-N-烷基脲基、N'-烷基-N-芳基脲基、N'，N'-二垸基-N-垸基脲基、N'，N'-二垸基-N-芳基脲基、N'-芳基-N-烷基脲基、N'-芳基-N—芳基脲基、N'，N'-二芳基-N—烷基脲基、N'，N'-二芳基-N-芳基脲基、N'-垸基-N'-芳基-N-垸基脲基、N'-烷基-N'-芳基-N-芳基脲基、烷氧基羰基氮基、芳氧基羰基氨基、N-烷基-N-烷氧基羰基氨基、N-垸基-N-芳氧基羰基氨基、N-芳基-N-烷氧基羰基氨基、N-芳基-N-芳氧基羰基氨基、甲酰基、酰基、羧基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、N-烷基氨基甲酰基、N,N-二烷基氨基甲酰基、N-芳基氨基甲酰基、N,N-二芳基氨基甲酰基、N-烷基-N-芳基-氮基甲酰基、烷基亚硫酰基、芳基亚硫酰基(sulfmyl)、烷基磺酰基、芳基磺酰基、磺基(-S03H)及其共轭碱基(称为磺酸根(sulfonate)基)、垸氧基磺酰基、芳氧基磺酰基、氨亚磺酰基(sulfmamoyl，7少7^于乇^/W、N-烷基氨亚磺酰基、N，N-二烷基氨亚磺酰基、N-芳基氨亚磺酰基、N，N-二芳基氨亚磺酰基、N-烷基-N-芳基氨亚磺酰基、氨磺酰基、N-烷基氨磺酰基、N,N-二垸基氨磺酰基、N-芳基氨磺酰基、N,N-二芳基氨磺酰基、N-烷基-N-芳基氨磺酰基、膦酰基(-P03H2)及其共轭碱基(称为膦酸根(phosphonato，膦酰根)基)、二烷基膦酰基(-P03(alky1)2)(以下"alkyl"即指烷基)、二芳基膦酰基(-P03(aryl)2)(以下"aryl"即指芳基)、垸基芳基膦酰基(_P03(alkyl)(aryl))、单烷基膦酰基(-P03(alkyl))及其共轭碱基(称为烷基膦酸根基)、单芳基膦酰基(-P03H(aryl))、及其共轭碱基(称为芳基膦酸根基)、膦酰氧基(-OP03H2)及其共轭碱基(称为膦酸根氧基)、二垸基膦酰氧基(-OP03H(alkyl)2)、二芳基膦酰氧基(-OP03(aryl)2)、烷基芳基膦酰氧基(-OP03(alkyl)(aryl))、单烷基膦酰氧基(-OP03H(alkyl))及其共轭碱基(称为烷基膦酸根氧基)、单芳基膦酰氧基(-OP03H(aryl))及其共轭碱基(称为芳基膦酸根氧基)、氰基、硝基、芳基、烯基、炔基、杂环基、甲硅烷基等。作为这些取代基中烷基的具体例子，可以列举上述的烷基。作为上述取代基中芳基的具体例子，可以列举苯基、联苯基、萘基、甲苯基、二甲苯基、莱基、枯烯基、氯苯基、溴苯基、氯甲基苯基、羟基苯基、甲氧基苯基、乙氧基苯基、苯氧基苯基、乙酰氧基苯基、苯甲酰氧基苯基、甲硫基苯基、苯硫基苯基、甲基氨基苯基、二甲基氨基苯基、乙酰基氨基苯基、羧基苯基、甲氧基羰基苯基、乙氧基苯基羰基、苯氧基羰基苯基、N-苯基氨基甲酰基苯基、氰基苯基、磺基苯基、磺酸根苯基、膦酰基苯基、膦酸根苯基等。作为上述取代基中烯基的具体例子，可以列举乙烯基、l-丙烯基、1-丁烯基、肉桂基、2-氯-l-乙烯基等。作为上述取代基中炔基的具体例子，可以列举乙炔基、l-丙炔基、1-丁炔基、三甲基甲硅烷基乙炔基等。作为上述取代基中酰基(RQ1CO-)的RQ1，可以列举氢原子、上述垸基、芳基等。这些取代基中，优选卤原子(一F、一Br、一C1、一I)、垸氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、N-垸基氨基、N，N-二烷基氨基、酰氧基、N-垸基氨基甲酰氧基、N-芳基氨基甲酰氧基、酰氨基、甲酰基、酰基、羧基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、N-垸基氨基甲酰基、N，N-二垸基氨基甲酰基、N-芳基氨基甲酰基、N-烷基-N-芳基氨基甲酰基、磺基、磺酸根基、氨磺酰基、N-烷基氨磺酰基、N，N-二垸基氨磺酰基、N-芳基氨磺酰基、N-烷基-N-芳基氨磺酰基、膦酰基、膦酸根基、二烷基膦酰基、二芳基膦酰基、单烷基膦酰基、烷基膦酸根基、单芳基膦酰基、芳基膦酸根基、膦酸根氧基、膦酰氧基、芳基、烯基等。另外，作为上述取代基中的杂环基，可以列举吡啶基、哌啶基等，作为上述取代基中的甲硅烷基，可以列举三甲基甲硅垸基。另一方面，作为上述烷基中的亚垸基，可以列举除去上述炭原子数1至20的烷基上任何1个氢原子、成为2价有机残基的亚烷基，优选炭原子数1至12的直链型亚烷基、炭原子数3至12的支链型亚烷基、炭原子数5至10的环状亚烷基等。作为这样的取代基和亚烷基组合所得取代垸基的具体优选例子，可以列举氯甲基、溴甲基、2-氯乙基、三氟代甲基、甲氧基甲基、异丙氧基甲基、丁氧基甲基、s-丁氧基丁基、甲氧乙氧基乙基、烯丙氧基甲基、苯氧基甲基、甲硫基甲基、甲苯基硫基甲基、吡啶基甲基、四甲基哌啶基甲基、N-乙酰基四甲基哌啶基甲基、三甲基甲硅烷基甲基、甲氧基乙基、乙基氨基乙基、二乙基氨基丙基、吗啉代丙基、乙酰氧基甲基、苯甲酰氧基甲基、N-环己基氨基甲酰氧基乙基、N-苯基氨基甲酰氧基乙基、乙酰氨基乙基、N-甲基苯甲酰氨基丙基、2-氧代乙基、2-氧代丙基、羧基丙基、甲氧基羰基乙基、烯丙氧基羰基丁基、氯苯氧基羰基甲基、氨基甲酰基甲基、N-甲基氨基甲酰基乙基、N,N-二丙基氨基甲酰基甲基、N-(甲氧基苯基)氨基甲酰基乙基、N-甲基-N-(磺基苯基)氨基甲酰基甲基、磺基丁基、磺酸根丁基、氨磺酰基丁基、N-乙基氨磺酰基甲基、N，N-二丙基氨磺酰基丙基、N-甲苯基氨磺酰基丙基、N-甲基-N-(膦酰基苯基)氨磺酰基辛基、膦酰基丁基、膦酰根己基、二乙基膦酰基丁基、二苯基膦酰基丙基、甲基膦酰基丁基、甲基膦酰根丁基、甲苯基膦酰基己基、甲苯基膦酰根己基、膦酰氧基丙基、膦酰根氧基丁基、苄基、苯乙基、a-甲基苄基、l-甲基-l-苯基乙基、p-甲基节基、肉桂基、烯丙基、1-丙烯基甲基、2-丁烯基、2-甲基烯丙基、2-甲基丙烯基甲基、2-丙炔基、2-丁炔基、3-丁炔基等。作为上述芳基，可以列举如苯环、2至3个苯环形成的稠环、苯环和5元不饱和环形成的稠环等。作为上述芳基的具体例子，可以列举如苯基、萘基、蒽基、菲基、茚基、苊基、芴基等。其中优选为苯基、萘基。上述芳基可以具有取代基，作为这样的具有取代基的芳基(以下有时称为"取代芳基"。)，可以列举在上述芳基的形成环的碳原子上，作为取代基具有由氢原子以外的一价非金属原子团构成的基团的芳基。作为上述芳基可以具有的取代基，优选如上述垸基、取代垸基、作为上述垸基可以具有的取代基所示的基团。作为优选的上述取代芳基的具体例子，可以列举联苯基、甲苯基、二甲苯基、莱基、枯烯基、氯苯基、溴苯基、氟苯基、氯甲基苯基、三氟甲基苯基、羟基苯基、甲氧基苯基、甲氧乙氧基苯基、烯丙氧基苯基、苯氧基苯基、甲基硫基苯基、￥苯基硫基苯基、乙基氨基苯基、二乙基氨基苯基、吗啉代苯基、乙酰氧基苯基、苯甲酰氧基苯基、N-环己基氨基甲酰氧基苯基、N-苯基氨基甲酰氧基苯基、乙酰基氨基苯基、N-甲基苯甲酰氨基苯基、羧基苯基、甲氧基羰基苯基、烯丙氧基羰基苯基、氯苯氧基羰基苯基、氨基甲酰基苯基、N-甲基氨基甲酰基苯基、N，N-二丙基氨基甲酰基苯基、N-(甲氧基苯基)氨基甲酰基苯基、N-甲基-N-(磺基苯基)氨基甲酰基苯基、磺基苯基、磺酸根苯基、氨磺酰苯基、N-乙基氨磺酰苯基、N，N-二丙基氨磺酰苯基、N-甲苯基氨磺酰苯基、N-甲基-N-(膦酰基苯基)氨磺酰苯基、膦酰苯基、膦酰根苯基、二乙基膦酰苯基、二苯基膦酰苯基、甲基膦酰苯基、甲基膦酰根苯基、甲苯基膦酰苯基、甲苯基膦酰根苯基、烯丙基苯基、1-丙烯基甲基苯基、2-丁烯基苯基、2-甲基烯丙基苯基、2-甲基丙烯基苯基、2-丙炔基苯基、2-丁炔基苯基、3-丁炔基苯基等。作为上述烯基(-c(r02)=c(r03)(r04))和炔基(-c三c(r05))，可以列举如W2、rw、rQ4和rm由一价非金属原子团构成的基团。作为上述r112、rQ3、rq4、rq5，可以列举如氢原子、卤原子、烷基、取代烷基、芳基、取代芳基等。作为它们的具体例子，可以列举上述作为例子所示的基团。其中优选为氢原子、卤原子、碳原子数1至10的直链型垸基、支链型烷基、环状垸基。作为优选的上述烯基和炔基的具体例子，可以列举乙烯基、1-丙烯基、卜丁烯基、l-戊烯基、1-己烯基、l-辛烯基、l-甲基-l-丙烯基、2-甲基-l-丙烯基、2-甲基-l-丁烯基、2-苯基-l-乙烯基、2-氯-l-乙烯基、乙炔基、1-丙炔基、1-丁炔基、苯基乙炔基等。作为上述杂环基，可以列举如作为取代垸基的取代基所示的吡啶基等。作为这样的氧基(r^o—)，可以使用rm为去除氢原子的一价的非金属原子构成的基的取代基。作为优选的取代氧基，如烷氧基、芳氧基、酰氧基、氨基甲酰氧基、N-垸基氨基甲酰氧基、N-芳基氨基甲酰氧基、N，N-二垸基氨基甲酰氧基、N，N-二芳基氨基甲酰氧基、N-烷基-N-芳基氨基甲酰氧基、烷基硫氧基、芳基硫氧基、膦酰氧基、膦酰根氧基等。作为这些中的烷基和芳基，可以列举作为上述垸基、取代垸基、芳基及取代芳基所示的基团。另外，作为酰氧基中的酰基(rq7co-)，可以列举r^为前面所举例的垸基、取代烷基、芳基和取代芳基的基团。这些取代基中，尤其优选垸氧基、芳氧基、酰氧基、芳基硫氧基。作为优选的氧基的具体例子，可以列举甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基、戊氧基、己氧基、十二烷氧基、苄基氧基、烯丙氧基、苯乙氧基、羧乙氧基、甲氧羰基乙氧基、乙氧羰基乙氧基、甲氧乙氧基、苯氧乙氧基、甲氧乙氧乙氧基、乙氧乙氧乙氧基、吗啉代乙氧基、吗啉代丙氧基、烯丙氧基乙氧乙氧基、苯氧基、甲苯氧基、二甲苯氧基、茶基氧基、枯烯氧基、甲氧苯氧基、乙氧苯氧基、氯苯氧基、溴苯氧基、乙酰氧基、苯甲酰氧基、萘氧基、苯基磺酰氧基、膦酰氧基、膦酰根氧基等。作为可以含有酰胺基的氨基(RQ8NH-、(R°9)(IT)N-)，可以列举如R()8、ir和R,由除了氢原子的一价非金属原子团构成的基团。而R。8、R。9和R,也可以结合形成环。作为上述氨基，可以列举如N-垸基氨基、N,N-二垸基氨基、N-芳基氨基、N，N-二芳基氨基、N-烷基-N-芳基氨基、酰氨基、N-烷基酰氨基、N-芳基酰氨基、脲基、N'-烷基脲基、N'，N'-二垸基脲基、N'-芳基脲基、N'，N'-二芳基脲基、N'-烷基-N'-芳基脲基、N-垸基脲基、N-芳基脲基、N'-垸基-N-垸基脲基、N'-烷基-N-芳基脲基、N'，N'-二烷基-N-垸基脲基、N'-烷基-N'-芳基脲基、N'，N'-二烷基-N-烷基脲基、N'，N'-二烷基-N'-芳基脲基、N'-芳基-N-烷基脲基、N'-芳基-N-芳基脲基、N'，N'-二芳基-N-烷基脲基、N'，N'-二芳基-N-芳基脲基、N'-垸基-N'-芳基-N-垸基脲基、N'-烷基-N'-芳基-N-芳基脲基、垸氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、N-烷基-N-烷氧基羰基氨基、N-垸基-N-芳氧基羰基氨基、N-芳基-N-烷氧基羰基氨基、N-芳基-N-芳氧基羰基氨基等。作为其中的烷基和芳基，可以列举上述作为垸基、取代烷基、芳基及取代芳基所示的基团。另外，酰氨基、N-垸基酰氨基、N-芳基酰氨基中的酰基(R°7C0-)的R。7如前所述。其中特别优选N-垸基氨基、N，N-二烷基氨基、N-芳基氨基、酰氨基。作为优选的氨基的具体例子，可以列举甲基氨基、乙基氨基、二乙基氨基、吗啉代基、哌啶基、吡咯烷基、苯基氨基、苯甲酰氨基、乙酰氨基等。作为上述磺酰基(RQ11—S02—)，可以列举如Rei1由一价非金属原子团而得的基团。作为这样的磺酰基，优选为烷基磺酰基、芳基磺酰基等。作为其中的烷基和芳基，可以列举上述作为垸基、取代垸基、芳基和取代芳基所示的基团。作为上述磺酰基的具体例子，可以列举丁基磺酰基、苯基磺酰基、氯苯基磺酰基等。上述膦酰根基(-S03-)，如前所述，是指磺基(-S03H)的共轭碱阴离子基，通常优选与对阳离子共同使用。作为这样的对阳离子，可以适当选择使用一般已知的物质，可以列举如鐺类(如铵类、锍类、鳞类、碘鐺类、叠氮鑰(7夕二々厶)类等)、金属离子类(如Na+、K+、Ca+、Zn+等)。作为上述羰基(RQ13-CO-)，可以列举R。'3由一价非金属原子团而得的基团。作为这样的羰基，可以列举如甲酰基、酰基、羧基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、N-烷基氨基甲酰基、N，N-二垸基氨基甲酰基、N-芳基氨基甲酰基、N,N-二芳基氨基甲酰基、N-烷基-N'-芳基氨基甲酰基等。作为其中的垸基和芳基，可以列举上述作为烷基、取代烷基、芳基和取代芳基所示的基团。作为上述羰基，优选为甲酰基、酰基、羧基、垸氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、N-烷基氨基甲酰基、N,N-二烷基氨基甲酰基、N-芳基氨基甲酰基，尤其优选为甲酰基、酰基、垸氧基羰基、芳氧基羰基。作为上述羰基的具体例子，可以适当列举甲酰基、乙酰基、苯甲酰基、羧基、甲氧基羰基、乙氧基羰基、烯丙氧基羰基、二甲基氨基苯基乙烯基羰基、甲氧基羰基甲氧基羰基、N-甲基氨基甲酰基、N-苯基氨基甲酰基、N,N-二乙基氨基甲酰基、吗啉代羰基等。作为上述亚磺酰基(RQ14-SO-)，可以列举R。"由一价非金属原子团而得的基团。作为这样的亚磺酰基，可以列举如烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、氨亚磺酰基、N-垸基氨亚磺酰基、N,N-二垸基氨亚磺酰基、N-芳基氨亚磺酰基、N,N-二芳基氨亚磺酰基、N-烷基-N-芳基氨亚磺酰基等。作为其中的垸基和芳基，可以列举上述作为烷基、取代垸基、芳基和取代芳基所示的基团。而其中优选为垸基亚磺酰基、芳基亚磺酰基。作为上述取代亚磺酰基的具体例子，可以适当列举己基亚磺酰基、节基亚磺酰基、甲苯基亚磺酰基等。上述膦酰基是指膦酰基上一至二个羟基被其它的有机氧代(OXO)基取代的基团，优选如上述的二烷基膦酰基、二芳基膦酰基、院基芳基膦酰基、单垸基膦酰基、单芳基膦酰基等。其中尤其优选二烷基膦酰基、二芳基膦酰基。作为更优选的上述膦酰(phosphono)基的具体例子，可以列举二乙基膦酰基、二丁基膦酰基、二苯基膦酰基等。上述膦酰根基(-P03H2-、-P03H-)，如前所述，是指来源于膦酰基(-P03H2)的酸一级电离或酸二级电离的共轭碱阴离子基。通常优选与对阳离子一同使用。作为这样的对阳离子，可以适当选择一般已知的物质，如可以列举各种鑰类(铵类、锍类、鳞类、碘鐵类、叠氮鑰类等)、金属离子类(如Na+、K+、Ca2+、Zn2+等)。上述膦酰根基可以是膦酰基内羟基被一个有机氧代基取代的基团的共轭碱阴离子基，作为这样的具体例子，可以列举上述的单烷基膦酰基(-P03H(alkyl))、单芳基膦酰基(-P03H(aryl))的共轭碱。上述芳香基可以使含芳香基的自由基聚合性化合物1种以上与根据需要作为共聚合成分的其它自由基聚合性化合物1种以上通过一般的自由基聚合法制造得到。作为上述自由基聚合法，可以列举一般的悬浮聚合法或溶液聚合法等。作为上述含芳香基的自由基聚合性化合物，优选为如结构式(A)所示的化合物、结构式(B)所示的化合物。[化4]结构式(A)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage33</formula>上述结构式(A)中，R,、R2和R3表示氢原子或一价有机基团。L表示有机基团，也可以没有。Ar表示可以含杂环的芳香基。[化5]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage34</formula>结构式(B)上述结构式(B)中，R,、RJHR3以及Ar表示与上述通式(A)相同的含义。作为上述L的有机基团，可以列举如由非金属原子构成的多价有机基团，可以列举由l至60个碳原子、0至10个氮原子、0至50个氧原子、1至100个氢原子和0至20个硫原子形成的有机基团。更具体地讲，作为上述L的有机基团，可以列举下述结构单元组合构成的基团、多价萘、多价蒽等。[化6]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage34</formula>上述L的连结基可以具有取代基，作为上述取代基，可以列举上述的卤原子、羟基、羧基、磺酸根基、硝基、氰基、酰胺基、氨基、烷基、烯基、炔基、芳基、取代氧基、取代磺酰基、取代羰基、取代亚磺酰基、磺基、膦酰基、膦酰根基、甲硅烷基、杂环基。上述结构式(A)所示的化合物及结构式(B)所示的化合物中，从感度考虑，优选结构式(A)所示的化合物。另外上述结构式(A)中，<formula>formulaseeoriginaldocumentpage34</formula>从稳定性考虑，优选具有连结基的化合物，作为上述L的有机基，从非图像部分的除去性(显影性)考虑，优选碳原子数14的亚垸基。上述结构式(A)所示的化合物成为含下述结构式(I)所示结构单元的化合物。上述结构式(B)所示的化合物成为含下述结构式(II)所示结构单元的化合物。其中从保存稳定性考虑，优选含结构式(I)所示结构单元的化合物。[化7]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage35</formula>上述结构式(I)禾B(II)中，RhR2、R3和Ar表示与上述结构式(A)和(B)相同的含义。上述结构式(I)和(II)中，从非图像部分的除去性(显影性)考虑，优选R,和R2为氢原子、R3为甲基。上述结构式(I)的L，从非图像部分的除去性(显影性)考虑，优选碳原子数14的亚烷基。作为上述结构式(A)所示的化合物或结构式(B)所示的化合物，没有特别的限制，可以列举以下的示例化合物(1)(30)。[化9]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage36</formula><formula>formulaseeoriginaldocumentpage37</formula>上述示例化合物(1)(30)中，优选为(5)、(6)、(11)、(14)和(28)，其中，从保存稳定性和显影性考虑，更优选为(5)和(6)。上述可以含杂环的芳香基在上述粘合剂中的含量没有特别的限制，将高分子化合物的全部结构单元设为100mol呢的情况下，优选含20mol9&以上的上述结构式(I)所示结构单元，更优选含3045mOl%。上述含量如果不足20mol^，保存稳定性会下降，如果超过4511101%，显影性会下降。——乙烯性不饱和键——作为上述乙烯性不饱和键没有特别的限制，可以根据需要适当选择，但优选下述结构式(III)(V)所示的键。[化ll〗<formula>formulaseeoriginaldocumentpage38</formula>结构式(瓜)RlR2<formula>formulaseeoriginaldocumentpage38</formula>结构式OV)fe5S7<formula>formulaseeoriginaldocumentpage38</formula>结构式(V)上述结构式(III)(V)中，R,Rn各自独立地表示一价有机基。