专利名称：光荧光层析成像校准的制作方法
光荧光层析成像校准
本发明涉及用于对混浊介质的内部成像的设备，所述设备包括
a) 测量体积，用于容纳所述混浊介质；
b) 光源，用于辐照所述混浊介质；
c) 光探测器单元，用于探测从所述测量体积发出的光。 本发明还涉及一种医学图像采集设备，所述医学图像采集设备包括
a) 测量体积，用于容纳所述混浊介质；
b) 光源，用于辐照所述混浊介质；
C)光探测器单元，用于探测从所述测量体积发出的光。 本发明还涉及一种校准设备，其包括校准光源，并布置为插入到用于 对混浊介质的内部成像的设备中的、包括用于容纳混浊介质的测量体积的 容器中，并且包括接触部，所述接触部包括与所述容器的面向所述测量体 积的表面的至少部分相配合的接触表面。
在欧洲专利申请05111164.9 (PH004270代理人参考)中描述了这种设 备的实施例。所述设备能够用于对光学上混浊的介质的内部成像，该混浊 介质诸如是生物组织。在医学诊断中，该设备可以用于对乳房组织中的肿 瘤进行成像或用于对关节中的风湿性关节炎进行成像。诸如乳房的混浊介 质容纳于测量体积里面并利用来自光源的激发光对其进行辐照。典型地， 在医学诊断中，使用波长在400nm至1400nm范围内的光。选择激发光， 使得其引起混浊介质中的荧光剂发射荧光。探测激发光和作为辐照混浊介 质的结果而从测量体积发出的荧光，并将其用于导出混浊介质的内部的图 像。测量体积可以由仅具有一个开边的储存器来限定，该开边由边缘部分 限定。该边缘部分可以设置有可弹性形变的密封环。从US专利6480281 Bl 己知该储存器。
本发明提供了所提出的种类的设备的改进设备。此改进是通过具有下 述特征的措施实现的所述设备还包括校准设备，所述校准设备布置为光 耦合到所述测量体积并且包括校准光源，所述校准光源布置为同时产生所述激发光和对应于所述荧光的另外的光。从而，提供了一种用于执行校准 测量以确定用于激发光和荧光的探测器的相对灵敏度的容易方式。
本发明基于涉及荧光的测量需要光荧光层析成像校准的认识，因为需 要用于激发光和荧光的探测器的相对灵敏度作为校准因子。如果不校准， 则难于执行正确的图像重构。毕竟，不同的探测器对相同的信号可以具有 不同的灵敏度。正确地执行图像重构可以从这些不同灵敏度的知识获益。
清楚地，所述设备适合用于利用具有选择的光学性质的光来辐照混浊 介质，使得光能够传播通过混浊介质。于是将在该透射测量期间探测的光 用于混浊介质的内部图像的重构。如果执行两个测量， 一个在测量体积中 存在混浊介质和匹配介质，而一个在测量体积中不存在混浊介质但是存在 匹配介质，则如果在一个测量中探测的光的强度能够由在另一测量中探测 的光的强度整除，就无需对设备进行明显的校准。这能够阐述如下。对于 透射测量，设备可以包括作为光源的、用于从多个源位置辐照混浊介质 的激光器；用于将光源光耦合到选自多个开口的选择的开口的光开关；用 于将光开关光耦合至测量体积的光纤；用于从多个探测位置探测从测量体 积发出的光的光探测器单元；用于将测量体积光耦合至光探测器单元的另 外的光纤；以及用于光探测器单元的滤光器。于是能够将在存在有混浊介 质和匹配介质的测量中探测的光的强度建模为
r(s,d) = Lw(s)Ts(s)cs(s)Ox(s，d)cd(d)Td(d)Fx(d)a(d)。
此方程中，s表示在源位置s处的源，d表示在探测位置d处的探测器，
而r(s,d)表示在源位置s起作用时在探测位置d处探测的光强。
L 激光强度，
w(s)针对设定s的光开关的透射，
Ts(s)至源位置s的源光纤的透射，
cs(s)针对源位置s的光纤/混浊介质界面的透射，
(Dx(S，d)混浊介质与匹配介质一起的透射，
cd(d)针对探测器位置d的光纤/混浊介质界面的透射，
Td(d)至探测位置d的探测光纤的透射，
Fx(d)用于探测位置d处的探测器的滤光器的透射，