X和Y各自独立地表示氧原子、硫原子或-N-R4。Z表示氧原子、硫原子、-N-R4或亚苯基。R4表示氢原子或1价有机基。上述结构式(III)中，作为R,，优选为各自独立的氢原子、可以具有取代基的垸基等，由于氢原子、甲基的自由基反应性高，因而是更优选的。作为上述R2和R3，可以各自独立地列举氢原子、卤原子、氨基、羧基、烷氧基羰基、磺基、硝基、氰基、可以具有取代基的垸基、可以具有取代基的芳基、可以具有取代基的烷氧基、可以具有取代基的芳氧基、可以具有取代基的烷基氨基、可以具有取代基的芳基氨基、可以具有取代基的垸基磺酰基、可以具有取代基的芳基磺酰基等，而氢原子、羧基、垸氧基羰基、可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳基，由于自由基反应性高，因而是更优选的。作为上述R4，优选为可以具有取代基的垸基等，由于氢原子、甲基、乙基、异丙基具有高的自由基反应性，因而是更优选的。在此，作为可以导入的上述取代基，可以列举如垸基、烯基、炔基、芳基、烷氧基、芳氧基、卤原子、氨基、垸基氨基、芳基氨基、羧基、垸氧基羰基、磺基、硝基、氰基、酰胺基、垸基磺酰基、芳基磺酰基等。作为上述结构式(IV)中的R4Rs，优选为氢原子、卤原子、氨基、二垸基氨基、羧基、烷氧基羰基、磺基、硝基、氰基、可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳基、可以具有取代基的烷氧基、可以具有取代基的芳氧基、可以具有取代基的烷基氨基、可以具有取代基的芳基氨基、可以具有取代基的烷基磺酰基、可以具有取代基的芳基磺酰基等，更优选为氢原子、羧基、烷氧基羰基、可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳基。作为可以导入的所述取代基，可以用上述结构式(III)所列举的基团作为示例。作为上述结构式(V)中的R9，优选为氢原子、可以具有取代基的烷基等，由于氢原子、甲基具有高的自由基反应性，因而是更优选的。作为上述Ru,、Rh各自独立，优选为氢原子、卤原子、氨基、二烷基氨基、羧基、烷氧基羰基、磺基、硝基、氰基、可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳基、可以具有取代基的烷氧基、可以具有取代基的芳氧基、可以具有取代基的垸基氨基、可以具有取代基的芳基氨基、可以具有取代基的烷基磺酰基、可以具有取代基的芳基磺酰基等，由于氢原子、羧基、垸氧基羰基、可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳基具有高的自由基反应性，因而是更优选的。在此，作为可以导入的上述取代基，可以用结构式(III)所列举的基团作为示例。上述Z表示氧原子、硫原子、-NRn-或可以具有取代基的亚苯基。R13表示可以具有取代基的烷基等，由于氢原子、甲基、乙基、异丙基具有高的自由基反应性，因而是优选的。上述结构式(in)(v)所示的侧链乙烯性不饱和键中，结构式(ni)的键由于其高的聚合反应性、高的感度，因而是更优选的。上述乙烯性不饱和键在上述高分子化合物中的含量，没有特别的限制，优选为0.53.Omeq/g,更优选为1.03.Omeq/g，特别优选为1.52.8meq/g。上述含量如果不足0.5meq/g，则由于固化反应量少而使感度变低，如果超过3.0meq/g,则保存稳定性会下降。在此，上述含量(meq/g)可以用碘量滴定法测定。作为将上述结构式(III)所示的乙烯性不饱和键导入侧链的方法没有特别的限制，如可以将侧链含羧基的高分子化合物与含乙烯性不饱和键及环氧基的化合物加成反应而获得。上述侧链含羧基的高分子化合物，可以根据需要使含羧基的自由基聚合性化合物1种以上与作为共聚合成分的其它自由基聚合性化合物1种以上，用一般的自由基聚合法制造，作为上述自由基聚合法，可以列举如悬浮聚合法、溶液聚合法等。作为上述含乙烯性不饱和键及环氧基的化合物，没有特别的限制，但优选如下述结构式(VI)所示的化合物和(VII)所示的化合物。特别是使用结构式(VI)所示的化合物，由于感度高，因而是更优选的。[化12]上述结构式(VI)中，Ri表示氢原子或甲基。L,表示有机基。[化13]上述结构式(VII)中，R2表示氢原子或甲基。L表示有机基。W表示47元环的脂肪族烃基。上述结构式(VI)所示的化合物和结构式(VII)所示的化合物中，优选结构式(VI)所示的化合物，上述结构式(VI)中，更优选L,为碳原子数14的亚烷基的化合物。作为上述结构式(VI)所示的化合物或结构式(VII)所示的化合物，没有特别的限制，可以列举如下示例的化合物(31)(40)。结构式(VU2cH6\厂Loo1一2[化14]作为上述含羧基的自由基聚合性化合物，有丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、异巴豆酸、马来酸、p-羧基苯乙烯等，特别优选的酸可以列举丙烯酸、甲基丙烯酸等。作为向上述侧链的导入反应，可以通过使三乙基胺、苄基甲基胺等叔胺、十二垸基三甲基铵氯化物、四甲基铵氯化物、四乙基铵氯化物等季铵盐、吡啶、三苯基膦等，在作为催化剂的有机溶剂中，于反应温度50150'C下反应数小时数十小时而进行。作为上述侧链具有乙烯性不饱和键的结构单元，没有特别的限制，但优选下述结构式(iii)所示的结构、结构式(iv)所示的结构以及将它们混合起来所示的结构。[化15]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage42</formula>上述结构式(iii)和(iv)中，RaRc表示氢原子或一价有机基。R,表示氢原子或甲基。L,表示可以具有连结基的有机基。上述结构式(iii)所示的结构至结构式(iv)所示的结构在高分子化合物中的含量优选为2Omol9&以上，更优选2050mol%，特别优选2545mol%。上述含量如果不足20mol呢，则由于固化反应量少而使感度变低，如果多于50mol9&，则保存稳定性会变差。一羧基一本发明的高分子化合物中，为了提高非图像部分的去除性等诸性能，可以含有羧基。上述羧基可以通过使含酸性基的自由基聚合性化合物共聚而赋予上述高分子化合物。作为这样的具有自由基聚合性的酸性基团，可以列举如羧酸、磺酸、磷酸基等，特别优选羧酸基。作为含上述羧基的自由基聚合性化合物，没有特别的限制，可以根据需要适当选择，可以列举如丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、异巴豆酸、马来酸、P-羧基苯乙烯等，其中，优选丙烯酸、甲基丙烯酸、p-羧基苯乙烯等。它们可以l种单独使用，也可以2种以上并用。上述羧基在粘合剂中的含量为1.04.0meq/g，优选为1.53.0meq/g。上述含量如果不足1.Omeq/g，显影性不充分，如果超过4.Omeq/g，则碱性水显影的图像强度容易受损。为了提高图像强度等诸性能，本发明的高分子化合物，除了上述的自结构式(iii〉<formula>formulaseeoriginaldocumentpage42</formula>由基聚合性化合物，更优选其它的自由基聚合性化合物进行共聚。作为上述其它的自由基聚合性化合物，可以列举从丙烯酸酯类、甲基丙烯酸酯类、苯乙烯类等中选择的自由基聚合性化合物等。具体地可以列举丙烯酸垸基酯等丙烯酸酯类、丙烯酸芳基酯、甲基丙烯酸烷基酯等甲基丙烯酸酯类、甲基丙烯酸芳基酯、苯乙烯、垸基苯乙烯等苯乙烯类、烷氧基苯乙烯、卤苯乙烯等。作为上述丙烯酸酯类，优选烷基的炭原子数120的酯类，可以列举如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸戊酯、丙烯酸乙基己酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸一t一辛酯、丙烯酸氯乙基酯、丙烯酸2，2—二甲基羟基丙基酯、丙烯酸5—羟基戊基酯、三羟甲基丙烷单丙烯酸酯、季戊四醇单丙烯酸酯、丙烯酸环氧丙基酯、丙烯酸苄基酯、丙烯酸甲氧基节基酯、丙烯酸糠酯、丙烯酸四氢呋喃酯等。作为上述丙烯酸芳基酯，可以列举如丙烯酸苯基酯等。作为上述甲基丙烯酸酯类，优选烷基的炭原子数120的酯类，可以列举如甲基丙烯酸甲基酯、甲基丙烯酸乙基酯、甲基丙烯酸丙基酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸戊酯、甲基丙烯酸己酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸苄基酯、甲基丙烯酸氯苄基酯、甲基丙烯酸辛酯、甲基丙烯酸4一羟基丁基酯、甲基丙烯酸5—羟基戊基酯、甲基丙烯酸2，2—二甲基一3—羟基丙基酯、三羟甲基丙烷单甲基丙烯酸酯、季戊四醇单甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸环氧丙基酯、甲基丙烯酸糠酯、甲基丙烯酸四氢呋喃酯作为上述芳基甲基丙烯酸酯，可以列举如苯基甲基丙烯酸酯、甲酚甲基丙烯酸酯、萘基甲基丙烯酸酯等。作为上述苯乙烯类，可以列举如甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、异丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、环己基苯乙烯、癸基苯乙烯、苄基苯乙烯、氯甲基苯乙烯、三氟甲基苯乙烯、乙氧基甲基苯乙烯、乙酰氧基甲基苯乙烯等。作为上述垸氧基苯乙烯，可以列举如甲氧基苯乙烯、4一甲氧基一3—甲基苯乙烯、二甲氧基苯乙烯等。作为上述卤代苯乙烯，可以列举如氯苯乙烯、二氯苯乙烯、三氯苯乙烯、四氯苯乙烯、五氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯、氟苯乙烯、三氟苯乙烯、2—溴一4一三氟甲基苯乙烯、4一氟一3—三氟甲基苯乙烯等。这些自由基聚合性化合物可以1种单独使用，也可以2种以上并用。作为本发明的高分子化合物合成时使用的溶剂，没有特别的限制，可以根据需要适当选择，可以列举如二氯化乙烯、环己酮、丁酮、丙酮、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚、2—甲氧基乙基乙酸酯、l一甲氧基一2—丙醇、l一甲氧基一2—丙基乙酸酯、N，N—二甲基甲酰胺、N，N二甲基乙酰胺、二甲基亚砜、甲苯、醋酸乙酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯等。它们可以l种单独使用，也可以2种以上并用。本发明的高分子化合物的分子量，优选重均分子量为IO，000以上，更优选为10，00050，000。上述重均分子量如果低于10，000，则固化膜强度不足，如果超过50，000，则显影性趋于下降。另外，本发明的高分子化合物中也可以含未反应的单体。此时上述单体在上述高分子化合物中的含量优选为15质量％以下。本发明中的高分子化合物，可以1种单独使用，也可以2种以上并用。另外，也可以与其它的高分子化合物混合使用。此时，上述其它的高分子化合物在上述本发明的高分子化合物中的含量优选为50质量％以下，更优选为30质量％以下。上述粘合剂在上述感光性组合物中的固体含量优选为580质量％，更优选为1070质量％。<聚合性化合物>作为上述聚合性化合物，没有特别的限制，可以根据需要适当选择，但优选含1个以上乙烯性不饱和键的化合物。作为上述乙烯性不饱和键，可以列举如(甲基)丙烯酰基、(甲基)丙烯酰胺基、苯乙烯基、乙烯基酯或乙烯基醚等乙烯基、烯丙基醚或烯丙基酯等烯丙基、等等。作为上述含l个以上乙烯性不饱和键的化合物，没有特别的限制，可以根据需要适当选择，可以适当列举从含(甲基)丙烯酸基的单体中选择的至少1种化合物。作为上述具有(甲基)丙烯酸基的单体，没有特别的限制，可以根据需要适当选择，可以列举如聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯等单官能丙烯酸酯或单官能甲基丙烯酸酯；聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙垸三丙烯酸酯、三羟甲基丙垸二丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙垸三(丙烯酰氧基丙基)醚、三(丙烯酰氧基乙基)三聚异氰酸酯、三(丙烯酰氧基乙基)三聚氰酸酯、(甲基)丙烯酸甘油酯、在将环氧乙垸或环氧丙烷加成反应于三羟甲基丙垸或甘油、双酚等多官能醇类后再(甲基)丙烯酸酯化的单体、特公昭48-41708号、特公昭50-6034号、特开昭51-37193号等各公报记载的聚氨酯丙烯酸酯类；特开昭48-64183号、特公昭49-43191号、特公昭52-30490号等各公报记载的聚酯丙烯酸酯类；环氧树脂和(甲基)丙烯酸的反应生成物即环氧丙烯酸酯类等多官能丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯等。其中特别优选为三羟甲基丙垸三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯。上述聚合性化合物占上述感光性组合物固体成分的固体成分含量，优选为550质量％，更优选为1040质量％。该固体成分含量如果不足5质量％，则会产生显影性差、曝光感度低等问题，如果超过50质量％，则感光层的粘附性变得过强。<光聚合引发剂>作为上述光聚合引发剂，只要具备引发上述聚合性化合物聚合的能力，则没有特别的限制，可以从已知的光聚合引发剂中适当选择，但优选从紫外线至可见光范围具有感光性的引发剂，可以是与光激发的增感剂起作用，生成活性自由基的活性剂，也可以是根据单体的种类尽量引发阳离子聚合的引发剂。另外，上述光聚合引发剂优选含有至少l种，在约300800nm(更优选330500nm)范围内，至少具有约50的摩尔吸光系数的成分。作为上述光聚合引发剂，可以列举如卤代烃衍生物(如具有三嗪骨架的衍生物、具有噁二唑骨架的衍生物等)、六芳基二咪唑、肟衍生物、有机过氧化物、硫化合物、酮化合物、芳香族鐺盐、芳环烯金属衍生物等。其中从感光层的感度、保存性、以及感光层与印刷布线板形成用基板的附着力等观点考虑，优选氧化膦化合物、肟衍生物、酮化合物、六芳基二咪唑类化合物。具体可以列举如特开2005-258431号公报的记载的化合物等。上述光聚合引发剂可以l种单独使用，也可以2种以上并用。上述光聚合引发剂在上述感光性组合物中的含量优选为O.130质量。％，更优选为O.520质量％，特别优选为O.515质量％。<其它成分>作为上述其它成分，可以列举增感剂、热阻聚剂、增塑剂、着色剂(着色颜料或染料)、填充颜料等。还可以与对基材表面的附着促进剂以及其它助剂(如导电性粒子、填充剂、消泡剂、阻燃剂、流平剂、剥离促进剂、防氧化剂、香料、表面张力调节剂、链转移剂等)并用。通过适当含有这些成分，可以调整最终感光组合物的稳定性、照相性、膜物性等性质。一增感剂一为了调整对感光层曝光的曝光感度或感光波长，除了上述光聚合引发剂外，可以添加增感剂。上述增感剂可以根据下面作为光照射机构的可见光或紫外线激光和可见光激光等适当选择。上述增感剂，在活性能量射线的作用下成为激发状态，通过与其它物质(如自由基发生剂、酸发生剂等)的相互作用(如能量转移、电子转移等)，可以产生自由基或酸等有用基团。作为上述光聚合引发剂与上述增感剂的组合，可以列举特开2001-305734号公报记载的电子转移型引发体系[(1)供电子型引发剂和增感色素、(2)受电子型引发剂和增感色素、(3)供电子型引发剂、增感色素和受电子型引发剂(三元引发体系)]等的组合。作为上述增感剂，没有特别的限制，可以从已知的增感剂中适当选择，可以列举如已知的多环芳香族类(如芘、茈、三联苯、)氧杂蒽类(如荧光素、四溴荧光素、藻红、若丹明B、孟加拉玫瑰红)、花青苷类(如印度羰花青、硫代羰基花青苷、氧杂羰花青)、部花青类(如部花青、羰部花青)、噻嗪类(如硫堇、亚甲蓝、甲苯胺蓝)、吖啶类(如吖啶橙、氯黄素、吖啶黄、9-苯基吖啶、1，7-双(9，9'-吖啶基)庚垸)、蒽醌类(如蒽醌)、斯夸琳(^夕7U々A)类(例如斯夸琳)、吖啶酮类(如吖啶酮、氯吖啶酮、N-甲基吖啶酮、N-丁基吖啶酮、N-丁基-氯吖啶酮(如2-氯-10-丁基吖啶酮等)等)、香豆素类(如3-(2-苯并呋喃甲酰基)-7-二乙基氨基香豆素、3-(2-苯并呋喃甲酰基)-7-(l-吡咯垸基)香豆素、3-苯甲酰基-7-二乙基氨基香豆素、3-(2-甲氧基苯甲酰基)_7-二乙基氨基香豆素、3-(4-二甲基氨基苯甲酰基)-7-二乙基氨基香豆素、3，3'-羰基双(5，7-二-n-丙氧基香豆素)、3，3'-羰基双(7-二乙基氨基香豆素)、3-苯甲酰基-7-甲氧基香豆素、3-(2-呋喃甲酰基)-7-二乙基氨基香豆素、3-(4-二乙基氨基肉桂酰基)-7-二乙基氨基香豆素、7-甲氧基-3-(3-吡啶基羰基)香豆素、3-苯甲酰基-5，7-二丙氧基香豆素、特开平5-19475号、特开平7-271028号、特开2002-363206号、特开2002-363207号、特开2002-363208号、特开2002-363209号等各公报记载的香豆素化合物等)、以及噻吨酮化合物(噻吨酮、异丙基噻吨酮、2，4-二乙基噻吨酮、1-氯-4-丙氧基噻吨酮、QuantacureQTX等)等，其中优选芳香环或杂环縮环所得的化合物(稠环类化合物)以及被至少2个芳香烃环和芳杂环的任何一个取代的胺类化合物。上述稠环类化合物中，优选杂稠环类酮化合物(吖啶酮类化合物、噻吨酮类化合物、香豆素类化合物等)、以及吖啶类化合物。上述杂稠环类酮化合物中，特别优选吖啶酮化合物和噻吨酮化合物。上述被至少2个芳香烃环和芳杂环的任何一个取代的胺类化合物，优选为对330450nm波长范围的光具有最大吸收的增感剂，可以列举二取代氨基二苯甲酮类化合物、苯环上的与氨基对位的炭原子上具有杂环取代基的二取代氨基-苯类化合物、苯环上的氨基与对位的炭原子上具有磺酰基亚胺基取代基的二取代氨基-苯类化合物、和形成羟基喹啉骨架的二取代氨基-苯类化合物、具有至少2个芳香环结合于氮原子的结构的化合物等二取代氨基-苯作为部分结构的化合物。上述增感剂可以l种单独使用，也可以2种并用。上述增感剂的含量，优选占上述感光性组合物全部固体成分的0.014质量％，更优选为0.022质量％，特别优选占0.051质量％。上述含量如果低于0.01质量％，则感度下降，如果超过4质量％，图案的形状会变差。——阻热聚剂——为了防止上述感光层中上述聚合性化合物的热聚合或经时聚合，可以添加上述阻热聚剂。