CT(d) 位置d处的探测器的探测灵敏度。上标x表示测量涉及具有选择的光学性质的光，使得光能够传播通过 混浊介质。
于是在仅存在匹配介质的测量中探测的光强能够建模为
Ix0(s,d) = Lw(d)Ts(s)Cs(s)Ox0(s，d)Cd(d)Td(d)Fx(d)cy(d)。
这里，下标o表示在测量体积中仅存在匹配介质的测量。 如果假定激光的强度恒定，则如果在一个测量中探测的光强能够被另 一测量中探测的光强整除，就仅剩下混浊介质加匹配介质的透射和匹配介 质的透射的比率。因此，在此情况下无需对设备的明显的校准。
然而，如果在混浊介质中存在荧光剂，则如果计算包含激发光和荧光 的测量的比率以及仅包含激发光的测量的比率，则仅等号右边的首先四个
因子相消。此比率于是变为
If(s，d)Of(s，d)cdf(d)Tdf(d)Ff(d)c/(d) <Df(s,d)
-------=---------------------------------=--------
r(s,d) Ox(s，d)cd(d)Td(d)Fx(d)(jx(d) Ox(s，d)
这里，上标x表示其中激发光和荧光均被探测到的测量。上标f表示通 过使用仅荧光能通过的滤光器从而在其中仅探测到荧光的测量。清楚地， 在此情况下，不仅剩下混浊介质加匹配介质的透射和仅匹配介质的透射的 比率，而且还剩下需要确定的附加的校准因子&。附加的校准因子包括与 设备的多个元件相关的多个因子。
能够使用布置为同时产生激发光和对应于荧光的另外的光的专门的校
准设备来确定校准因子。使校准设备产生的光的光谱为
S(X) = pSx( i) + qSU)，
其中sx为激发光源的光谱，而sf为荧光光谱。具有(If)和不具有(Ix)
荧光滤光器的测量将给出下述值
Ix = Fx(S)cjx(S) = pxcdx(Sx)Tdx(Sx)Fx(Sx)ax(Sx) + qxcdx(Sf)Tdx(Sf)Fx(Sf)<yx(Sf) If = Ff(S)cyf(S) = pxcdf(Sx)Tdf(Sx)Ff(S V(SX) + qxcdf(Sf)Tdf(Sf)Ff(sV(Sf) 如果S中激发光和荧光的相对贡献是使得p q，且滤光器对激发光的 截止足够高(pxFf(Sx) qxFf(Sf))，这变为 Ix = pxcdx(Sx)Tdx(Sx)Fx(SxK(Sx) If = qxcdf(Sf)Tdf(Sf)Ff(S V(Sf)如果荧光滤光器的截止是己知的，则对不符合这些不等式的光源也能 够进行校准。能够根据两个测量的比率和源的光谱成分来计算校准因子&
<formula>formula see original document page 8</formula>
不必明确知道p和q。如果比率
<formula>formula see original document page 8</formula>，
则r的平均值^能够写作
<formula>formula see original document page 8</formula>
其中，nd是探测器的数量，而系数i表示特定的探测器(i-l， ...， nd)。
最后的方程的右手侧也能够写作
<formula>formula see original document page 8</formula>
其中^表示所有^ (i=l， ... nd)的平均值。此平均值从系统的设计 知道，因为其可以取决于例如光二极管的选择、滤光器的选择等。最后两 个方程的组合得到
<formula>formula see original document page 8</formula>
因此，对纟i，下述方程成立 & = Wrm x ri
从此方程，清楚地，能够通过执行具有和不具有耦合到第i探测器的荧 光滤光器的测量并利用关于系统的现有的知识来组合所测得的数据而获得 所需的校准因子^。即使校准光源的激光和荧光的相对水平随时间改变，这 仍然是真实的。如果滤光器对激光的截止不是足够高，则最后的方程变为