作为上述阻热聚剂，可以列举如4-甲氧基苯酚、氢醌、垸基或芳基取代氢醌、t-丁基儿茶酚、邻苯三酚、2-羟基二苯甲酮、4-甲氧基-2-羟基二苯甲酮、氯化亚铜、吩噻嗪、四氯醌、萘胺、p-萘酚、2，6-二-1-丁基-4-甲酚、2，2'-亚甲基双(4-甲基-6-t-丁基苯酚)、吡啶、硝基苯、二硝基苯、苦味酸、4-甲苯胺、亚甲基蓝、铜与有机螯合剂反应物、水杨酸甲酯、以及吩噻嗪、亚硝基化合物、亚硝基化合物和A1的螯合物等。作为上述阻热聚剂的含量，优选相对于上述感光层中上述聚合性化合物为0.0015质量％，更优选0.0052质量％，特别优选0.011质量%。上述含量如果不足0.001质量％，保存时的稳定性会下降，如果超过5质量％，对活性能量射线的感度会下降。——增塑剂——为了调节上述感光层的膜的物性(可挠性)，可以添加上述增塑剂。作为上述增塑剂，可以列举如邻苯二甲酸二甲酯、邻苯二甲酸二丁酯、邻苯二甲酸二异丁酯、邻苯二甲酸二庚酯、邻苯二甲酸二辛酯、邻苯二甲酸二环己酯、邻苯二甲酸二(十三烷基)酯、邻苯二甲酸丁基苄基酯、邻苯二甲酸二异癸酯、邻苯二甲酸二苯基酯、邻苯二甲酸二烯丙酯、邻苯二甲酸辛基辛酯等邻苯二甲酸酯类；三乙二醇二乙酸酯、四乙二醇二乙酸酯、二甲基葡萄糖邻苯二甲酸酯、邻苯二甲酸(一乙酯)、邻苯二甲酰(甲基)乙醇酸乙酯、邻苯二甲酸丁酯(丁氧甲酰基)甲酯、三乙二醇二辛酸酯等二醇酯类；三甲酚磷酸酯、三苯基磷酸酯等磷酸酯类；4-甲苯磺酰胺、苯磺酰胺、N-n-丁基苯磺酰胺、N-n-丁基乙酰胺等酰胺类；己二酸二异丁酯、己二酸二辛酯、癸二酸二甲酯、癸二酸二丁酯、癸二酸二辛酯、壬二酸二辛酯、马来酸二丁酯等脂肪族二元酸酯类；柠檬酸三乙酯、柠檬酸三丁酯、甘油三乙酰酯、十二烷酸丁酯、4，5-二环氧基环己垸-1，2-二羧酸二辛酯等、聚乙二醇、聚丙二醇等二醇类。作为上述增塑剂的含量，优选占上述感光层的全部成分的0.150质量％，更优选占0.540质量％，特别优选占130质量％。——着色颜料——作为上述着色颜料，没有特别的限制，可以根据需要适当选择，可以列举如维多利亚纯蓝BO(C.1.42595)、(碱性)槐黄(C,1.41000)、脂溶(fat)黑HB(C.1.26150)、莫诺赖特黄-GT(C.I.颜料黄-12)、永久黄-GR(C.I.颜料黄-17)、永久黄-HR(C.I.颜料黄-83)、永久胭脂红FBB(C.I.颜料红-146)、广告画颜料红ESB(C.I.颜料紫19)、永久红宝石-FBH(C.I.颜料红ll)、法浙特尔粉红B苏普拉(C.L颜料红81)、莫纳斯特拉尔坚牢蓝(C.I.颜料蓝-15)、莫纳斯特拉尔坚牢黑B(C.I.颜料黑1)、碳黑、C.I.颜料红97、C.I.颜料红122、C.I.颜料红149、C.I.颜料红168、C.I.颜料红177、C.I.颜料红180、C.I.颜料红192、C.I.颜料红215、C.I.颜料绿7、C.L颜料绿36、C.1.颜料蓝15:1、C.L颜料蓝15:4、C.I.颜料蓝15:6、C.L颜料蓝22、C.1.颜料蓝60、C.L颜料蓝64等。这些可以l种单独使用，也可以2种以上并用。另外，根据需要，可以使用从己知的染料中适当选择的染料。上述着色颜料在上述感光性组合物固体成分中的固体组分含量，可以根据形成永久图案时感光层的曝光感度、解像性等决定，根据上述着色颜料的种类而有所不同，一般优选为0.0110质量％，尤其优选0.055质量％。一填充颜料一在上述感光性组合物中，必要时为了提高永久图案的表面硬度、或控制成低的线膨胀系数、或控制成固化膜自身低的介电常数及电解质损耗角正切，可以添加无机颜料或有机微粒子。作为上述无机颜料，没有特别的限制，可以从己知的物质中适当选择，可以列举如高岭土、硫酸钡、钛酸钡、氧化硅粉、微粉状氧化硅、气相法二氧化硅、无定形二氧化硅、结晶性二氧化硅、溶融二氧化硅、球形二氧化硅、滑石粉、粘土、碳酸镁、碳酸钙、氧化铝、氢氧化铝、云母等。上述无机颜料的平均粒径优选小于10)um，更优选为3(om以下。该平均粒径如果在lOpin以上，则由于光弥射会使析像度变差。作为上述有机微粒子，没有特别的限制，可以根据需要适当选择，可以列举如三聚氰胺树脂、苯鸟粪胺树脂、交联聚苯乙烯树脂等。另外，可以使用平均粒径15pm、吸油量100200m7g左右的二氧化硅、由交联树脂构成的球形多孔质微粒子等。上述填充颜料的添加量，优选为560质量％。该添加量如果不足5质量％，则不能充分降低线膨胀系数，如果超过60质量％，则在感光层表面形成固化膜时，该固化膜的膜质变脆，使用永久图案形成布线时，作为布线保护薄膜的功能会受到损坏。一粘合促进剂一为了提高含使用本发明的感光性组合物形成的感光层的感光性薄膜的各层间的附着力，或上述感光性薄膜与基体之间的附着力，各层可以使用已知的所谓粘合促进剂。作为上述粘合促进剂，可以适当列举如特开平5-11439号公报、特开平5-341532号公报及特开平6-43638号公报等记载的粘合促进剂。具体地讲，可以列举苯并咪唑、苯并噁唑、苯并噻唑、2-巯基苯并咪唑、2-巯基苯并噁唑、2-巯基苯并噻唑、3-吗啉代甲基-l-苯基-三唑-2-硫酮、3-吗啉代甲基-5-苯基-噁二唑-2-硫酮、5-氨基-3-吗啉代甲基-噻二唑-2-硫酮及2-巯基-5-甲硫基-噻二唑、三唑、四唑、苯并三唑、羧基苯并三唑、含氨基的苯并三唑、硅垸偶合剂等。作为上述粘合促进剂的含量，优选相对于上述感光层的全部成分为0.001质量％20质量％，更优选0.0110质量％，特别优选0.1质量％5质量％。本发明的第1实施方式的感光性组合物，通过规定粘合剂及其并用的热交联剂，可以高效形成高感度和高析像度、非电解镀金耐性、以及支柱和通孔的埋置性优良、高精度的永久图案。为此，可以作为印刷布线板、滤色器或柱材、肋材、间隙材、隔板等显示器用构件，全息图、微电机、校样等的永久图案形成用组合物，而得到广泛应用，特别适用于印刷电路基板的永久图案的形成。[第2实施方式]本发明的第2实施方式的感光性组合物含粘合剂、2种以上的聚合性化合物、光聚合引发剂及热交联剂，根据需要，也含有其它成分。关于粘合剂、光聚合引发剂和其它成分，与上述第1实施方式已说明的相同。<聚合性化合物>作为上述聚合性化合物含2种以上的单体。作为该单体，没有特别的限制，可以根据需要适当选择，但优选官能团数不同的2种以上的单体。作为上述官能团数不同的2种以上的单体，可以列举如单官能单体和多官能单体的组合、多官能单体之间的组合。作为上述多官能单体之间的组合，可以列举2官能单体与3官能以上单体的组合、24官能的单体与5官能以上单体的组合等。其中，更优选至少1种具有4个以上官能团的单体。作为上述单体，优选至少1种单体为具有氨基甲酸酯基、芳基、酯基、醚基以及由环氧化合物衍生出的基团中的至少任何一种基团的单体。一含氨基甲酸酯基的单体一作为具有上述氨基甲酸酯基的单体，只要具有氨基甲酸酯基，则没有特别的限制，可以根据需要适当选择，可以列举如特开2005—258431号公报的记载的化合物、Daicel*cytec公司制的氨基甲酸酯基(甲基)丙烯酸酯的氨基甲酸酯基(甲基)丙烯酸酯化合物、第一工业制药公司制的氨基甲酸酯基(甲基)丙烯酸酯的氨基甲酸酯基(甲基)丙烯酸酯化合物、新中村化学公司制的氨基甲酸酯基(甲基)丙烯酸酯化合物等。——含芳基的单体——作为上述含芳基的单体，没有特别的限制，可以根据需要适当选择，可以列举如含芳基的多价醇化合物、多价胺化合物及多价氨基醇化合物中至少任何一种与不饱和羧酸的酯或酰胺等，可以列举如特开2005-258431号公报的记载的化合物等。——含酯基的单体——作为上述含酯基的单体，只要含有酯基，则没有特别的限制，可以根据需要适当选择，可以列举如聚酯型丙烯酸低聚物(撒特马(步一卜7—)公司制CN系列等)、Daicel*cytec公司制聚酯型丙烯酸低聚物等。——含醚基的单体——作为上述含醚基的单体，只要含有醚基，则没有特别的限制，可以根据需要适当选择，可以列举如含亚垸基氧化物作为结构单元的单体。作为亚垸基氧化物，可以列举如环氧乙垸、环氧丙烷、环氧丁烷、它们的混合物(如环氧乙烷和环氧丙烷的混合)。作为上述含亚垸基氧化物作为结构单元的单体，可以列举如聚亚烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚亚烷基二醇单(甲基)丙烯酸酯等。更具体地，可以列举聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚亚丙基二(甲基)丙烯酸酯、聚亚丙基单(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯等。作为市售品，可以列举新中村化学公司制NK酯化合物等。—一含由环氧化合物衍生的基团的单体——作为上述含由环氧化合物衍生的基团的单体，只要含有由环氧化合物衍生的基团的单体，则没有特别的限制，可以根据需要适当选择，可以列举如市售的将(甲基)丙烯酸加成于环氧化合物所得的化合物等。上述含有氨基甲酸酯基、芳基、酯基、醚基及由环氧化合物衍生的基团中至少任何一种基团的单体的重均分子量，优选为2009，000，更优选为2508，000，特别优选为3007，000。另外，作为上述聚合性化合物，除了含有氨基甲酸酯基、芳基、酯基、醚基及由环氧化合物衍生的基团中至少任何一种基团的单体，优选含从脂肪族酯类单体中选择的至少1种的单体。——脂肪族酯类单体——作为上述脂肪族酯类单体，没有特别的限制，可以根据需要适当选择，可以列举如苯氧基乙基(甲基)丙烯酸酯等单官能丙烯酸酯或单官能甲基丙烯酸酯；三羟甲基乙垸三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯等。其中特别优选三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯。上述含有氨基甲酸酯基、芳基、酯基、醚基、及由环氧化合物衍生的基团中至少任何一种基团的单体与脂肪族酯类单体的含量比优选为质量比l:100100:1，更优选为h2020:1，特别优选为l:10~10:1。上述聚合性化合物在上述感光性组合物固体成分中的固体组分含量的总和优选为550质量％，更优选为1040质量％。该固体成分含量如果不足5质量％，会产生显影性变差、曝光感度下降等问题，如果超过50质量％，感光层的粘附性会变得过强。<热交联剂>作为上述热交联剂，没有特别的限制，可以根据需要适当选择，但从镀金耐性的观点考虑，优选碱不溶性的物质。作为上述热交联剂，为了改善使用上述感光性组合物形成的感光层的固化后膜的强度，在对显影性等不产生不良影响的范围内，可以使用从环氧化合物、氧杂环丁烷化合物、聚异氰酸酯化合物、封端剂与聚异氰酸酯化合物反应所得化合物以及三聚氰胺衍生物中选择的至少1种化合物。它们的具体成分和含量，与上述第1实施方式中已叙述的相同。本发明的第2实施方式的感光性组合物，作为聚合性化合物，通过组合脂肪族酯类的单体以外的单体，可以高效形成感度、析像度、粘性、非电解镀金耐性、和保存稳定性优良、高精度的永久图案。为此，可以适当用于与上述第1实施方式的感光性组合物同样的用途。<感光性薄膜>本发明的感光性薄膜至少具有支持体和该支持体上形成的由本发明的上述感光性组合物构成的感光层，根据需要还可以具有热塑性树脂层等适当选择的其它层。<感光层>上述感光层是使用本发明的感光性组合物形成的。另外，对上述感光层曝光进行显影时，该曝光及显影后不使该感光层的曝光部分的厚度发生变化的上述曝光所用光的最小能量优选为0.1200mJ/cm2，尤其优选为0.2100mJ/cm2，更优选为0.550mJ/cm2，特别优选为130mJ/cm2。上述最小能量如果不足O.lmJ/cm2，则处理工序时产生灰雾，如果超过200mJ/cm2，则曝光所必需的时间变长，处理速度变慢。在此，"该曝光及显影后不使该感光层的曝光部分的厚度发生变化的上述曝光所用光的最小能量"即为所谓的显影感度，可以由表示上述感光层曝光时上述曝光中所用光的能量(曝光量)与上述曝光后的上述显影处理所生成的上述固化层的厚度间的关系图(感度曲线)求得。上述固化层的厚度随着上述曝光量的增加而增加，然后变为与上述曝光前的上述感光层的厚度大致相同且大致一定。上述显影感度是通过读取上述固化层的厚度变为大致一定时的最小曝光量而求得的值。在此认为上述固化层的厚度与上述曝光前的上述感光层的厚度在土lpm以内时，上述固化层的厚度不会由于曝光和显影而发生变化。作为上述固化层和上述曝光前的上述感光层的厚度的测定方法，没有特别的限制，可以根据需要适当选择，可以列举使用膜厚测定装置、表面粗糙度测定仪(如撒布克母(廿一7〕厶)1400D(东京精密公司制))等测定的方法。上述感光层的厚度没有特别的限制，可以根据需要适当选择，例如优选为l100|am，更优选为250nm，特别优选为430pm。<支撑体和保护膜>作为上述支撑体，没有特别的限制，可以根据需要适当选择，但优选可以剥离上述感光层、而且光的透过性良好的支撑体，更优选表面的流平性良好的支撑体。作为上述支撑体和保护膜，具体地特开2005-258431号公报的有记载。<其它层>作为上述感光性薄膜中其它的层，没有特别的限制，可以根据需要适当选择，可以具有缓冲层、氧隔断层(PC层)、剥离层、粘合层、光吸收层、表面保护层等层。可以单独具有这些层中的1种，也可以同时具有2层以上。另外，上述感光层上还可以具有保护膜。——缓冲层——作为上述缓冲层没有特别的限制，可以根据需要适当选择，对碱性液可以呈溶胀性或可溶性，也可以为不溶性。上述缓冲层对碱性液呈溶胀性或可溶性时，作为上述热塑性树脂，可以列举如乙烯与丙烯酸酯共聚物的皂化物、苯乙烯与(甲基)丙烯酸酯共聚物的皂化物、乙烯基甲苯与(甲基)丙烯酸酯共聚物的皂化物、聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸丁酯与醋酸乙烯酯等的(甲基)丙烯酸酯共聚物等的皂化物、(甲基)丙烯酸酯与(甲基)丙烯酸的共聚物、苯乙烯与(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸的共聚物等。这种情况下的热塑性树脂的软化点(Vicat)没有特别的限制，可以根据需要适当选择，例如优选为8(TC以下。作为上述软化点在8(TC以下的热塑性树脂，除了上述的热塑性树脂外，可以列举"塑料性能手册"(日本塑料工业联盟，全日本塑料成形工业联合会编著，工业调査会发行，1968年10月25日发行)中软化点80'C以下的有机高分子中的可溶于碱性液的物质。另外，对于软化点8(TC以上的有机高分子物质，通过向该有机高分子物质中添加与该有机高分子物质具有相容性的各种增塑剂，可使实际的软化点降至8(TC以下。另外，上述缓冲层对碱性液呈溶胀性或可溶性的情况下，作为上述感光性薄膜的层间粘接力，没有特别的限制，可以根据需要适当选择，例如，各层的层间粘接力中，上述支撑体与上述缓冲层之间的层间粘接力优选为最小。通过设定这样的层间粘接力，可以只将上述支撑体从上述感光膜剥离，并隔着上述缓冲层使上述感光层曝光，然后使用碱性显影液使该感光层显影。还可以在保留上述支撑体的状态下将上述感光层曝光后，只将上述支撑体从上述感光膜剥离，使用碱性显影液使该感光层显影。作为上述层间粘接力的调整方法没有特别的限制，可以根据需要适当选择，可以列举如向上述热塑性树脂中添加已知的聚合物、过冷却物质、粘附改性剂、表面活性剂、脱模剂等的方法。作为上述增塑剂没有特别的限制，可以根据需要适当选择，可以列举如聚丙二醇、聚乙二醇、邻苯二甲酸二辛酯、邻苯二甲酸二庚酯、邻苯二甲酸二丁酯、磷酸三甲苯酯、磷酸甲苯基二苯酯、磷酸联苯基二苯酯等醇类或酯类；甲苯磺酰胺等酰胺类等。上述缓冲层对碱性液呈不溶性的情况下，作为上述热塑性树脂，可以列举如主成分为以乙烯为必要共聚合成分的共聚物。作为上述以乙烯为必要的共聚合成分的共聚物，没有特别的限制，可以根据需要适当选择，可以列举如乙烯-醋酸乙烯酯共聚物(EVA)，乙烯-丙烯酸乙酯共聚物(EEA)等。上述缓冲层对碱性液呈不溶性的情况下，作为上述感光膜的层间粘接力，没有特别的限制，可以根据需要适当选择，例如各层的层间粘接力中，上述感光层与上述缓冲层的粘接力优选为最小。通过设定这样的层间粘接力，可以从上述感光膜剥离上述支撑体和缓冲层，使上述感光层曝光后使用碱性显影液使该感光层显影。还可以在保留上述支撑体的状态下使上述感光层曝光后，将上述支撑体和上述缓冲层从上述感光膜剥离，使用碱性显影液使该感光层显影。作为上述层间粘接力的调整方法没有特别的限制，可以根据需要适当选择，可以列举如向上述热塑性树脂中添加各种聚合物、过冷却物质、粘附改性剂、表面活性剂、脱模剂等的方法、以下说明的调整乙烯共聚比的方法等。上述以乙烯为必须的共聚成分的共聚物中乙烯的共聚合比，没有特别的限制，可以根据需要适当选择，例如优选为6090质量％，更优选为6080质量％，特别优选为6580质量％。上述乙烯的共聚合比如果不足60质量％，上述缓冲层与上述感光层的层间粘接力会变高，该缓冲层与该感光层的界面处难以剥离，如果超过90质量％，则由于上述缓冲层与上述感光层的层间粘接力变得过小，使该缓冲层与该感光层之间非常容易剥离，使含上述缓冲层的感光性薄膜的制造变得困难。上述缓冲层的厚度没有特别的限制，可以根据需要适当选择，例如优选为550pm，更优选为1050|nm，特别优选为1540|am。上述厚度如果不足5pm，则对基体表面的凹凸或气泡等的凹凸追随性下降，不能形成高精度的永久图案，如果超过50pm，则会产生制造时干燥负载增大等不便。——隔氧层(PC层)——上述隔氧层通常优选以聚乙烯醇作为主成分而形成，优选为厚度0.55pm左右的被膜。[感光性薄膜的制造方法]上述感光性薄膜可以用如下方法制造。首先将上述感光性组合物所含材料溶解、乳化或分散于水或溶剂，调制感光性薄膜用感光性树脂组合物溶液。作为上述溶剂没有特别的限制，可以根据需要适当选择，可以列举如甲醇、乙醇、n-丙醇、异丙醇、n-丁醇、sec-丁醇、n-己醇等醇类；丙酮、丁酮、甲基异丁基酮、环己酮、二异丁基酮等酮类；醋酸乙酯、醋酸丁酯、醋酸-n-戊酯、硫酸甲酯、丙酸乙酯、邻苯二甲酸二甲酯、安息香酸乙酯、及乙酸甲氧基丙酯等酯类；甲苯、二甲苯、苯、乙基苯等芳香烃类；四氯化碳、三氯乙烯、氯仿、1，1，l-三氯乙烷、二氯甲垸、单氯苯等卤化烃类；四氢呋喃、二乙醚、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、l-甲氧基-2-丙醇等醚类；二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、二甲亚砜、环丁砜等。它们可以1种单独使用，也可以2种以上并用。另外还可以添加已知的表面活性剂。接着可以在上述支撑体上涂敷上述感光性组合物溶液，使其干燥形成感光层，制造感光性薄膜。作为上述感光性组合物溶液的涂敷方法，没有特别的限制，可以根据需要适当选择，可以列举如喷雾法、辊涂法、旋转涂敷法、狭缝涂敷法、挤出涂敷法、帘式淋涂法、模涂法、凹版涂敷法、金属棒涂敷法、刮涂法等各种涂敷方法。作为上述干燥的条件，根据各成分、溶剂的种类、使用比例等有所不同，通常在6011(TC的温度下干燥30秒15分钟左右。上述感光性薄膜，优选用圆筒状的巻芯巻取，以长条状巻成辊状保管。