<formula>formula see original document page 8</formula>
其中c等于cdf(Sf)Tdf(Sf)Ff(Sf)/ cdx(Sx)Tdx(Sx)Fx(Sx)
根据本发明的设备的一个实施例的特征在于校准设备包括荧光染料。 可以想到，校准设备能够布置为包括校准光源，该校准光源布置为产生具 有与存在于混浊介质中的荧光剂发射的荧光的特性对应但不必相等的特性 的光。然而，如果包括在校准设备中的荧光染料与存在于混浊介质中的荧光剂中的荧光团是相同的染料，则此实施例具有的优点是，在校准设备中 产生的荧光是(几乎根据定义)与混浊介质里面产生的荧光确切相同的荧 光。理想地，包括在校准设备中的荧光染料与存在于混浊介质中的荧光剂 是相同的物质。然而，可能存在一些考虑，例如成本考虑，导致仅荧光剂 的荧光团部分用于校准设备中。
根据本发明的设备的另一实施例的特征在于，荧光染料包括在染料体 积里面，所述染料体积具有面向所述染料体积的边界，所述边界具有选择 的光学特性，使得所述边界反射所述激发光。因为边界具有选择的光学特 性，使得它们反射激发光，所以此实施例的优点在于，激发光在包括荧光 染料的体积里面传播的路径延长了。结果，因为由于延长的路径，激发光 比路径更短时遇到更多的荧光染料，所以在染料体积里面产生了更多的荧 光。
根据本发明的设备的另一实施例的特征在于，校准设备还包括调整装 置，所述调整装置布置为调整由所述校准设备产生的所述激发光和荧光的 相对强度。如先前解释的，如果激发光对由校准设备产生的光的相对贡献 比荧光对由校准设备产生的光的相对贡献大得多，则能够简化校准过程。 因此，校准过程能够从容许调整由校准设备产生的激发光和荧光的相对强 度的调准装置获益。取决于哪个的贡献更强以及想如何调整激发光和荧光 的相对强度，存在多种选择。如果，例如，激发光的强度比荧光的强度大 得多，且想要相同的幅度量级的强度，则可以使用用于滤除激发光的至少 部分的滤光器。替代地，可以将物质加到荧光染料中，该物质具有选择的 光学特性，使得该物质吸收激发光比吸收荧光更强。
根据本发明的设备的另一实施例的特征在于，所述校准设备布置为插 入到所述设备中。如果，例如校准设备包括荧光染料，则此实施例的优点 在于，包括一种荧光染料的校准设备能够与包括另一种荧光染料的校准设 备容易地交换，并且这容许容易地清洗包括在校准设备中的包括荧光染料 的体积。
根据本发明的设备的另一实施例的特征在于，所述设备还包括容器， 所述容器包括用于容纳所述混浊介质的所述测量体积，所述容器包括用于 将所述光源光耦合到所述测量体积和将所述测量体积光耦合到所述光探测器单元的光学通道，所述校准设备布置为插入到所述容器中，并且所述校 准设备包括接触部，所述接触部包括与所述容器的面向所述测量体积的表 面的至少部分相配合的接触表面。如果校准设备与容器的面向测量体积的 表面的至少部分相配合，则校准设备能够布置成使得由校准设备产生的光 以相同的成分到达所有的探测位置。因为该紧密配合，校准设备能够容易 地插入到容器里面。
根据本发明的设备的另一实施例的特征在于，接触部是可拆装的。此 实施例的优点在于其容许使用具有不同尺寸的不同接触部。
根据本发明的设备的另一实施例的特征在于，所述接触部包括限定接 触部体积并面向所述校准光源的表面，所述表面具有选择的光学特性，使 得所述表面反射所述激发光和所述荧光，所述表面还包括光学通道，用于 将所述校准设备光耦合到所选择的光学通道。此实施例的优点在于，其容 许由校准设备产生的光以相同强度和相同成分到达所有探测位置。此结果 的得到是因为，限定体积、面向校准源、且反射由校准设备产生的光的表 面导致了对由限定的体积里面的校准设备产生的光的多重反射。因此经由 另外的光学通道耦合到选择的光学通道的光对所有光学通道具有相同的成 分。