上述长条状感光性薄膜的长度没有特别的限制，可以在1020，OOOm的范围适当选择。另外，为了便于用户使用，可以实施切割加工，将1001，OOOm范围的长条体巻成辊状。这种情况下，优选将上述支撑体巻在最外侧。另外，可以将上述辊状感光性薄膜切成片状。保管时，从端面的保护、防止熔边(edgeflision)的观点考虑，优选在端面设置隔离件(separator，特别是防湿性的和放入干燥剂的隔离件)，包装也优选使用透湿性低的素材。(感光性层叠体)上述感光性层叠体，基体上至少具有上述感光层，根据需要，层叠适当选择的其它的层。<基体>上述基体是形成感光层的被处理基体、或至少是本发明的感光性薄膜的感光层被转印的被转印体，没有特别的限制，可以根据需要适当选择，例如可以从表面流平性高的基体到表面具有凹凸的基体任意选择。优选板状的基体，使用所谓的基板。具体地可以列举已知印刷布线用的基板(印刷电路板)、玻璃板(钠钙玻璃板等)、合成树脂性薄膜、纸、金属板等。[感光性层叠体的制造方法]作为上述感光性层叠体的制造方法，可以列举第1实施方式的将上述感光性组合物涂布于上述基体表面并干燥的方法，第2实施方式的至少对本发明的感光性薄膜中的感光层边进行加热和加压的至少任何一种的同时边转印层叠的方法。上述第1实施方式的感光性层叠体的制造方法，是在上述基体上涂敷上述感光性组合物并干燥，形成感光层。作为上述涂敷和干燥的方法，没有特别的限制，可以根据需要适当选择，可以列举如将上述感光性组合物溶解于水或溶剂，使其乳化或分散调制成感光性组合物溶液，将该溶液直接涂布在上述基体的表面、干燥进行层叠的方法。作为上述感光性组合物溶液的溶剂，没有特别的限制，可以根据需要适当选择，可以列举与用于上述感光性薄膜的溶剂相同的溶剂。这些溶剂可以l种单独使用，也可以2种以上并用。另外也可以添加己知的表面活性剂。作为上述涂布方法和干燥条件，没有特别的限制，可以根据需要适当选择，可以在与用于上述感光性薄膜相同的方法和条件下进行。上述第2实施方式的感光性层叠体的制造方法，是将本发明的感光性薄膜边进行加热和加压的至少任何一种的同时边层叠于上述基体的表面。上述感光性薄膜具有上述保护薄膜的情况下，优选剥离该保护膜，使上述感光层尽量与上述基体重合而层叠的方法。上述加热温度没有特别的限制，可以根据需要适当选择，优选为15~180°C，尤其优选为60140°C。上述加压的压力没有特别的限制，可以根据需要适当选择，例如优选为0.11.0MPa、尤其优选为0.20.8MPa。作为进行上述加热及加压中的至少一种的装置，没有特别的限制，可以根据需要适当选择，可以适当列举如层压机(如大成层压机公司制VP-II、尼茨勾木屯(二于rf、一乇一卜y)(股份)制VP130)等。为了使用本发明的感光性组合物高效形成高精度的永久图案，本发明的感光性薄膜和感光性层叠体可以适当用于保护膜、层间绝缘膜、以及抗焊剂图案等永久图案等各种图案的形成、滤色器、柱材、肋材、垫片(spacer)、间隙材、隔板等液晶结构构件的制造、全息图、微电机、校样等的永久图案的形成，特别是可以适用于印刷电路板的永久图案的形成。特别是由于本发明的感光性薄膜的厚度均一，在形成永久图案时，即使将永久图案(保护薄膜、层间绝缘膜、抗焊剂等)薄层化，高加速度试验(HAST)时也不发生离子迁移，可以得到耐热性、耐湿性优良的高精细的永久图案，因此可以更精细地向基材层叠。(图案形成装置及永久图案的形成方法)本发明的图案形成装置具备上述感光层，至少具有光照射机构和光调制机构。本发明的永久图案形成方法至少包含曝光工序，包含适当选择的显影工序等其它工序。另外，本发明的上述图案形成装置，通过本发明的上述永久图案形成方法的说明，会更加清楚。[曝光工序〗上述曝光工序是对本发明的感光性薄膜中的感光层进行曝光的工序。本发明的上述感光性薄膜和基材的材料，如上所述。作为上述曝光的对象，只要是上述感光性薄膜的感光层则没有特别的限制，可以根据需要适当选择，如上述，优选对层叠体进行曝光，所述层叠体是边对感光性薄膜进行加热和加压中的至少一种的同时边将其层叠于基材上形成的。作为上述曝光没有特别的限制，可以根据需要适当选择，可以列举数码曝光、模拟曝光等，其中优选为数码曝光。作为上述模拟曝光没有特别的限制，可以根据需要适当选择，可以列举如借助具有规定图案的阴极掩模，用高压汞灯、超高压汞灯、氙灯等进行曝光的方法。作为上述数码曝光，没有特别的限制，可以根据需要适当选择，优选根据形成的图案的形成信息生成控制信号，使用根据该控制信号调制的光进行曝光，对于上述感光层，优选为如下的曝光。艮口，相对于上述感光层，使用具有光照射机构、和光调制机构的曝光头进行如下的操作，所述光调制机构具有接受并射出源于上述光照射机构的光的n个(n为2以上的自然数)呈二维形状排列的描素部，并可以根据图案信息对上述描素部进行控制，所述曝光头被配置成相对于该曝光头的扫描方向，上述描素部的列方向呈规定的设定倾斜角度e。上述的操作如下对于上述曝光头，利用使用描素部指定机构，在可以使用的上述描素部中指定用于N重曝光(N为2以上的自然数)的上述描素部，并对于上述曝光头，利用描素部控制机构控制上述描素部，以使仅上述使用描素部指定机构所指定的上述描素部参与曝光，对于上述感光层，使上述曝光头在扫描方向上相对移动而进行曝光。本发明的"N重曝光"是指被设定为如下的曝光，即，在上述感光层的被曝光面上的几乎全部的曝光区域内，平行于上述曝光头的扫描方向的直线，与照射于上述被曝光面的N条光点列(像素列)相交。在此"光点列(像素列)"是指作为由上述描素部生成的描素单元的光点(像素)排列中，与上述曝光头的扫描方向所成的角度较小的方向上的排列。上述描素部的配置不一定是矩形格子状的，可以是平行四边形形状的配置等。在此，叙述为曝光区域的"几乎全部的范围"，是因为在各描素部的两侧边缘部位，由于使描素部列倾斜，与上述曝光头的扫描方向平行的直线交叉的使用描素部的描素部列数将减少，在这种情况下，即使将多个曝光头接连使用，因该曝光头的安装角度或配置等的误差，也会使与扫描方向平行的直线交叉的使用描素部的描素部列的数有些许的增减，另外，在各使用描素部的描素部列间相连结部分的大小在析像度程度以下的极其小的部分，也会由于安装角度或描素部配置等的误差，导致与扫描方向垂直的方向上的描素部的间距与其它部分描素部的间距不是严格地保持一致，与扫描方向平行的直线交叉的使用描素部的描素部列的数目在士l的范围内有所增减。在以下的说明中，将N为2以上的自然数的N重曝光总称为"多重曝光"。进而，在以下的说明中，在作为描绘装置或描绘方法实施本发明的曝光装置或曝光方法的状态下，作为对应于"N重曝光"和"多重曝光"的用语，使用了"N重描绘"和"多重描绘"这样的用语。作为上述N重曝光的N，只要是2以上的自然数则没有特别的限制，可以根据需要适当选择，但优选为3以上的自然数，尤其优选为3以上7以下的自然数。对于本发明的永久图案形成方法所涉及的图案形成装置的一例，参照附图加以说明。上述图案形成装置，被设计成所谓的平板型曝光装置，如图1所示，具有平板状移动平台14，该移动平台14表面上吸附、保持有上述感光性薄膜中至少层叠有上述感光层的片状感光材料12(以下称为"感光层12")。在被4根腿16支持的厚板状设置台18上面，设置有沿平台移动方向延伸的2条导轨20。平台14设置为其长度方向与平台移动方向一致，同时导轨20可以支持其往复移动。在这一图案形成装置10上设置有沿导轨20驱动平台14的平台驱动装置(没有图示)。在设置台18的中央部分设置有跨过平台14的移动路线的^字形的门22。〕字形门22的各端部固定于设置台18的两侧面。在该门22的两侧，一侧设置有扫描器24，另一侧设置有检测感光材料12的前端及后端的多个(如2个)传感器26。扫描器24和传感器26分别安装于门22上，固定配置在平台14的移动路线的上方。另外，扫描器24和传感器26连结于控制它们的没有图示的控制器上。在此，为了说明，如图1所示，在与平台14的表面平行的平面内规定了相互垂直的X轴和Y轴。平台14的扫描方向上的上游侧(以下有时简单称"上游")的边缘部分，以等间隔形成有10条朝X轴方向开口的"〈"字型狭缝28。各狭缝28由位于上游的狭缝28a和位于下游的狭缝28b组成。狭缝28a和狭缝28b相互垂直，同时狭缝28a与X轴呈-45度角，狭缝28b与X轴呈+45度角。狭缝28的位置与上述曝光头30的中心大致一致。另外，各狭缝28的大小被定为能充分覆盖所对应的曝光头30的曝光区域32的宽度的大小。狭缝28的位置，可以与相邻的已曝光区域34间的重复部分的中心位置大致一致。这种情况下，各狭缝28的大小定为能充分覆盖已曝光区域34间的重复部分的宽的大小。在平台14内部的各狭缝28下方的位置，分别装入有后述的使用描素部指定处理中作为检测描素单元即光点的光点位置检测机构的单一单元型的光检测器(没有图示)。另外，各光检测器连结于后述的使用描素部指定处理中作为选择上述描素部的描素部选择机构的演算装置(没有图示)。作为曝光时上述图案形成装置的动作形态，既可以是边使曝光头移动边进行连续曝光的形态，也可以是边使曝光头分阶段地移动边在各移动位置使曝光头静止而进行曝光的形态。《曝光头》各曝光头30安装于扫描器24，以使后述的内部的数码微镜元件(DMD)36的各描素部(微镜)列方向与扫描方向成规定的设定倾斜角度e。为此，由各曝光头30形成的曝光区域32成为对扫描方向成倾斜的矩形形状的区域。随着平台14的移动，每个曝光头30都在感光层12形成带状的已曝光区域34。图2及图3B所示例子中，呈2行5列的近似矩阵形排列的10个曝光头被安装在扫描器24上。以下表示在第m行的第n列排列的各个曝光头时，记为曝光头30^，表示在第m行的第n列排列的各个曝光头的曝光区域时，记为曝光区域另外，如图3A和图3B所示，呈线状排列的各行的各曝光头30，在其排列方向被错开一定间隔(曝光区域长边的自然数倍，本实施方式中为2倍)配置，以使各带状的已曝光区域34与相邻的已曝光区域34部分重叠。因此第l行的曝光区域32n与曝光区域32^之间不能曝光的部分，可以由第2行的曝光区域3221曝光。如图4、图5A和图5B所示，各曝光头30中，作为根据图像数据针对各描素部调制入射光的光调制机构(针对每一描素部调制的空间光调制元件)具有DMD36(美国德克萨斯州仪器(于年廿7、乂)公司制)。这一DMD36与配备了数据处理部分和镜驱动控制部分的作为描素部控制机构的控制器连接。在该控制器的数据处理部分，基于所接收的图像数据，针对每个曝光头30生成用于驱动控制DMD36上的使用区域内各微镜的控制信号。另外，在镜驱动控制部分，根据图像数据处理部分生成的控制信号，针对每个曝光头30控制DMD36的各微镜的反射面角度。如图4所示，在DMD36的光入射一侧，依次设置有光纤组光源38、修正由光纤组(fiberarray)光源38射出的激光并集中于DMD36上的透镜系列40、向DMD36反射透过该透镜系列40的激光的镜42，所述光纤组光源38具有光纤的射出端部分(发光点)沿与曝光区域32的长边方向一致的方向呈一列排列的激光射出部。图4中粗略表示了透镜系列40。如图5A和图5B详示，上述透镜系列40具有使光纤组光源38射出的激光平行化的1对组合透镜44、修正被平行化的激光的光量分布使其均匀的1对组合透镜46、及使光量分布被修正了的激光集中于DMD36上的集光透镜48。另外，在DMD36的光反射侧配置有将DMD36反射的激光在感光层12的被曝光面上成像的透镜系列50。透镜系列50由被配置成使DMD36与感光层12的被曝光面成共轭关系的2面透镜52和透镜54组成。本实施方式中，由光纤组光源38射出的激光被实质上放大5倍后，来自于DMD36上的各微镜的光线由透镜系列50縮小至约5pm。——光调制机构——作为上述光调制机构，只要具有n个(n为2以上的自然数)呈二维排列的上述描素部并且可根据图案信息控制上述描素部，就没有特别的限制，可以根据需要适当选择，例如优选为空间光调制元件。作为上述空间光调制元件，可以列举如数码微镜元件(DMD)、MEMS(MicroElectroMechanicalSystems)型空间光调制元件(SLM;SpatialLightModulator)、通过电光学效果调制透射光的光学元件(PLZT元件)、液晶快门(FLC)等，其中DMD是合适的。另外，上述光调制机构优选具有根据形成的图案信息生成控制信号的图案信号生成机构。此时，上述光调制机构根据上述图案信号生成机构生成的控制信号对光进行调制。作为上述控制信号没有特别的限制，可以根据需要适当选择，可以适当列举如数字信号。下面参照附图对上述光调制机构例加以说明。如图6所示，DMD36是在SRAM单元(储存单元)56上，作为构成各个像素(pixel)的描素部，将多个微镜58排列成格子状而成的镜元件。本实施方式中使用的是配备了1024列X768行微镜58的DMD36，其中由连接于DMD36的控制器可以驱动即可以使用的微镜58，只设定成1024列X256行。DMD36的数据处理速度是有限度的，由于每1排的调制速度与使用的微镜数成比例，通过这样只使用一部分微镜就可以加速每1排的调制速度。各微镜58由支柱支撑，其表面上蒸镀有铝等反射率高的材料。本实施形态中，各微镜58的反射率为90%以上，其纵、横方向的排列间距均为13.7pm。SRAM单元56是，借助含铰链和轴叉(yoke)的支柱，由通常的半导体储存器制造线制造的硅栅(silicongate)的CMOS体，全体呈一体(一体型)构成。如果将以2值表示构成所需2维图案的各点浓度的图像信号输入于DMD36的SRAM单元(储存单元)56，则被支柱支撑的各微镜58将以对角线为中心相对于配置有DMD36的基板一侧呈倾斜士a度(如±10度)的任何角度。图7A表示微镜58倾斜+cc度的状态即开通状态，图7B表示微镜58倾斜-a度的关闭状态。这样，根据图像信号，通过如图6所示地控制DMD36的各像素中微镜58的倾斜，可以将入射到DMD36的激光B向各微镜58的倾斜方向反射。图6中扩大了DMD36的一部分，表示将各微镜58控制在+a度或-oc的状态的一例。各微镜58的开关状态的控制是通过连接于DMD36的上述控制器进行的。另外，在关闭状态的微镜58反射的激光B行进的方向上，配置有光吸收体(没有图示)。——光照射机构——作为上述光照射机构没有特别的限制，可以根据需要适当选择，可以列举如(超)高压汞灯、流灯、碳弧灯、卣素灯、复印机等用荧光管、LED、半导体激光等已知光源、或可将2种以上的光合成照射的机构，其中优选可将2种以上的光合成照射的机构。作为由上述光照射机构照射的光，可以列举如，在隔着支撑体进行光照射时，透过该支撑体且使所用光聚合引发剂或增感剂活化的电磁波、紫外线至可见光、电子射线、X射线、激光等，其中优选为激光，更优选为将2种以上的光合成而成的激光(下面有时称为"合波激光")。而即使在剥离支撑体后进行光照射的情况下，也可以使用同样的光。上述紫外至可见光的波长，优选为3001，500nm，更优选为320800nm，特别优选为330650nm。上述激光的波长，优选为2001，500nm，尤其优选为300800nm，更优选为330500nm，特别优选为400450nm。作为上述可以照射合波激光的机构，优选为具有多个激光器、多模式光纤、和将由该多个激光器照射的各种激光束聚光并结合于上述多模式光纤的聚光光学系统的机构。作为可以照射上述合波激光的机构(光纤组光源)，可以用特开2005-258431号公报记载的机构。<<使用描素部指定机构>>作为上述使用描素部指定机构，优选至少具备光点位置检测机构和描素部选择机构，所述光点位置检测机构检测被曝光面上作为描素单元的光点位置，所述描素部选择机构基于上述光点位置检测机构检测的结果，选择为了实现N重曝光而使用的描素部。下面对利用上述使用描素部指定机构的、用于N重曝光的描素部的指定方法的例子加以说明。(1)单一曝光头内的使用描素部的指定方法本实施方式(1)中，对于使用描素部的指定方法加以说明，即，在200680053793.7说明书第63/103页由图案形成装置10对感光材料12进行2重曝光的情况下，用于减轻各曝光头30的安装角度误差引起的析像度不均匀和浓度不均、实现理想的2重曝光的使用描素部的指定方法加以说明。作为描素部(微镜58)的列方向对曝光头30的扫描方向的设定倾斜角度e，与曝光头30的安装角度没有误差等的理想状态下使用可以使用的1024列X256行的描素部正好成为2重曝光的角度0^31相比，采用稍大一些的角度。这一角度Gid^由下述式(1)给出，其中N为N重曝光的数N，s为可以使用的微镜58的列方向的个数，p为可以使用的微镜58的列方向的间隔，5为使曝光头30倾斜的状态下由微镜形成的扫描线的间距。spsin0ideai>N5(式1)本实施方式中的DMD36，如上所述，由纵横配置间隔相等的多个微镜58配置成矩形格子状而成，因此为式pcos6ideai=5(式2)上述式1成为stan6ideai二N(式3)本实施方式中，如上所述，由于8=256，N=2，由上述式3，角度e^a,约为0.45度。因此，设定倾斜角度e，可以采用0.50度左右的角度。图案形成装置10，在可以调整的范围内被实施初期调整，以使各曝光头30即各DMD36的安装角度接近于该设定倾斜角度e。图8说明如下的例子，g卩，被如上所述地实施初期调整的图案形成装置10中，由于一个曝光头30的安装角度误差和图案变形的影响，在被曝光面上的图案上产生斑点的例子。以下的图及说明中，对于由各描素部(微镜)生成的、作为构成被曝光面上曝光区域的描素单元的光点，将第m行的光点记为r(m)，第n列的光点记为c(n)，第m行第n列的光点记为P(m，n)。图8的上段部分表示的是使平台14处于静止的状态下投影到感光材料12的被曝光面上的、来自于可以使用的微镜58的光点群的图案，下段部分表示的是在上段部分所示的光点群图案所表现的状态下，移动平台14进行连续曝光时，在被曝光面上形成的曝光图案的状态。图8中，为说明方便，将可以使用的微发射镜58的奇数列的曝光图案与偶数列的曝光图案分开表示，而实际的被曝光面上的曝光图案中，这2个曝光图案是重叠的。图8的例子中，将设定倾斜角度e采用为比上述的角度eid^大一些的角度，另外，由于曝光头30的安装角度的微调整难以进行，而实际的安装角度与上述的设定倾斜角度e具有误差，其结果被曝光面上所有区域都产生了浓度不均。具体地讲，奇数列的微镜形成的曝光图案和偶数列的微镜形成的曝光图案中，在由多个描素部列形成的被曝光面上的重复曝光区域内，与理想的2重曝光相比均呈现曝光过度，产生描绘冗长的区域，生成了浓度不均。进而，图8也是被曝光面上出现图案变形的一例，产生了投影到被曝光面上的各像素列的倾斜角度变得不均匀的"角度失真"。作为产生这样的角度失真的原因，可以列举DMD36与被曝光面间光学系统的各种像差或定位偏差以及DMD36自身的失真或微镜的配置误差等。图8的例中显现的角度失真是，相对扫描方向的倾斜角度，比图左侧的列小、比图右侧的列大的形态的失真。作为这一角度失真的结果，曝光过度的区域，在靠近图的左侧的被曝光面上变得更小，靠近图的右侧的被曝光面上变得更大。如上述，为了减轻多个描素部列形成的被曝光面上的重复曝光区域中的浓度不均，作为上述光点位置检测机构使用上述狭缝28及光检测器的组合，对每个曝光头3o设定实际倾斜角度e'，以该实际倾斜角度e'为基础，使用连接于上述光检测器的上述演算装置作为上述描素部检测机构，进行选择用于实际曝光的微镜的处理。实际倾斜角度e'，基于光点位置检测机构检测的至少2个光点位置，由曝光头倾斜状态下被曝光面上光点的列方向与上述曝光头的扫描方向形成的角度设定。下面用图9和图io对上述实际倾斜角度e'的设定及使用像素选择处理加以说明。——实际倾斜角度e'的特定——图9是表示1个DMD36的曝光区域32与对应的狭缝28的位置关系的仰视图。狭缝28的大小设为充分覆盖曝光区域32的宽的大小。本实施方式(1)的例子中，测定位于曝光区域32大致中心的第512列的光点列与曝光头30的扫描方向形成的角度作为上述的实际倾斜角度e'。具体地讲，是将DMD36上第1行第512列的微镜58和第256行第512列的微镜58设为开通状态，检测与这些分别对应的被曝光面上的光点P(1，512)和P(256，512)的位置，将连接它们的直线与曝光头的扫描方向形成的角度设定为实际倾斜角度e'。图10是说明光点P(256，512)的位置的检测方法的仰视图。首先，在点亮第256行第512列的微镜58的状态下，缓慢移动平台14,使狭缝28沿Y轴方向做相对移动，使狭缝28位于使光点P(256，512)移至上游的狭缝28a和下游的狭缝28b之间任意位置的位置。将此时狭缝28a和狭缝28b的交点坐标定为(XO,YO)。这一坐标(XO,YO)的值取决于赋予平台14的驱动信号所示的平台14移动至上述位置的移动距离和已知的狭缝28在X轴方向的位置，并被记录。其次，移动平台14，使狭缝28沿Y轴方向向图10中的右侧相对移动。然后如图IO中二点连线所示，在光点P(256，512)的光通过左侧的狭缝28b并被光检测器检测的位置停止平台14。此时狭缝28a和狭缝28b的交点的坐标(X0，Y1)记录为光点P(256，512)的位置。接着向相反方向移动平台14，使狭缝28沿Y轴向图IO中左方相对移动。然后如图IO中二点连线所示，在光点P(256，512)的光通过右侧的狭缝28a并被光检测器检测的位置停止平台14。此时狭缝28a和狭缝28b的交点的坐标(X0，Y2)记录为光点P(256，512)的位置。由以上的测定结果，通过X二X(K(Yl-Y2)/2、Y=(Yl+Y2)/2的计算决定表示光点P(256，512)在被曝光面上位置的坐标(X,Y)。也用同样的方法决定表示P(1，512)位置的坐标，导出连接各个坐标的直线与曝光头30的扫描方向形成的倾斜角度，将此设定为实际倾斜角度e'。——使用描素部的选择——使用这样设定的实际倾斜角度e'，连接于上述光检测器的上述演算装置导出与满足下述式4ttane'=N(式4)的关系的值t最接近的自然数T，进行选择DMD36上第1行至第T行的微镜作为本曝光时实际使用的微镜的处理。由此，在第512列附近的曝光区域内，可以选择相对于理想的2重曝光，曝光过度区域与曝光不足区域的合计面积为最小的微镜作为实际使用的微镜。在此，可以以导出t值以上的最小的自然数来代替导出最接近上述t值的自然数。这种情况下，在第512列附近的曝光区域中，可以选择相对于理想的2重曝光，曝光过度区域的面积变得最小而且不产生曝光不足的区域的微镜作为实际使用的微镜。另外，也可以导出t值以下的最大的自然数。这种情况下，在第512列附近的曝光区域，可以选择对于理想的2重曝光，曝光不足区域的面积变得最小而且不产生曝光过度的区域的微镜作为实际使用的微镜。图11是只使用通过上述方法被作为实际使用的微镜所选择的微镜生成的光点进行的曝光中，如何改善图8所示的被曝光面上的不均的说明图。该例中作为上述自然数T导出T=253，第1行至第253行的微镜被选中。对于没被选择的第254行至第256行的微镜，通过上述描素部控制机构，输送设定为平时关闭状态角度的信号，这些微镜实质上没有参与曝光。如图11所示，第512列附近的曝光区域内，曝光过度和曝光不足几乎完全被消除，实现了非常接近于理想的2重曝光的均一的曝光。另一方面，在图11左侧的区域(图中c(1)附近)，由于上述角度失真，被曝光面上光点列的倾斜角度变得比中央附近(图中c(512)附近)区域光线列的倾斜角度还小。因此，以c(512)为基准测定实际倾斜角度e'后基于此选择微镜，并利用该微镜进行曝光时，各偶数列的曝光图案和奇数列的曝光图案，与理想的2重曝光相比，只产生了一点曝光不足的区域。然而，将图示的奇数列曝光图案和偶数列曝光图案重合形成的实际曝光图案中，曝光量不足的范围相互被补充，可以通过2重曝光的补偿效果使上述角度变形引起的曝光不均成为最小。另外，在图11右侧的区域(图中c(1024)附近)，由于上述角度失真，被曝光面上光线列的倾斜角度变得比中央附近(图中c(512)附近)区域光线列的倾斜角度还大。因此，以c(512)为基准测定实际倾斜角度e'后基于此选择微镜，并利用该微镜进行曝光时，如图所示，与理想的2重曝光相比，只产生了一点曝光过多的区域。然而，将图示的奇数列曝光图案和偶数列曝光图案重合形成的实际曝光图案中，曝光量过多的区域相互补充，可以通过2重曝光的补偿效果使上述角度失真引起的浓度不均成为最小。本实施方式(1)中，如上所述，测定第512列的光线列的实际倾斜角度e'，用该实际倾斜角度e'，基于由上述式(4)导出的T,选择使用的微镜58，作为上述实际倾斜角度e'的设定方法，可以分别测定多个描素部的列方向(光点列)与上述曝光头的扫描方向形成的多个实际倾斜角度，将它们的平均值、中间值、最大值和最小值中的任一个设定为实际倾斜角度e'，根据上述式4等选择实际曝光时实际使用的微镜。若将上述平均值或上述中间值定为实际倾斜角度e'，则可以实现相对于理想的n重曝光而言曝光过度区域和曝光不足区域的平衡良好的曝光。例如，可以实现将曝光过度区域和曝光量不足区域的合计面积控制到最小、而且曝光过度区域的描素单元数(光点数)和曝光不足区域的描素单元数(光点数)相等的曝光。另外，若将上述最大值定为实际倾斜角度e'，则可以实现更重视排除相对于理想的n重曝光而言曝光过度的区域的曝光，例如，可以实现将曝光不足区域的面积控制为最小且不产生曝光过度区域的曝光。若将上述最小值定为实际倾斜角度e'，则可以实现更重视排除相对于理想的n重曝光而言曝光不足的区域的曝光，例如，可以实现将曝光过度区域的面积控制为最小而且不产生曝光不足区域的曝光。另一方面，上述实际倾斜角度e'的设定，并不限定于基于同一描素部的列(光点列)中至少2个光点的位置的方法。例如，可以设定从同一描素部列c(n)中1个或多个光点的位置和该c(n)附近的列中1个或多个光点的位置求得的角度作为实际倾斜角度e'。具体地讲，检测c(n)中1个光点的位置和位于沿曝光头的扫描方向延伸的直线上且含于附近的光点列的1个或多个光点位置，由这些位置信息求得实际倾斜角度e'。进而，也可以设定基于c(n)列附近的光点列中至少2个光点(如跨过c(n)配置的2个光点)的位置求得的角度作为实际倾斜角度e'。如上，根据使用图案形成装置10的本实施方式(1)的使用描素部的指定方法，可以减轻由各曝光头的安装角度误差或图案失真的影响引起的析像度的不均匀或浓度不均，实现理想的N重曝光。(2)多个曝光头间使用描素部的指定方法<1>本实施方式(2)说明如下的方法，即利用图案形成装置10对感光材料12进行2重曝光的情况下，由多个曝光头30形成的被曝光面上的重复曝光区域即曝光头间连结区域中，由于2个曝光头(以曝光头3012和3021作为一例)的与X轴方向有关的相对位置与理想的状态偏离而引起析像度的不均匀和浓度不均的情况下，减轻这些并实现理想的2重曝光的使用描素部的指定方法。作为各曝光头30即各DMD36的设定倾斜角度e采用如果是曝光头30没有安装角度误差的理想的状态，则使用可以使用的1024列X256行的描素部微镜58正好成为2重曝光的角度9idea,。该角度0id^，与上述实施方式(1)同样，由上述式13求得。本实施方式(2)中，图案形成装置10被实施初期调整，以使各曝光头30即各DMD36的安装角度成为该角度9ic^。图12是表示如上述地被实施初期调整的图案形成装置10中，由于2个曝光头(以曝光头3012和3021作为一例)的与乂轴方向有关的相对位置与理想状态偏离的影响，而在被曝光面上的图案上生成浓度不均的例子的说明图。各曝光头的与X轴方向有关的相对位置的不吻合，是由于曝光头间的相对位置难以进行微调整而产生的。图12的上段部分是表示使平台14处于静止的状态下投影于感光材料12的被曝光面上的、来自曝光头3012和3021具有的DMD36的可以使用的微镜58的光点群图案的图。图12的下段部分表示的是关于曝光区域3212和3221,在如上段部分所示的光点群图案表现出的状态下，移动平台14进行连续曝光时，在被曝光面上形成的曝光图案的状态。图12中，为说明方便，将可以使用的微镜58的每隔一列的曝光图案分为像素列群A的曝光图案和像素列群B的曝光图案表示，但实际被曝光面上的曝光图案是这2个曝光图案重合在一起的产物。图12的例子中，作为上述与乂方向有关的曝光头3012和3021间相对位置与理想状态偏离的结果，在像素列群A的曝光图案和像素列群B的曝光图案上，在曝光区域3212和3221的上述曝光头间连接区域内，均出现了相对于理想的2重曝光的状态而言曝光量过多的部分。为了减轻这样的多个上述曝光头在被曝光面上形成的上述曝光头间连接区域内出现的浓度不均，本实施方式(2)中，将狭缝28和光检测器的组合作为上述光点位置检测机构使用，检测来自曝光头3012和3021的光点群中构成被曝光面上形成的上述曝光头间连接区域的几个光点的位置(坐标)。基于该位置(坐标)，使用连接于上述光检测器的演算装置作为上述描素部选择机构，进行选择用于实际曝光的微镜的处理。——位置(坐标)的检测——图13是表示与图12同样的曝光区域3212和3221与对应的狭缝28的位置关系的仰视图。狭缝28的大小定为充分覆盖曝光头3012和3021的已曝光区域34间重复部分的宽的大小，即充分覆盖曝光头3012和3021在被曝光面上形成的上述曝光头间连接区域的大小。图14是作为一个例子说明检测曝光区域322,的光点P(256，1024)的位置时的检测手法的仰视图。首先，在第256行第1024列的微镜被点亮的状态下，缓慢移动平台14，使狭缝28沿Y轴方向相对移动，使狭缝28位于使光点P(256，1024)移至上游的狭缝28a和下游的狭缝28b之间任意位置的位置。将此时的狭缝28a和狭缝28b的交点坐标定为(XO，YO)。这一坐标(XO,YO)的值取决于赋予平台14的驱动信号所示的平台14移动至上述位置的移动距离和己知的狭缝28在X方向的位置，并被记录。其次，移动平台14，使狭缝28沿Y轴方向向图14中的右侧相对移动。然后如图14中二点连线所示，在光点P(256，1024)的光通过左侧的狭缝28b并被光检测器检测的位置，停止平台14。此时狭缝28a和狭缝28b的交点的坐标(X0，Y1)记录为光点P(256，1024)的位置。接着向相反方向移动平台14，使狭缝28沿Y轴向图14中左侧相对移动。然后如图14中二点连线所示，在光点P(256，1024)的光通过右侧的狭缝28a并被光检测器检测的位置，停止平台14。此时狭缝28a和狭缝28b的交点的坐标(X0,Y2)记录为光点P(256，1024)。由以上的测定结果，通过乂=乂0+(Yl-Y2)/2、Y=(Yl+Y2)/2的计算决定表示光点P(256，1024)在被曝光面上位置的坐标(X，Y)。——不使用描素部的设定——图12的例子中，首先用作为上述光点位置检测机构的狭缝28和光检测器的组合，检测曝光区域32,2的光点P(256，1)的位置。接着，按照P(256，1024)、P(256，1023)、...的顺序检测曝光区域3221的第256行的光点行r(256)上各光点的位置，表示比曝光区域32,2的光点P(256，1)还要大的X坐标的曝光区域3221的光点P(256，n)被检测时，结束检测动作。接下来，设定与构成曝光区域3221的光点列c(n+l)至c(1024)的光点对应的微镜，作为本曝光时不使用的微镜(不使用描素部)。例如，图12中，如果曝光区域322,的光点P(256，1020)表示比曝光区域32,2的光点P(256，l)还要大的X坐标，该曝光区域3221的光点P(256，1020)被检测后检测动作结束，则对应于构成曝光区域3221的第1021行至第1024行(相当于图15中斜线覆盖部分70)的光点的微镜，被设定为本曝光时不使用的微镜。其次，对于N重曝光的数N，检测曝光区域32!2的光点P(256，N)的位置。本实施方式(2)中，由于N二2，检测光点P(256，2)的位置。接着，曝光区域3221的光点列中，除去与被设定为上述本曝光时不使用的微镜对应的光点列，从P(1，1020)起，按照P(1，1020)、P(2，1020)...的顺序检测构成最右侧的第1020列的光点的位置，表示比曝光区域32!2的光点P(256，2)还要大的X坐标的光点P(m，1020)被检测后，结束检测动作。其后，连接于上述光检测器的演算装置中，比较曝光区域3212的光点P(256，2)的X坐标和曝光区域322,的光点P(m，1020)及P(m-l，1020)的X坐标，在曝光区域322,的光点P(m，1020)的X坐标接近于曝光区域32,2的光点P(256，2)的X坐标的情况下，设定对应于曝光区域32u的光点P(1，1020)至P(m-l，1020)的微镜作为本曝光时不使用的微镜。另外，曝光区域322,的光点P(m-l，1020)的X坐标接近于曝光区域32u的光点P(256，2)的X坐标的情况下，设定对应于曝光区域3221的光点P(1，1020)至P(m-2，1020)的微镜作为不用于本曝光的微镜。还有，对于曝光区域32,2的光点P(256，N-l)即光点P(256，1)的位置和构成曝光区域3221的次列即第1019列的各光点的位置，也进行同样的检测处理及不使用的微镜的设定。其结果，如图15中，构成由网线覆盖的区域72的光点所对应的微镜，作为实际曝光时不使用的微镜被加以追加。将平时把该微镜的角度设定至关闭状态角度的信号送至这些微镜，这些微镜实际上不用于曝光。这样，设定实际曝光时不使用的微镜，通过选择除去该不使用的微镜的微镜作为实际曝光时使用的微镜，在曝光区域3212和3221的上述曝光头间的连接区域内，可以将相对于理想的2重曝光而言曝光过度的区域及曝光不足的区域的合计面积变为最小，如图15的下段所示，可以实现非常接近于理想的2重曝光的均一的曝光。上述的例子中，设定构成图15中由网线覆盖的区域72的光点时，可以不进行曝光区域32^的光点P(256，2)的X坐标与曝光区域322,的光点P(m,1020)及P(m-l，1020)的X坐标的比较，直接设定对应于曝光区域32n的光点P(1，1020)至P(m-2,1020)的微镜作为本曝光时不使用的微镜。这种情况下，可以选择上述曝光头间连接区域内相对于理想2重曝光而言曝光过度的区域的面积变得最小、而且不产生曝光不足区域的微镜作为实际使用的微镜。另夕卜，可以设定曝光区域322,的光点P(1，1020)至P(m-l，1020)所对应的微镜作为不用于本曝光的微镜，这种情况下，可以选择上述曝光头间连接范围内相对于理想的2重曝光而言曝光不足的区域的面积变得最小、而且不产生曝光过度区域的微镜作为实际使用的微镜。进而，还可以以在上述曝光头间连接区域内相对于理想的2重描绘而言曝光过度的区域的描素单元数(光点数)和曝光不足区域内的描素单元数(光点数)相等的方式选择实际使用的微镜。如上所述，根据使用图案形成装置10的本实施方式(2)的使用描素部的指定方法，可以减轻多个曝光头的与X轴方向有关的相对位置的错位引起的析像度的不均匀和浓度不均，实现理想的N重曝光。(3)多个曝光头间的使用描素部的指定方法<2>本实施方式(3)中说明如下指定方法，即利用图案形成装置IO对感光材料12进行2重曝光的情况下，由多个曝光头30形成的被曝光面上的重复曝光区域即曝光头间连结区域中，减轻由2个曝光头(以曝光头3012和3021作为一例)的与X轴方向有关的相对位置与理想的状态偏离、各曝光头的安装角度误差以及2个曝光头间的相对安装角度误差而引起的析像度的不均匀和浓度不均，用于实现理想的2重曝光的使用描素部的指定方法。作为各曝光头30即各DMD36的设定倾斜角度，采用比角度eid^稍大一些的角度，所述eid^为如果是没有曝光头30的安装角度误差等的理想状态则使用可以使用的1024列X256行的描素部(微镜58)正好成为2重曝光的角度。该角度9id^是与上述(1)的实施方式同样用上述式13求得的值，本实施方式中，如上所述，由于s:256、N-2，所以角度eid^约为0.45度。因此，作为设定倾斜角度e，可以采用如0.50度左右的角度。图案形成装置10，在可以调制的范围内可以被实施初期调整，以使各曝光头30即各DMD36的安装角度成为接近于该设定倾斜角度e的角度。图16是表示说明如下例子的图，即，各曝光头30即各DMD36的安装角度被如上所述地初期调整的图案形成装置10中，由于2个曝光头(以曝光头3012和3021作为一例)的安装角度误差以及各曝光头3012和3021间的相对安装角度误差和相对位置不吻合的影像，于被曝光面的图案上产生斑的例子。图16的例子中，作为与图12的例子同样的、与X轴方向有关的曝光头3012和3021的相对位置不吻合的结果，在每隔一列光点群(像素列群A和B)的曝光图案上，在曝光区域3212和3221的被曝光面上的与上述曝光头的扫描方向垂直的坐标轴上重复的曝光区域内，均产生了相对于理想的2重曝光状态曝光量过多的区域74，由此引起了浓度不均。进而，图i6的例子中，将各曝光头的设定倾斜角度e设定为比满足上述式(1)的角度eid^稍大一些，同时由于各曝光头的安装角度难以进行微调整，实际的安装角度与上述设定倾斜角度e不吻合，其结果，即使在被曝光面上的与上述曝光头的扫描方向垂直的坐标轴上重复的曝光区域以外的区域，在每隔一列光点群(像素列群A和B)的曝光图案上，在由多个描素部列形成的、被曝光面上的重复曝光区域即描素部列间连接区域内，也均会产生相对于理想的2重曝光的状态呈曝光过度的区域76，这进一步引起了浓度不均。本实施方式(3)中，首先，为了减轻各曝光头3012和3021的安装角度误差及由于相对安装角度不吻合的影响而引起的浓度不均，进行使用像素选择处理。具体是，使用狭缝28及光检测器的组合作为上述光点位置检测机构，对各曝光头3012和3021分别设定实际倾斜角度6'，基于该实际倾斜角度e'，作为上述描素部选择机构使用连接于光检测器的演算装置，进行选择用于实际曝光的微镜的处理。——实际倾斜角度e'的设定——实际倾斜角度e'的设定中，利用上述实施方式(2)中所用的狭缝28和光检测器的组合，分别检测曝光头3012的曝光区域3212内的光点P(l，l)和P(256，1)的位置、以及曝光头3021的曝光区域3221内的光点P(1，1024)和P(256，1024)的位置，测定连接它们的直线的倾斜角度和与曝光头的扫描方向所成的角度。