根据本发明的设备的另一实施例的特征在于，所述接触部具有选择的 光学特性，使得所述接触部散射所述激发光和所述荧光。此实施例的优点 在于，其容许由校准设备产生的光以相同成分到达所有探测位置。由校准
光源产生的并通过接触部的光被散射，使得其以相同的成分到达所有探测 位置。
根据本发明，所述医疗图像采集设备包括
a) 测量体积，用于容纳所述混浊介质；
b) 光源，用于辐照所述混浊介质；
C)光探测器单元，用于探测从所述测量体积发出的光， 其特征在于
所述光源布置为发射选择的激发光，使得所述激发光引起存在于所述 混浊介质中的荧光剂发射荧光，并且其特征在于，所述设备还包括校准设 备，所述校准设备布置为光耦合到所述测量体积并且包括校准光源，所述校准光源布置为同时产生所述激发光和对应于所述荧光的另外的光。
根据本发明，所述校准设备布置为插入到用于对混浊介质的内部成像 的设备中的、包括用于容纳混浊介质的测量体积的容器中，所述校准设备 具有接触部，所述接触部包括与所述容器的面向所述测量体积的表面的至 少部分相配合的接触表面，并且所述校准设备具有校准光源，所述光源布 置为同时产生引起存在于所述混浊介质中的荧光剂发射荧光的光和与所述 荧光对应的另外的光。
将参照附图进一步阐述和描述本发明的这些和其它方面，其中
图1示出了从现有技术已知的用于对混浊介质的内部成像的设备的实 施例；
图2示意性地示出了布置为永久性地集成到用于对混浊介质的内部成 像的设备中的校准设备；
图3示意性地示出了布置为插入到用于对混浊介质的内部成像的设备 中的校准设备；
图4示意性地示出了接触部，该接触部包括反射激发光和荧光的表面， 并且还包括另外的光学通道；
图5示意性地示出了接触部，该接角虫部包括对激发光和荧光进行弱散 射的表面；
图6a示意性地示出了校准光源的实施例；
图6b示意性地示出了校准光源的另一实施例。
图1示意性地示出了从现有技术已知的用于对混浊介质的内部成像的 设备1。该设备1包括光源5、光探测器单元10、由容器20限定的测量 体积15，所述容器包括多个光学通道25a和25b，并且光导30a和30b耦合 到所述光学通道。设备1还包括选择单元35，用于将输入光导40耦合到从 容器20中的多个光学通道25a中选择的若干光学通道。为清楚起见，光学 通道25a和25b安置在容器20的相对的侧面上。然而，实际上，两种类型 的光学通道都可以围绕测量体积15分布。混浊介质45放置在测量体积15 里面。然后，通过使用选择单元35将光源5耦合到连续地选择的光学通道25a，利用来自光源5的光从多个位置辐照混浊介质45。光是经选择的，使 得其能够传播通过混浊介质45。使用光学通道25b并使用光探测器10来从 多个位置探测作为辐照混浊介质45的结果而从测量体积15发出的光。然 后使用所探测的光来导出混浊介质45的内部的图像。基于所探测的光来导 出混浊介质45的内部的图像是可能的，因为此光的至少一部分传播通过了 混浊介质45，并且结果，包含关于混浊介质45的内部的信息。有意地将光 选择为使得其能够传播通过混浊介质45。在测量体积15中，混浊介质45 可以至少部分地由另外的介质50围绕，介质50可以用于抵消源自混浊介 质45与其围绕物的光耦合的边界效应。在致力于对混浊介质45的内部成 像的测量中，必需以可重复的方式将能够传播通过混浊介质45的光耦合到 混浊介质45中，而不出现类似例如反射的边界效应。至少部分地围绕测量 体积15里面的混浊介质45的另外的介质50的光学特性必需是这样的对 于用于对混浊介质45的内部成像的光的波长，诸如例如吸收系数的特性与 要被成像的混浊介质45的那些特性匹配。通过对光学特性进行匹配，显著 降低了边界效应。
在图1中，测量体积15由容器20限定。然而，情况不必总是如此。 用于对混浊介质的内部成像的设备的另一实施例是手持设备，可以例如紧 靠混浊介质的一侧按压该手持设备。在该情况下，测量体积是由混浊介质 的部分占据的体积，从混浊介质来探测作为辐照混浊介质的结果的光。
图2示意性地示出了布置为永久性地集成到用于对混浊介质的内部成 像的设备l中的校准设备55。基本上，图2与图1相同。然而，光源5布 置为发射选择的激发光，使得激发光引起混浊介质45中存在的荧光剂发射 荧光，并且在于该设备还包括校准设备55。如从现有技术已知的，与用于 辐照混浊介质45的光源5类似地将校准设备55集成到设备1中。通过选 择单元35，能够将校准设备55光耦合到测量体积15。此实施例的优点在 于其容许全自动地执行校准过程。在校准过程期间，测量体积15中不存在 混浊介质45。在如图2中所示的设备1的校准过程中，通过光导40将由校 准设备55产生的光耦合到选择单元35，然后将光耦合到从多个光学通道 25a选择的光学通道25a。由校准设备55产生的光必需以相同的成分到达耦 合到光探测器单元10的所有光学通道25b。这能够通过将校准介质容纳于容器20中以代替匹配介质50来实现，校准介质具有选择的光学性质，使 得校准介质散射由校准设备55产生的光，并且使得校准介质不吸收由校准 设备55产生的光。哪种校准介质适合取决于由校准设备55产生的光的光 学特性。例如，如果校准设备55包括作为荧光剂的靛青绿(ICG)和波长 600-1000纳米的激发光，则水和二氧化钛的混合物是适合的校准介质。校 准设备55不必类似于用于辐照混浊介质45的光源5那样集成到设备1中。 替代地，校准设备55可以插入到容器20中。 一般地，在容器20的面向测 量体积15的表面和插入的校准设备55之间将保持有间隔。在该情况下， 校准介质可以再次用于确保由校准设备55产生的光以相同的组分到达所有 光学通道25b。
图3示意性地示出了布置为插入到用于对混浊介质的内部成像的设备1 中的校准设备60。设备1包括容器20，容器20包括用于容纳混浊介质45 的测量体积15。因为在校准测量中，在测量体积15中不存在混浊介质45， 所以在图3中没有示出混浊介质45。容器20还包括用于将测量体积15光 耦合到其围绕物的光学通道25a和25b。校准设备60包括校准光源65和接 触部70。接触部70包括接触表面75，其与容器20的面向测量体积15的 表面的至少一部分紧密地配合。接触部70能够制作为可交换的。这具有的 优点是，能够使用与包括具有不同维度的测量体积的不同容器配合的不同 接触部。
图4示意性地示出了接触部70，该接触部包括反射激发光和荧光的表 面80，并且包括另外的光学通道85。图4的左边部分示意性地示出了接触 部70的外面，而图4的右边部分示意性地示出了接触部70的横截面的一 半。接触部70布置成包括在校准设备60中，使得接触部70包括限定接触 部体积90并面向校准光源65的表面80。此表面80具有选择的光学特性， 使得表面80反射激发光和荧光。这些特性使得在由表面80限定的接触部 体积90里面实现多重反射。多重反射由光线95示例。接触部70还包括用 于将校准设备60光耦合到包括在设备1中的容器20中的选择的光学通道 25b的另外的光学通道85。因为限定接触部体积90并面向校准光源65的 表面80的反射光学特性，对于所有另外的光学通道85，由校准设备60产 生的并到达另外的光学通道85的光具有相同的强度和成分。通过例如利用金来涂覆限定接触部体积卯并面向校准光源65的表面80，能够使得该表 面80具有适合的光学性质。
图5示意性地示出了接触部70，该接触部包括对激发光和荧光产生弱 散射的散射体积。接触部70包括散射体积77，其具有选择的光学特性，使 得散射体积77对激发光和荧光产生弱散射，如在100示意性地示出的。通 过例如由环氧树脂和二氧化钛的混合物来制作散射体积77，能够使得散射 体积77具有适合的光学性质。如果选择环氧树脂和二氧化钛的混合物，则 可以以液体形式在光纤100的末端附近对其进行熔炼(cast)。 一旦硬化， 从光纤100的末端发出的光在散射体积77中是弱散射的。