——不使用描素部的设定——连接于光检测器的演算装置，使用这样设定的实际倾斜角度9、与上述实施方式(1)的演算装置同样，针对曝光头3012和3021分别导出最接近于满足下述式4的关系的t值的自然数T，ttan6'=N(式4)进行设定DMD36上第(T+l)行至第256行的微镜作为不用于本曝光的微镜的处理。例如，如果导出曝光头30i2的T二254，曝光头30a的T二255，则设定与构成图17中被斜线覆盖的部分78和80的光点相对应的微镜作为不用于本曝光的微镜。由此，可以将曝光区域3212和3221中曝光头间连接区域以外的各区域中，相对于理想的2重曝光而言曝光过度的区域和曝光不足区域的合计面积变为最小。在此，可以用导出t值以上的最小自然数的步骤取代导出上述最接近于t值的自然数的步骤。这种情况下，曝光区域3212和3221的由多个曝光头形成的被曝光面上的重复曝光区域即曝光头间连接区域以外的各区域内，可以使相对于理想的2重曝光而言曝光量过多的面积变得最小，而且不产生曝光量不足的面积。或者可以定为导出t值以下的最大自然数。这种情况下，曝光区域3212和3221的由多个曝光头形成的被曝光面上的重复曝光区域即曝光头间连接区域以外的各区域内，可以使相对于理想的2重曝光而言曝光不足的面积变得最小，而且不产生曝光量过多的区域。也可以如下所述地设定不用于本曝光的微镜，即，由多个曝光头形成的被曝光面上的重复曝光区域即曝光头间连接区域以外的各区域内，相对于理想的2重曝光而言曝光过度的区域的描素单元数(光点数)和曝光不足区域的描素单元数(光点数)趋于相等。其后，对与构成图17中被斜线覆盖的区域78和80的光点以外的光点相对应的微镜，进行与用图12至图15说明的本实施方式(3)同样的处理，设定与构成图17中斜线覆盖区域82和网线覆盖区域84的光点相对应的微镜，并作为本曝光时不使用的微镜追加。对于这些作为曝光时不使用的微镜而被设定的微镜，通过上述描素部控制机构，输送平时设定为关闭状态角度的信号，这些微镜实质上不参与曝光。如上所述，根据使用图案形成装置10的本实施方式(3)的使用描素部的指定方法，可以减轻多个曝光头的与X轴方向有关的相对位置的不吻合以及各曝光头的安装角度误差和曝光头间的相对安装角度误差引起的析像度的不均匀和浓度不均，实现理想的N重曝光。以上对图案形成装置10的使用描素部指定方法进行了详细的说明，但上述实施方式(1)(3)只不过是例子，不脱离本发明的范围的种种变化也是可以的。另外，上述实施方式(1)(3)中，使用狭缝28和单一单元型光检测器的组合作为检测被曝光面上光点位置的机构，但不限于此，也可以使用任何形态，例如可以使用2维检测器。还有，上述实施方式(1)(3)中，由狭缝28和光检测器的组合所得的被曝光面上的光点的位置检测结果求得实际倾斜角度e'，并基于该实际倾斜角度e'，选择了使用的微镜，但也可以不借助实际倾斜角度e'的导出而直接选择可以使用的微镜。本发明的范围也可以包含如下的形态，如，使用所有可以使用的微镜进行参照曝光，通过对参照曝光结果由目视确认析像度或浓度不均，由操作者通过手动指定所使用的微镜的形态。另外，被曝光面上产生的图案变形，除了上述例子说明的角度失真，还存在各种的形态。作为一例，如图18A所示，有来自DMD36上的各微镜58的光线以不同倍率到达被曝光面上曝光区域32的倍率失真的形态。另外，作为其它的例子，如图18B所示，有来自DMD36上各微镜58的光线，以不同光束径到达被曝光面上曝光区域32的光束径失真的形态。这些倍率失真和光束径失真主要起因于DMD36和被曝光面间光学系统的各种像差或定位不准。作为另外的例子，有来自DMD36上各微镜58的光线以不同光量到达被曝光面上曝光区域32的光量失真的形态。该光量失真，除了各种像差或定位不准，还起因于DMD36与被曝光面间光学因素(如作为1个透镜的图5A和图5B的透镜52和54)的透过率的位置依赖性或DMD36自身的光量斑。这些形态的图案失真也会在形成于被曝光面上的图案上生成析像度不均或浓度不均。根据上述实施方式(1)(3)，选择实际用于本曝光的微镜后的、这些形态的图案失真的残留要素，也同上述角度失真的残留要素，可以由多重曝光的补偿效果使之变均匀，可以在各曝光头的全部曝光区域减轻析像度不均或浓度不均。《参照曝光》作为上述实施方式(1)(3)的变更例，实施如下例子。即，在可以使用的微镜中，只使用每隔(N—l)列的微镜列、或者全光点行中构成相当于1/N行的相邻行的微镜群，进行参照曝光，并以能够实现均一的曝光的方式，从用于所述参照曝光的微镜中设定实际曝光时不使用的微镜。采样输出上述参照曝光机构产生的参照曝光结果，对该输出的参照曝光结果，确认析像度的不均匀或浓度不均，进行推定实际倾斜角度等的分析。对于上述参照曝光结果的分析可以通过操作者的目视进行。图19A和图19B是表示使用单一的曝光头并只使用每隔(N—l)列的微镜进行参照曝光的形态的一例的说明图。该例中，本曝光时定为2重曝光，因此N二2。首先只使用图19A中用实线表示的奇数列的光点列所对应的微镜进行参照曝光，将参照曝光结果采样输出。以上述采样输出的参照曝光结果为基础，确认析像度的不均匀或浓度不均，推定实际倾斜角度，由此可以指定本曝光时使用的微镜。例如，图19B中以斜线覆盖表示的光点列对应的微镜以外的微镜被指定为构成奇数列的光点列的微镜中，实际用于本曝光的微镜。对于偶数列的光点列，可以同样进行参照曝光来指定本曝光时使用的微镜，也可以适用与对应于奇数列的光点列的图案同样的图案。通过如此指定本曝光时使用的微镜，使用奇数列和偶数列双方的微镜的本曝光中，可以实现接近于理想的2重曝光的状态。图20是表示用多个曝光头并只使用每隔(N—l)列的微镜进行参照曝光的形态之一例的说明图。该例中，本曝光时定为2重曝光，因此N二2。首先，只使用图20中实线所示的在X轴方向上相邻的2个曝光头(例如曝光头30,2和3021)的奇数列的光点列所对应的微镜，进行参照曝光，将参照曝光结果采样输出。以上述输出的参照曝光结果为基础，确认2个曝光头在被曝光面上形成的曝光头间连接区域以外的区域内析像度的不均匀或浓度不均、或推定实际倾斜角度，由此可以指定本曝光时使用的微镜。例如，图20中以斜线覆盖表示的区域86和网线表示的区域88内的光点列所对应的微镜以外的微镜，被指定为构成奇数列的光点的微镜中，实际用于本曝光的微镜。对于偶数列的光点列，可以同样进行参照曝光来指定本曝光时使用的微镜，也可以适用与对应于奇数列的像素列的图案同样的图案。通过如此指定本曝光时使用的微镜，使用奇数列和偶数列双方的微镜的本曝光中，在由2个曝光头于被曝光面上形成的上述曝光头间连接区域以外的区域，可以实现接近于理想的2重曝光的状态。图21A和图21B是表示用单一曝光头并只使用构成相当于全光点行数的1/N行的相邻行的微镜群进行参照曝光的形态之一例的说明图。该例中，本曝光时定为2重曝光，因此N=2。首先，只使用图21A中实线所示的第1行至第128(=256/2)行的光点所对应的微镜，进行参照曝光，将参照曝光结果采样输出。以上述输出的参照曝光结果为基础，可以指定本曝光时使用的微镜。例如，图21B中以斜线覆盖表示的光点群所对应的微镜以外的微镜，可以被指定为第1行至第128行的微镜中，实际用于本曝光时的微镜。对于第129行至第256行的微镜，可以同样进行参照曝光来指定本曝光时使用的微镜，也可以适用与对应于第1行至第128行的微镜的图案同样的图案。通过如此指定本曝光时使用的微镜，在使用全部微镜的本曝光，可以实现接近于理想的2重曝光的状态。图22是表示用多个曝光头，对于X轴方向上相邻的2个曝光头(例如曝光头3012和3021)，只使用分别构成相当于全光点行数的1/N行的相邻行的微镜群进行参照曝光的形态之一例的说明图。该例中，本曝光时定为2重曝光，因此N二2。首先，只使用图22中实线所示的第1行至第128(=256/2)行的光点所对应的微镜，进行参照曝光，将参照曝光结果采样输出。以上述输出的参照曝光结果为基础，可以指定本曝光时使用的微镜，以实现由2个曝光头于被曝光面上形成的曝光头间连接区域以外的区域中的析像度的不均匀或浓度不均被控制为最小的本曝光。例如，图22中以斜线覆盖表示的区域90和网线表示的区域92内的光点列所对应的微镜以外的微镜被指定为第1行至第128行的微镜中，实际用于本曝光时的微镜。对于第129行至第256行的微镜，可以同样进行参照曝光来指定本曝光时使用的微镜，也可以适用与对应于第1行至第128行的微镜的图案同样的图案。通过如此指定本曝光时使用的微镜，在由2个曝光头于被曝光面上形成的上述曝光头间连接区域以外的区域，可以实现接近于理想的2重曝光的状态。以上实施方式(1)(3)及变更例中，任何一个都是将本曝光定为2重曝光的情况加以说明，但并不限于此，可以定为2重曝光以上的任何多重曝光。特别是通过定为3重至7重左右的曝光，可以实现确保高析像度、析像度的不均匀和浓度不均被减轻的曝光。另外，上述实施方式及变更例所涉及的曝光装置中，为了使图像数据表示的2维图案的规定部分的尺寸、与由所选择的使用像素可以实现的对应部分的尺寸一致，优选设置变换图像数据的装置。通过如此变换图像数据，可以在被曝光面上形成如所需2维图案的高精细的图案。[显影工序]上述显影工序，是通过除去上述感光层的未曝光部分而进行的。作为上述未固化区域的除去方法没有特别的限制，可以根据需要适当选择，可以列举如使用显影液除去的方法。作为上述显影液没有特别的限制，可以根据需要适当选择，可以列举如碱性水溶液、水系显影液、有机溶剂等，其中优选为弱碱性水溶液。作为该弱碱性水溶液的碱成分，可以列举如氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸锂、碳酸钠、碳酸钾、碳酸氢锂、碳酸氢钠、碳酸氢钾、磷酸钠、磷酸钾、焦磷酸钠、焦磷酸钾、硼酸等。上述弱碱性水溶液的pH值优选为如约812，更优选为约911。作为上述弱碱性水溶液，可以列举如0.15质量％的碳酸钠水溶液或碳酸钾水溶液等。上述显影液的温度可以根据上述感光层的显影性适当选择，例如优选为约2540°C。上述显影液可以与表面活性剂、消泡剂、有机碱(如乙二胺、乙醇胺、氢氧化四甲基铵、二亚乙基三胺、三亚乙基五胺、吗啉、三乙醇胺等)或促进显影的有机溶剂(如醇类、酮类、酯类、醚类、酰胺类、内酯类等)等并用。另外，上述显影液可以是将水或碱水溶液与有机溶剂混合而成的水系显影液，也可以是单独的有机溶剂。[固化处理工序]上述固化处理工序是上述显影工序后，对所形成图案中的感光层进行固化处理的工序。作为上述固化处理工序，没有特别的限制，可以根据需要适当选择，可以适当列举如全面曝光处理、全面加热处理等。作为上述全面曝光处理的方法，可以列举如上述显影后，使形成有上述永久图案的上述层叠体的整个面曝光的方法。通过该全面曝光，可促进形成上述感光层的感光性组合物中树脂的固化，使上述永久图案的表面固化。作为进行上述全面曝光的装置，没有特别的限制，可以根据需要适当选择，可以适当列举如超高压汞灯等uv曝光机、使用氙灯的曝光机、激光曝光机等。曝光量通常为102，000mJ/cm2。作为上述全面加热处理的方法，可以列举如上述显影后，加热形成有上述永久图案的上述层叠体的整个面的方法。通过该全面加热，可提高上述永久图案表面的膜强度。上述全面加热中的加热温度优选为12025(TC，尤其优选为120200°C。该加热温度如果低于12(TC，则不能通过加热处理提高膜强度，如果超过25(TC，则上述感光性组合物中的树脂发生分解，膜质变弱变脆。上述全面加热中的加热时间优选为10120分钟，尤其优选为1560分钟。作为迸行上述全面加热的装置没有特别的限制，可以从已知的装置中适当选择，可以列举如干燥烘箱、(电)热板、IR加热器等。——保护薄膜、层间绝缘膜、抗焊剂图案的形成方法——当上述图案的形成方法为形成保护薄膜、层间绝缘膜及抗焊剂图案中至少一个的永久图案形成方法的情况下，在印刷布线板上，能够通过永久图案形成方法形成永久图案，并如下所述地进行锡焊。艮口，通过上述显影形成上述永久图案即固化层，在上述印刷布线板的表面露出金属层。对该印刷布线板的表面露出的金属层的部位进行镀金后进行锡焊。在经锡焊的部位安装半导体或部件等。此时，由上述固化层形成的永久图案发挥作为保护薄膜或绝缘膜(层间绝缘膜)、抗焊剂的机能，防止来自外部的冲击或相邻部件间电极的导通。本发明的上述图案形成装置和永久图案形成方法中，如果由上述永久图案形成方法形成的永久图案是上述保护薄膜或上述层间绝缘膜，则能够保护布线免受外部的冲击或折弯，特别是为上述层间绝缘膜的情况下，有利于将半导体或部件以高密度安装于多层布线板或组合布线板等上。本发明的上述永久图案形成方法中，由于使用了本发明的上述感光性层叠体，因此可以适用于保护薄膜、层间绝缘膜、抗焊剂图案等永久图案等各种图案的形成、滤色器、柱材、肋材、垫片、隔板等液晶结构件的制造、全息图、微电机、校样等的制造，特别适用于印刷电路板的永久图案的形成。实施例以下通过实施例对本发明进行更具体的说明，但本发明并不只限于此。(合成例1)向1000mL三口烧瓶中加入l-甲氧基-2-丙醇159g，在氮气气流下加热至85°C。在2小时内向其中滴加甲基丙烯酸节酯63.4g、甲基丙烯酸72.3g，V-601(和光纯药制)4.15g的l-甲氧基-2丙醇159g溶液。滴加结束后再加热5小时使其反应。接下来停止加热，得到甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸(30/70mol呢比)的共聚物。其次，将上述共聚物溶液中的120,0g移至300mL三口烧瓶中，加入甲基丙烯酸縮水甘油酯16.6g、p-甲氧基苯酚0.16g，搅拌使其溶解。溶解后加入三苯基膦2.4g，加热至10(TC，进行加成反应。用气相色谱确认甲基丙烯酸缩水甘油酯消失后，停止加热。加入l-甲氧基-2-丙醇，调制固体成分30质量％的下述结构式所示高分子化合物1的溶液。用将聚苯乙烯作为标准物质的凝胶渗透色谱法(GPC)测定所得高分子化合物的重均分子量(Mw)，结果为15，000。另外，用氢氧化钠滴定，得出固体成分酸价(羧基含量)为2.2meq/g。还有，由碘值滴定求得的固体成分平均乙烯性不饱和键的含量(C=C价)为2.lmeq/g。[化16]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage84</formula>*1表示下述结构式(a)所示的结构和下述结构式(b)所示的结构的混合。[化17]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage84</formula>结构式(a)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage84</formula>结构式(b)(合成例2)向1000mL三口烧瓶中加入1-甲氧基-2-丙醇159g，在氮气气流下加热至85。C。在2小时内向其中滴加甲基丙烯酸苄酯63.4g、苯乙烯12.5g、甲基丙烯酸62g，V-601(和光纯药制)4.15g的l-甲氧基-2丙醇159g溶液。滴加结束后再加热5小时使其反应。接下来停止加热，得到甲基丙烯酸苄酯/苯乙烯/甲基丙烯酸(30/10/60mol呢比)的共聚物。其次，将上述共聚物溶液中的120.0g移至300mL三口烧瓶中，加入甲基丙烯酸縮水甘油酯12.1g、p-甲氧基苯酚0.16g，搅拌使其溶解。溶解后加入三苯基膦2.4g，加热至10(TC，进行加成反应。用气相色谱确认甲基丙烯酸縮水甘油酯消失后，停止加热。加入l-甲氧基-2-丙醇，调制固体成分30质量％的下述结构式所示高分子化合物2的溶液。用将聚苯乙烯作为标准物质的凝胶渗透色谱法(GPC)测定所得高分子化合物的重均分子量(Mw)，结果为25，000。另外，用氢氧化钠滴定，得出固体成分酸价(羧基含量)为2.2meq/g。还有，由碘值滴定求得的固体成分平均乙烯性不饱和键的含量(C二C价)为2.lmeq/g。[化18]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage85</formula>(合成例3)边加热边将苯酚(线型)酚醛树脂型环氧树脂(东都化成公司制、YDPN-702)IIO质量份加入丙二醇单甲基醚乙酸酯150质量份中溶解，然后加入丙烯酸34质量份和苄基二甲基胺0.8质量份，在100120"C下连续反应8小时后加入四氢邻苯二甲酸酐35质量份，在IO(TC下反应8小时，得到酸价70mgK0H/g、环氧当量5，OOOg/eq.的含不饱和双键的环氧化合物。(实施例1)——感光性组合物的调制——将各成分以下述的量配合，调制感光性组合物溶液。[感光性组合物溶液的各成分量]上述高分子化合物1(上述l-甲氧基-2-丙醇溶液中固体成分质量30质量％)87.4质量份二季戊四醇六丙烯酸酯(聚合性化合物)12质量份*光聚合引发剂1-1(汽巴精化公司制、依路卡库阿(<々方年-7)819(酰基膦化氧化合物)《'6质量份下述式S-1所示增感剂(噻吨酮类化合物)0.6质量份*双酚A类环氧化合物和双酚F类环氧化合物的混合物(东都化成公司制、艾迫道特(工求卜一卜)ZX-1059、环氧当量165g/eq.、(碱不溶性热交联剂))*'5质量份热固化促进剂(双氰胺)().50质量份'氟类表面活性剂(麦嘎发库0力'777夕)F-176、大日本油墨化学工业(股份)制、30质量％2-丁酮溶液)'0.2质量份*硫酸钡分散液(堺化学工业公司制、B-30)'"40质量份丁酮15质量份上述硫酸钡分散液，是将硫酸钡(堺化学工业(股份)制、B-30)30质量份、上述高分子化合物1(上述1-甲氧基-2-丙醇溶液中固体成分质量30质量％)溶液29.2质量份、C.L颜料'蓝15:30.2质量份、C.I.颜料黄1850.05质量份、和丁酮40.55质量份预混合后，用电动搅拌机M-200(艾嘎(7一力'一)公司制)，使用直径1.0mm的氧化锆玻璃珠，以周速9m/s分散3.5小时来调制的。——感光性层叠体的调制——接下来，对于已形成布线的镀铜层叠板(没有通孔、铜厚12um)的表面实施化学研磨处理来调制上述基体。用筛网印刷法，使用120目的涤特纶筛网将上述感光性组合物涂布于该镀铜层叠板上，使干燥后的厚度为30,，用热风循环式干燥机在8(TC干燥15分钟形成感光层，调制成按上述镀铜层叠板和上述感光层的顺序层叠的感光性层叠体。对于上述感光性层叠体，分别用以下的方法，对最短显影时间、感度、析像度、非电解镀金耐性、通孔的埋置性和边缘粗糙度进行评价。最短显影时间以外的结果列于表2。<最短显影时间的评价>对上述镀铜层叠板上的上述感光层的全表面用3(TC的1质量％的碳酸钠水溶液在0.15MPa的压力下进行喷雾，测定从碳酸钠水溶液的喷雾开始到镀铜层叠板上的感光层溶解除去所需时间，以此定为最短显影时间。上述最短显影时间为14秒。<感度的评价>对于上述调制的感光性层叠体中的感光层，用以下说明的图案形成装置，照射从0.lmj/cm2开始以2"2倍间隔至100mJ/cm2的能量不同的光，进行2重曝光，使上述感光层的一部分区域固化。在室温静置10分钟，然[化19]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage86</formula>后对上述镀铜层叠板上的感光层的全表面用3(TC的1质量％的碳酸钠水溶液在喷雾压0.15MPa的压力下进行喷雾，喷雾时间为上述最短显影时间的2倍，溶解除去未固化的区域，测定残留的固化区域的厚度。接着绘制光的照射量与固化层厚度的关系曲线，得到感度曲线。由该感度曲线，将固化区域的厚度与曝光前感光层的30^相同时的光能量设定为使感光层固化所必须的能量。《图案形成装置》使用了具备曝光头30的图案形成装置10，而曝光头30中作为上述光照射机构具有特开2005—258431号公报记载的合波激光光源，作为光调制机构具有DMD36、和图5A及图5B所示的使光成像于上述感光性薄膜的光学系统，DMD36控制为只驱动在图6所示概略图的主扫描方向上微镜58被排列1024个而成的微镜列在副扫描方向排列768组而成的微镜阵列中的1024个X256歹U。作为各曝光头30即各DMD36的设定倾斜角度，采用了比角度8i^大一些的角度，0i^为使用可以使用的1024列X256行的微镜58正好成为2重曝光的角度。该角度9i^，可由N重曝光的数N、可以使用的微镜58的列方向的个数s、可以使用的微镜58的列方向的间隔p、以及使曝光头30倾斜的状态下由微镜形成的扫描线的间距S，通过下式1给出，spsineideal^NS(式1)如上述，由于本实施方式中的DMD36是纵横的配置间隔相等的多个微镜58呈矩形格子状排列的，所以<formula>formulaseeoriginaldocumentpage87</formula>(式2)上述式1为stan9<formula>formulaseeoriginaldocumentpage87</formula>(式3)由于s二256、N=2，所以角度6i^约为0.45度。因此采用例如0.50度作为设定倾斜角度e。首先，为了修正2重曝光中的析像度的不均匀和曝光不均，调整被曝光面的曝光图案的状态。结果示于图16。图16表示的是在使平台14处于静止的状态下投影于感光性薄膜12的被曝光面上的、源于曝光头3012和302j具有的函D36的可以使用的微镜58的光点群的图案。另外，在下段部分针对曝光区域3212和3221表示了如上段部分所示的光点群的图案显现的状态下，移动平台14进行连续曝光时被曝光面上形成的曝光图案的状态。另外，为了说明方便，图16中，将可以使用的微镜58的每隔一列的曝光图案，分为像素列群A的曝光图案和像素列群B的曝光图案表示，而实际的被曝光面上的曝光图案是这两个曝光图案重合的图案。如图16所示，作为曝光头30,2和3021间的相对位置与理想的状态偏离的结果，判明在像素列群A的曝光图案和像素列群B的曝光图案上，在曝光区域3212和3221的与上述曝光头的扫描方向垂直的坐标轴上重复的曝光区域内，均产生了相对于理想的2重曝光的状态而言曝光过度的区域。作为上述光点位置检测机构，使用狭缝28及光检测器的组合，检测曝光头30,2的曝光区域32,2内的光点P(1，1)和P(256，1)的位置、曝光头302,的曝光区域322,内的光点P(1，1024)和P(256，1024)的位置，测定连接它们的直线的倾斜角度和与曝光头的扫描方向形成的角度。用实际倾斜角度e'，针对于曝光头3012和3021分别导出与满足下述式4的关系的t值最接近的自然数T。ttan9'二N(式4)对曝光头3012，导出了T二254，对曝光头3021导出了，T=255。结果，图17中构成斜线覆盖部分78和80的微镜被设定为本曝光时不使用的微镜。其后，关于构成图17中斜线覆盖的区域78和80的光点以外的光点所对应的微镜，同样设定构成图17中斜线覆盖的区域82和网线覆盖的区域84的光点所对应的微镜，追加为本曝光时不使用的微镜。对于这些设定为曝光时不使用的微镜，通过上述描素部控制机构输送平时设定为关闭状态的角度的信号，这些微镜实质上被控制为不参与曝光。由此，曝光区域3212和3221中，在由多个上述曝光头形成的被曝光面上的重复曝光区域即曝光头间连接区域以外的各区域内，相对于理想的2重曝光，曝光过度区域和曝光不足区域的合计面积可以设为最小。<析像度的评价>以与上述最短显影时间的评价方法相同的方法和条件制作上述感光性层叠体，在室温(23°C、55%RH)下静置10分钟。使用上述图案形成装置，从所得感光性层叠体的感光层上，以线/间隙=1/1、lum刻度的条件，从线宽10100pm进行各线宽的曝光。此时的曝光量为使上述感光层固化所必需的光能量的量。在室温静置10分钟后，将3(TC的1质量^碳酸钠水溶液，以0.15Mpa的喷雾压，用上述最短显影时间的2倍的时间，喷雾于镀铜层叠板上的感光层的全表面，溶解除去未固化区域。用光学显微镜观察这样得到的带有固化树脂图案的镀铜层叠板的表面，测定固化树脂图案的线上没有堆积、褶皱等异常且可以形成间隙的最小线宽，以此作为析像度。该析像度的数值越小越好。<非电解镀金耐性的评价>用后述工序对上述试验基板进行非电解镀金，对该试验基板进行外观变化和使用玻璃纸胶带的剥离试验，用以下的标准评价抗蚀被膜的剥离状态。——评价标准——0:外观没有变化，抗蚀被膜完全没有剥离A:外观虽没有变化，但抗蚀被膜稍有剥离x:抗蚀被膜出现脱皮，存在镀不上现象，由剥离试验进行的剥离大——非电解镀金工序——对于上述感光性层叠体，由上述激光曝光而形成印刻图案，以及显影后由高压水银灯以100mJ/cm2进行全面曝光(后曝光)且在15(TC加热处理(后烘培处理)60分钟而形成抗焊剂图案(永久图案)，由此得到作为印刷电路板的试验基板，将该试验基板浸渍于3(TC的酸性脱脂液(日本马库达米特(7夕夕'一S、乂卜)公司制、MetexL-5B的20质量％水溶液)3分钟，然后于流水中浸渍3分钟进行水洗。接着，在14.3质量%过硫酸锑水溶液中于室温浸渍3分钟后在流水中浸渍3分钟进行水洗，再将试验基板在10质量%硫酸水溶液中于室温浸渍l分钟后，在流水中浸渍30秒1分钟进行水洗。然后，将该基板在3(TC的催化剂液(麦鲁戴克斯(>，亍、乂夕7)公司制、金属片活化剂-350的10质量%水溶液)中浸渍7分钟后在流水中浸渍3分钟进行水洗，再在85'C的镀镍液(麦鲁戴克斯公司制、麦鲁普来特(少/P7。P—卜)镍-865M、20容量％水溶液、pH4.6)中浸渍20分钟进行非电解镀镍后，在10质量%硫酸水溶液中于室温浸渍1分钟，然后在流水中浸渍30秒1分钟进行水洗。将试验基板在75'C的镀金液(奥野制药工业公司制、OPC木丹顾鲁蒂(厶f》rf一》K)、pH1213、镀金厚度0.3pm)中浸渍4分钟进行非电解镀金，然后在流水中浸渍3分钟，再在6(TC的温水中浸渍3分钟进行充分的水洗，然后干燥，得到非电解镀金试验基板。<通孔的埋置性>对具有绝缘层厚度200^m、铜厚18pm、间距5mm直径lOO^im的通孔的镀铜层叠板，实施表面化学研磨处理，调制上述基板。在该镀铜层叠板上，由筛网印刷法，使用120目的涤特纶筛网，涂布上述感光性组合物，使干燥厚度为30nm，在8(TC的热风循环式干燥机中干燥15分钟，形成感光层，再在形成上述感光层的反面同样涂布、干燥形成干燥厚度30pm的感光层，调制成上述镀铜层叠板的两面都形成感光层的感光性层叠体。然后用剪刀裁掉通孔附近部分，用纸或砂纸(粗加工#600和精加工#1200)研磨直至能观察到通孔部分的断面。观察通孔断面，用下述标准对埋置性进行评价。[评价标准]0:通孔完全被埋置A:能够确认小部分属于通孔的空隙，观察的断面积90%以上被埋置X:明显能确认属于通孔的空隙，被埋置面积不足被观察断面积的90%<边缘粗糙度评价>用上述图案形成装置照射上述感光性层叠体进行2重曝光，形成与上述曝光头的扫描方向垂直方向的横线图案，与上述析像度的测定中的(3)同样处理上述感光层的一部分区域而形成图案。对于所得图案中线宽50jom的线的任意5处用激光显微镜(VK—9500，齐安斯(年一工y7)公司制，对物镜50倍)进行观察，求出视野内的边缘位置中最膨胀处(山顶部分)和最细小处(谷底部分)的差作为绝对值，算出所观察5处的平均值，以此作为边缘粗糙度。由于该边缘粗糙度越小性能越好，因而是优选的。(实施例2)——感光性薄膜的制造——用棒涂机将实施例1中所得的感光性组合物溶液涂布于作为上述支撑体的厚16^m、宽300mm、长200m的PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)薄膜上，在80。C的热风循环式干燥机中干燥，形成厚30^im的感光层。然后通过层压，在该感光层上层叠膜厚20^11、宽310mm、长210m的聚丙烯薄膜作为保护膜，制造上述感光性薄膜。——感光性层叠体的调制——作为上述基体，在与实施例l相同的镀铜层叠板上，使上述感光性薄膜的感光层连接于上述镀铜层叠板而剥离上述感光性薄膜中的保护膜，同时使用真空层压机(尼茨勾木屯(二于:^一乇一卜y)(股份)公司制、VP130)层叠，调制上述镀铜层叠板、上述感光层和上述聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(支撑体)按此顺序层叠而成的感光性层叠体。压接条件设定为抽真空时间40秒、压接温度70'C、压接压力0.2MPa、加压时间10秒。对于上述感光性层叠体的感度、析像度、非电解镀金耐性、通孔埋置性和边缘粗糙度进行评价。而对析像度、非电解镀金耐性和边缘粗糙度与实施例l同样进行评价。结果示于表2。<感度的评价>对于上述调制的感光性层叠体中感光性薄膜的感光层，从上述支撑体一侧，通过实施例1中说明的图案形成装置，用与实施例l同样的方法，使上述感光层的一部分区域固化。在室温静置10分钟后，从上述感光性层叠体剥离上述支撑体，用与实施例1同样的方法测定使感光层固化所必须的光能量。<通孔的埋置性>对作为基材的具有绝缘层厚度200pm、铜厚18nm、间距5mm直径100|_im的通孔的镀铜层叠板，实施表面化学研磨处理，调制上述基板。在该镀铜层叠板的两面，使上述感光性薄膜的感光层连接于上述镀铜层叠板而剥离上述感光性薄膜中的保护膜，同时使用真空层压机(尼茨勾木屯(二千^一千一卜乂)(股份)公司制、VP130)层叠，调制上述镀铜层叠板、上述感光层和上述聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(支撑体)按此顺序层叠而成的感光性层叠体。压接条件设定为抽真空时间40秒、压接温度7(TC、压接压力0.2MPa、加压时间10秒。然后，与实施例1同样对埋置性进行评价。(实施例3)除了用表1所示的双酚F型环氧化合物(东都化成公司制、艾迫道特(工求卜一卜)YDF-8170C、环氧当量160g/eq.)3质量份和(线型)酚醛树脂型环氧化合物(东都化成公司制、艾迫道特(工求卜一卜)YDCN-704L、环氧当量210g/eq.)2质量份代替实施例2中的双酚A类环氧化合物和双酚F类环氧化合物的混合物外，与实施例2相同，对感度、析像度、非电解镀金耐性、通孔埋置性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表2。(实施例4)除了用表1所示的双酚F型环氧树脂(东都化成公司制、艾迫道特(工求卜一卜)YDF-8170C、环氧当量160g/eq.)3质量份和含杂环的环氧化合物(日产化学公司制、TEPIC-S、环氧当量100g/eq.)2质量份代替实施例2中的双酚A类环氧化合物和双酚F类环氧化合物的混合物外，与实施例2相同，对感度、析像度、非电解镀金耐性、通孔埋置性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表2。(实施例5)除了用表1所示的双酚F型环氧树脂(东都化成公司制、艾迫道特(工求卜一卜)YDF-8170C、环氧当量160g/eq.)3质量份和含脂肪环的环氧化合物(日本化药公司制、XD-IOO、环氧当量250g/eq.)2质量份代替实施例2中的双酚A类环氧化合物和双酚F类环氧化合物的混合物外，与实施例2相同，对感度、析像度、非电解镀金耐性、通孔埋置性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表2。(实施例6)除了用表1所示的双酚F型环氧树脂(东都化成公司制、艾迫道特(工求卜一卜)YDF-8170C、环氧当量160g/eq.)4质量份和合成例3中所得的(线型)酚醛树脂型环氧化合物(环氧当量5，000g/eq.)2质量份代替实施例2中的双酚A类环氧化合物和双酚F类环氧化合物的混合物外，与实施例2相同，对感度、析像度、非电解镀金耐性、通孔埋置性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表2。(实施例7)除了用表l所示的艾迫道特(工求卜一卜)ZX-10593质量份和(线型)酚醛树脂型环氧化合物(东都化成公司制、艾迫道特(工求卜一卜)YDCN-704L、环氧当量210g/eq.)2质量份代替实施例2中的热交联剂外，与实施例2相同，对感度、析像度、非电解镀金耐性、通孔埋置性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表2。(实施例8)除了用表1所示的双酚F型环氧树脂(东都化成公司制、艾迫道特(工求卜一卜)YDF-8170C、环氧当量160g/eq.)3质量份和1，4_双[(3_甲基-3-氧杂环丁烷基甲氧基)甲基]苯(氧杂环丁垸化合物)2质量份代替实施例2中的双酚A类环氧化合物和双酚F类环氧化合物的混合物外，与实施例2相同，对感度、析像度、非电解镀金耐性、通孔埋置性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表2。(实施例9)除了用表1所示的87.4质量份的合成例2中所得的高分子化合物2代替实施例2中的高分子化合物1外，与实施例2相同，对感度、析像度、非电解镀金耐性、通孔埋置性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表2。(实施例10)除了用下述式1-2所示的化合物2质量份代替实施例2中的光聚合引发剂，用N-甲基吖啶酮0.6质量份代替实施例2中的增感剂外，与实施例2相同，对感度、析像度、非电解镀金耐性、通孔埋置性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表2。(实施例11)除了用表1所示的上述式1-2所示的化合物2质量份代替实施例3中的光聚合引发剂外，与实施例3相同，对感度、析像度、非电解镀金耐性、[化20]通孔埋置性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表2。(实施例12)除了用表1所示的下述式1-3所示的化合物2质量份代替实施例4中的光聚合引发剂外，与实施例4相同，对感度、析像度、非电解镀金耐性、通孔埋置性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表2。[化21](实施例13)除了用表1所示的下述式1-4所示的化合物2质量份代替实施例5中的光聚合引发剂外，与实施例5相同，对感度、析像度、非电解镀金耐性、通孔埋置性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表2。[化22](实施例14)用另外制作的具有同样图案的玻璃制阴极掩模代替实施2中的上述图案形成装置，将该阴极掩模与上述感光性层叠体接触，用超高压水银灯以40mJ/cm2的曝光量进行曝光。然后，除了用与实施例2同样的方法显影，测定析像度外，与实施例2相同，对感度、析像度、非电解镀金耐性、通孔埋置性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表2。(实施例15)除了用表1所示的双酚F型环氧化合物(东都化成公司制、艾迫道特(工求卜一卜)YDF-8170C、环氧当量160g/eq.)3质量份和(线型)酚醛树脂型环氧化合物(东都化成公司制、艾迫道特(工求卜一卜)YDCN-704L、环氧当量210g/eq.)2质量份代替实施例14中的双酚A类环氧化合物和双酚F类环氧化合物的混合物外，与实施例14相同，对感度、析像度、非电解镀金耐性、通孔埋置性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表2。(实施例16)除了用表1所示的双酚F型环氧树脂(东都化成公司制、艾迫道特(工求卜一卜)YDF-8170C、环氧当量160g/eq.)3质量份和含杂环的环氧化合物(日产化学公司制、TEPIC-S、环氧当量lOOg/eq.)2质量份代替实施例14中的双酚A类环氧化合物和双酚F类环氧化合物的混合物外，与实施例14相同，对感度、析像度、非电解镀金耐性、通孔埋置性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表2。(实施例17)除了用表1所示的双酚F型环氧树脂(东都化成公司制、艾迫道特(工求卜一卜)YDF-8170C、环氧当量160g/eq.)3质量份和含脂肪环的环氧化合物(日本化药公司制、XD-IOO、环氧当量250g/eq.)2质量份代替实施例14中的双酚A类环氧化合物和双酚F类环氧化合物的混合物外，与实施例14相同，对感度、析像度、非电解镀金耐性、通孔埋置性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表2。(实施例18)除了用表1所示的下述式1-4所示的化合物2质量份代替实施例14中的光聚合引发剂外，与实施例14相同，对感度、析像度、非电解镀金耐性、通孔埋置性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表2。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage95</formula>(实施例19)除了用表1所示的上述式1-4所示的化合物2质量份代替实施例15中的光聚合引发剂外，与实施例15相同，对感度、析像度、非电解镀金耐性、通孔埋置性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表2。(实施例20)除了用表1所示的上述式1-4所示的化合物2质量份代替实施例16中的光聚合引发剂外，与实施例16相同，对感度、析像度、非电解镀金耐性、通孔埋置性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表2。(实施例21)除了用表1所示的上述式1-4所示的化合物2质量份代替实施例17中的光聚合引发剂外，与实施例17相同，对感度、析像度、非电解镀金耐性、通孔埋置性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表2。(实施例22)实施例2中，除了基于上述式3设N二l算出设定倾斜角度e，基于上述式4导出与满足ttane'二l关系的t值最接近的自然数T，进行N重曝光(N=l)夕卜，与实施例2相同，对感度、析像度、非电解镀金耐性、通孔埋置性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表2。(比较例l)除了用双酚A型环氧化合物(东都化成公司制、艾迫道特(工求卜一卜)YD-128、环氧当量190g/eq.)代替实施例2中的双酚A类环氧化合物和双酚F类环氧化合物的混合物外，与实施例2相同，对感度、析像度、非电解镀金耐性、通孔埋置性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表2。(比较例2)除了用下述式B-l所示的化合物(1-甲氧基-2-丙醇溶液中固体成分质量30质量％)87.4质量份代替实施例2中的上述高分子化合物1夕卜，与实施例2相同，对感度、析像度、非电解镀金耐性、通孔埋置性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表2。B-1Mw30'000酸值2.Omeq/gC:C值Omeq/g[表1]<table>tableseeoriginaldocumentpage96</column></row><table>抗蚀剂环氧化合物环氧化合物实施例2薄膜双酚F型环氧化合物双酚A型环氧化合物—高分子化合物11-1激光实施例3薄膜双酚F型环氧化合物(线型)酚醛树脂型环氧化合物一高分子化合物11-1激光实施例4薄膜双酚F型环氧化合物杂环型环氧化合物—高分子化合物11-1激光实施例5薄膜双酚F型环氧化合物脂环型环氧化合物-高分子化合物11-1激光实施例6薄膜双酚F型环氧化合物(线型)酚醛树脂型环氧化合物一高分子化合物1l-l激光实施例7薄膜双酚F型环氧化合物双酌A型环氧化合物(线型)酚醛树脂型环氧化合物高分子化合物11-1激光实施例8薄膜双酚F型环氧化合物氧杂环丁垸化合物—高分子化合物11-1激光实施例9薄膜双酚F型环氧化合物双酚A型环氧化合物一高分子化合物21-1激光实施例10薄膜双酚F型环氧化合物双酚A型环氧化合物-高分子化合物11-2激光实施例11薄膜双酚F型环氧化合物(线型)酚醛树脂型环氧化合物—高分子化合物11-3激光实施例12薄膜双酚F型环氧化合物杂环型环氧化合物一髙分子化合物1l-3激光实施例13薄膜双酚F型环氧化合物脂环型环氧化合物-高分子化合物11-4激光实施例14薄膜双酚F型环氧化合物双酚A型环氧化合物_高分子化合物11-1模拟实施例15薄膜双酚F型环氧化合物(线型)酚醛树脂型环氧化合物-高分子化合物11-1模拟实施例16薄膜双酚F型环氧化合物杂环型环氧化合物—髙分子化合物11-1模拟实施例17薄膜双酚F型环氧化合物脂环型环氧化合物—高分子化合物11-1模拟实施例18薄膜双酚F型环氧化合物双酚A型环氧化合物—高分子化合物11-4模拟实施例19薄膜双酚F型环氧化合物(线型)酚醛树脂型环氧化合物高分子化合物1l-4模拟实施例20薄膜双酚F型环氧化合物杂环型环氧化合物_高分子化合物11-4模拟实施例21薄膜双酚F型环氧化合物脂环型环氧化合物一高分子化合物11-4模拟实施例22薄膜双酚F型环氧化合物双酚A型环氧化合物—高分子化合物11-1激光比较例1薄膜双酚A型环氧化合物——高分子化合物1卜l激光比较例2薄膜双酚F型环氧化合物双酚A型环氧化合物一B-ll-l激光[表2]感度(mJ/cm2)析像度非电解镀金耐性通孔的埋置性边缘粗糙度(Hm)实施例16940001.5实施例24230001.3实施例34530001.3实施例44530o01.3<table>tableseeoriginaldocumentpage98</column></row><table>由表2的结果得出，由于实施例122使用了热交联剂含2种以上化合物的本发明的感光性组合物，因而非电解镀金耐性和通孔埋置性优良。特别是制作感光性薄膜的实施例222，析像度也很高。另外，进行激光曝光的实施例213和22，感度很高。另一方面，修正了2重曝光的析像度的偏差和曝光不均的实施例213的图案，其边缘粗糙度小。(实施例23)除了各成分按下述的量配合，调制感光性组合物溶液外，与实施例1同样调制感光性层叠体。[感光性组合物溶液的各成分量]上述高分子化合物1(上述1-甲氧基-2-丙醇溶液中固体成分质量30质量％)87.4质量份二季戊四醇六丙烯酸酯(聚合性化合物)4质量份，氨基甲酸酯丙烯酸酯(聚合性化合物、新中村化学公司制U-6H、重均分子量l，188、6官能)"'8质量份.光聚合引发剂I-l(汽巴精化公司制、依路卡库阿(一》^年^7)819(酰基膦化氧化合物)，"6质量份下述式S-l所示增感剂(噻吨酮类化合物)0.6质量份*双酚八类环氧树脂(东都化成公司制、艾迫道特(工求卜一卜)YD-8125、环氧当量170g/eq.、(碱不溶性热交联剂))3质量份*热固化剂(双氰胺)0.50质量份.氟类表面活性剂(麦嘎发库(>力'77、7夕)F-176、大日本油墨化学工业(股份)制、30质量％2-丁酮溶液)0.2质量份*硫酸钡分散液(堺化学工业公司制、B-30)*"40质量份丁酮15质量份上述硫酸钡分散液，是将硫酸钡(堺化学工业(股份)制、B-30)30质量份、上述高分子化合物1(上述1-甲氧基-2-丙醇溶液中固体成分质量30质量％)溶液29.2质量份、C.L颜料，蓝15:30.2质量份、C.I.颜料黄1850.05质量份、和丁酮40.55质量份预混合后，用电动搅拌机M-200(艾嘎公司制)，使用直径l.Omm的氧化锆玻璃珠，以周速9m/s分散3.5小时来调制的。[化19]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage99</formula>对于上述感光性层叠体，分别用以下的方法，对最短显影时间、感度、析像度、粘性、非电解镀金耐性、和边缘粗糙度进行评价。而对最短显影时间、感度、析像度、非电解镀金耐性和边缘粗糙度，与实施例l同样进行评价。最短显影时间以外的结果列于表4。<粘性的评价>。对上述感光性层叠体中感光层表面的粘性按下述标准进行评价。结果示于表2。[评价标准]感光层的表面完全没有粘性0:感光层的表面没有强的粘性A:感光层的表面稍有粘性x:感光层的表面有强的粘性(实施例24)——感光性层叠体的调制——用实施例23所得感光性组合物溶液，与实施例2同样，调制上述感光性薄膜和感光性层叠体。对上述感光性层叠体进行感度、析像度、粘性、保存稳定性和边缘粗糙度的评价。对于感度，与实施例2同样，对于析像度、粘性、和边缘粗糙度，与实施例23同样，分别进行评价。结果示于表4。<保存稳定性的评价>——端面融合的有无——用收巻机巻取上述感光性薄膜，制造感光性薄膜巻筒辊。用同轴切割机切割所得上述感光性薄膜巻筒辊，将其250mm宽、150m巻取于长300mm、内径76mm的ABS树脂制圆筒状巻芯上，制造感光性薄膜辊。用黑色聚乙烯制筒状袋(膜厚80nm、水蒸气透过率25g/m、24hr以下)包裹如此制得的上述感光性薄膜辊，在巻芯的两端压入聚丙烯制轴承。将上述两端塞了轴承的辊状样品在25°C、55%RH下保存21天后，观察端面融合的有无，用下述标准进行保存稳定性的评价。[评价标准]0:端面没有融合，层叠体可以使用的良好状态A:端面的一部分有光泽，若干端面引起融合的状态(使用界限)x:全部端面有光泽，端面大量发生融合的状态(实施例25)除了用表3所示的BPA类单体(新中村化学公司制BPE-500、重均分子量800、2官能)8质量份代替实施例24中的氨基甲酸酯丙烯酸酯外，与实施例24同样，对感度、析像度、粘性、非电解镀金耐性、保存稳定性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表4。(实施例26)除了用表3所示的聚酯型丙烯酸酯(第一工业制药公司制R-2403、官能基数4(聚酯单体))7质量份代替实施例24中的氨基甲酸酯丙烯酸酯外，与实施例24同样，对感度、析像度、粘性、非电解镀金耐性、保存稳定性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表4。(实施例27)除了用下述结构式所示的环氧丙烯酸酯(重均分子量8，000、酸价80mgK0H/g)20质量份代替实施例24中的氨基甲酸酯丙烯酸酯外，与实施例24同样，对感度、析像度、粘性、非电解镀金耐性、保存稳定性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表4。[化20]如《2:—V如2<formula>formulaseeoriginaldocumentpage101</formula>(实施例28)除了用表3所示的NK酯1206PE(官能基数2(具有醚基的单体))3质量份代替实施例24中的氨基甲酸酯丙烯酸酯3质量份外，与实施例24同样，对感度、析像度、粘性、非电解镀金耐性、保存稳定性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表4。(实施例29)除了用表3所示的87.4质量份的合成例2所得的高分子化合物2代替实施例24中的上述高分子化合物1外，与实施例24同样，对感度、析像度、粘性、非电解镀金耐性、保存稳定性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表4。(实施例30)除了用表3所示的下述式1-2所示的化合物2质量份代替实施例24中的光聚合引发剂外，与实施例24同样，对感度、析像度、粘性、非电解镀金耐性、保存稳定性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表4。[化21]实施例31)除了用表3所示的下述式1-3所示的化合物2质量份代替实施例25中的光聚合引发剂外，与实施例25同样，对感度、析像度、粘性、非电解镀金耐性、保存稳定性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表4。[化22〗(实施例32)除了用表3所示的下述式1-4所示的化合物2质量份代替实施例26中的光聚合引发剂、用N-甲基吖啶酮0.6质量份代替增感剂外，与实施例26同样，对感度、析像度、粘性、非电解镀金耐性、保存稳定性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表4。(实施例33)用另外制作的具有同样图案的玻璃制阴极掩模代替实施24中的上述图案形成装置，将该阴极掩模与感光性层叠体接触，用超高压水银灯以40mJ/cm2的曝光量进行曝光。然后，除了用与实施例24同样的方法显影，测定析像度外，与实施例24相同，对析像度、非电解镀铜耐性、保存稳定性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表4。(实施例34)除了用表3所示的双酚A型环氧丙烯酸酯(新中村化学公司制[化23]EA-1020、重均分子量484、官能基数2)7质量份代替实施例33中的氨基甲酸酯丙烯酸酯外，与实施例33同样，对析像度、粘性、非电解镀金耐性、保存稳定性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表4。(实施例35)除了用表3所示的聚酯型丙烯酸酯(第一工业制药公司制R-2403)7质量份代替实施例33中的氨基甲酸酯丙烯酸酯外，与实施例33同样，对析像度、粘性、非电解镀金耐性、保存稳定性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表4。(实施例36)除了用表3所示的光聚合引发剂1-5(BASF公司制卢斯林(/U乂)TP0-L(酰基膦化氧))4质量份代替实施例33中的光聚合引发剂外，与实施例33同样，对最短显影时间、感度、析像度、粘性、非电解镀金耐性、保存稳定性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表4。(实施例37)除了用表3所示的下述式1-2所示的化合物2质量份代替实施例34中的光聚合引发剂外，与实施例34同样，对析像度、粘性、非电解镀金耐性、保存稳定性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表4。(实施例38)除了用表3所示的下述式1-3所示的化合物2质量份代替实施例35中的光聚合引发剂外，与实施例35同样，对析像度、粘性、非电解镀金耐性、保存稳定性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表4。[化25][化24]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage104</formula>(实施例39)实施例24中，除了基于上述式3设N二l算出设定倾斜角度e，基于上述式4导出与满足ttan6'=l关系的t值最接近的自然数T，进行N重曝光(N=l)夕卜，与实施例24相同，对感度、析像度、粘性、非电解镀金耐性、保存稳定性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表4。(比较例3)除了实施例24中使用8质量份的二季戊四醇六丙烯酸酯、不使用氨基甲酸酯丙烯酸酯外，与实施例24同样，对感度、析像度、粘性、非电解镀金耐性、保存稳定性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表4。(比较例4)除了用下述结构式B-1(1-甲氧基-2-丙醇溶液中固体成分质量30质量％)87.4质量份代替实施例24中的上述高分子化合物1夕卜，与实施例2同样，对感度、析像度、粘性、非电解镀金耐性、保存稳定性和边缘粗糙度进行评价。结果示于表4。[化26]<formula>formulaseeoriginaldocumentpage104</formula>酸值2.Ora叫/gC《值Omeq/g表3<table>tableseeoriginaldocumentpage104</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage105</column></row><table>表3中的"DPHA"是二季戊四醇六丙烯酸酯的略写。表4<table>tableseeoriginaldocumentpage105</column></row><table>从表4的结果判明，由于实施例2339使用的本发明的感光性组合物中的聚合性化合物含2种以上的单体，因此粘性、非电解镀金耐性和保存稳定性优良。特别是制作感光性薄膜的实施例2439，析像度很高。另外，进行激光曝光的实施例2432和实施例39，感度很高。另一方面判明，修正了2重曝光的析像度的偏差和曝光不均的实施例2432的图案，其边缘粗糙度很小。产业上利用的可能性由于可以高效形成高精度的永久图案，本发明的感光性组合物、感光性薄膜和感光性层叠体可以适当用于保护膜、层间绝缘膜、以及抗焊剂图案等永久图案等各种图案的形成、滤色器、柱材、肋材、垫片(spacer)、隔板等液晶结构构件的制造、全息图、微电机、校样等的永久图案的形成，特别是可以适用于印刷电路板的永久图案的形成。由于使用本发明的上述感光性层叠体的本发明的永久图案形成方法可以适当用于保护膜、层间绝缘膜、以及抗焊剂图案等永久图案等各种图案的形成、滤色器、柱材、肋材、垫片(spacer)、隔板等液晶结构构件的制造、全息图、微电机、校样等的永久图案的形成，特别是可以适用于印刷电路板的永久图案的形成。权利要求1.一种感光性组合物，其特征在于，含有粘合剂、聚合性化合物、光聚合引发剂和热交联剂，上述粘合剂含有在侧链具有酸性基团和乙烯性不饱和键的高分子化合物，而且聚合性化合物和热交联剂的至少任意一种含有两种以上的化合物。2.根据权利要求1所述的感光性组合物，其中，热交联剂为从环氧化合物、氧杂环丁垸化合物、聚异氰酸酯化合物、封端剂与聚异氰酸酯化合物反应所得化合物以及三聚氰胺衍生物中选择的2种以上的物质。3.根据权利要求2所述的感光性组合物，其中，热交联剂为环氧化合物，该环氧化合物为从线型酚醛树脂型环氧化合物、双酚型环氧化合物、含杂环的环氧化合物以及脂环式环氧化合物中选择的任意2种化合物。4.根据权利要求3所述的感光性组合物，其中，热交联剂含有环氧当量为90400g/叫.的环氧化合物和环氧当量为1509000g/eq.的环氧化合物。5.根据权利要求14中任何一项所述的感光性组合物，其中，含有热固化促进剂。6.根据权利要求1和5中任何一项所述的感光性组合物，其中，聚合性化合物含有官能团数不同的2种以上单体。7.根据权利要求6所述的感光性组合物，其中，聚合性化合物含有具有氮基甲酸酯基、芳基、酯基、醚基以及由环氧化合物衍生的基团中至少任何一种基团的单体。8.根据权利要求6至7中任何一项所述的感光性组合物，其中，聚合性化合物含有具有4个以上官能团的单体。9.根据权利要求7至8中任何一项所述的感光性组合物，其中，含有重均分子量为200~9000的单体。10.根据权利要求1至9中任何一项所述的感光性组合物，其中，粘合剂含有在侧链具有酸性基团、可以含杂环的芳香基和乙烯性不饱和键的高分子化合物。11.一种感光性薄膜，其特征在于，具有支撑体和该支撑体上的由权利要求1至10中任何一项所述的感光性组合物形成的感光层。12.根据权利要求ll所述的感光性薄膜，其中所述感光性薄膜为长条状，并且巻成辊状。13.—种感光性层叠体，其特征在于，在基体上具有由权利要求1至10中任何一项所述的感光性组合物而成的感光层。14.根据权利要求13所述的感光性层叠体，其中，感光层由权利要求11至12中任何一项所述的感光性薄膜形成。15.—种永久图案形成方法，其特征在于，包含对权利要求13至14中任何一项所述的感光性层叠体中的感光层进行曝光的工序。16.根据权利要求15所述的永久图案形成方法，其中，曝光是使用350415nm波长的激光进行的。17.—种印刷电路板，其特征在于，用权利要求15至16中任何一项所述的永久图案形成方法形成永久图全文摘要本发明的目的在于提供可以高效形成高精度的永久图案(保护膜、层间绝缘膜及抗焊剂图案等)的感光性组合物、感光性薄膜、感光性层叠体、使用上述感光性层叠体的永久图案形成方法、以及通过上述永久图案形成方法形成图案的印刷电路板。为此，感光性组合物、感光性薄膜和感光性层叠体中含有粘合剂、聚合性化合物、光聚合引发剂和热交联剂，上述粘合剂含有侧链具有酸性基团和乙烯性不饱和键的高分子化合物，而且聚合性化合物和热交联剂的至少任何一种含有两种以上的化合物。另外，提供使用该感光性层叠体的永久图案形成方法以及通过上述永久图案形成方法形成永久图案的印刷电路板。文档编号G03F7/027GK101401037SQ20068005379公开日2009年4月1日申请日期2006年11月24日优先权日2006年3月16日发明者藤牧一广,高岛正伸申请人:富士胶片株式会社