图6a示意性地示出了校准光源65的实施例。校准光源65包括用于 辐照包括荧光剂的试管110的内含物的光源105、束光阑(beam stop) 115、 用于聚集从试管110发出的光的聚集光学器件120、用于吸收由光源105发 射的光的可选吸收滤光器125、以及用于将光从校准光源65耦合出来的光 纤130。例如可以是激光束的光源105发射光束135。光束135然后到达包 括荧光剂的试管110。选择由光源105发射的光，以便光引起存在于试管 110中的荧光剂发射荧光。从试管110发出的在平行于光束135的方向的方 向上的光，即光束140，由束光阑115阻挡。在垂直于光束135的方向的方 向上，从试管110发出包括散射的由光源105发射的光和荧光的组合的光 束145。光束145然后通过聚集光学器件120，并且可选地通过用于吸收由 光源105发射的光的吸收滤光器125。其后，来自光束145的光进入光纤 130。光纤130用于将光束150耦合出校准光源65。试管110包括面向染料 体积的边界165，该边界165可选地具有选择的光学性质，使得边界165的 至少一部分反射由光源105发射的光。如果选择此选项，则来自光源105 的光可以通过试管110的壁上的光学开口 160进入试管110，并通过试管110 的壁上的另一光学开口 162离开试管110。通过例如利用金层涂覆边界165， 能够使得边界165反射由光源105发射的光。
图6b示意性地示出了校准光源的另一实施例。校准光源65包括用 于辐照包括荧光剂的试管110的内含物的光源105、用于将由光源105发射 的光聚焦到试管110的壁上的光学开口 160上的聚焦光学器件155、用于吸 收由光源105发射的光的可选吸收滤光器125、以及用于将光从校准光源65耦合出来的光纤130。可以例如是激光束的光源105发射光束135。然后 由聚焦光学器件155将光束135聚焦到试管110的壁上的光学开口 160上。 通过光学开口 160，光束135辐照试管110的内含物。选择由光源105发射 的光，以便该光引起存在于试管110中的荧光剂发射荧光。试管110包括 面向包括荧光剂的体积的边界165，该边界165具有选择的光学性质，使得 边界165反射由光源105发射的光。以此方式，由光源105发射的光在试 管110里面传播的路径加长了。这导致产生更多的荧光。通过例如利用金 层涂覆边界165，能够使得边界165反射由光源105发射的光。在垂直于光 束135的方向的方向上，耦合到试管110的光纤130用于将光束150从试 管110耦合出来，光束150包括散射的由光源105发射的光和在试管110 中产生的荧光的组合。光束150然后可选地通过用于吸收由光源105发射 的光的吸收滤光器125。
应当注意，上述实施例是示例本发明而不是限制本发明，并且本领域 技术人员将能够设计许多替代实施例，而不脱离所附权利要求的范围。在 权利要求中，放置在括号之间的任何参考符号不应视为限制权利要求。词 语"包括"不排除存在权利要求中所列出的那些元件或步骤以外的元件或 步骤。元件前面的词语"一个"不排除存在多个该元件。在列举数个装置 的系统权利要求中，能够由计算机可读软件或硬件的同一项来具体化数个 这些装置。仅仅某些措施记载在相互不同的从属权利要求中的事实不表示 这些措施的组合不能用于好的效果。
权利要求
1、一种用于对混浊介质的内部成像的设备，包括a)测量体积(15)，用于容纳所述混浊介质(45)；b)光源(5)，用于辐照所述混浊介质(45)；c)光探测器单元(10)，用于探测从所述测量体积(15)发出的光，其特征在于所述光源(5)布置为发射选择的激发光，使得所述激发光引起存在于所述混浊介质(45)中的荧光剂发射荧光，并且其特征在于，所述设备(1)还包括校准设备(60)，所述校准设备(60)布置为光耦合到所述测量体积(15)并且包括校准光源(65)，所述校准光源(65)布置为同时产生所述激发光和对应于所述荧光的另外的光。
2、 如权利要求l所述的设备，其特征在于，所述校准设备(55， 60) 包括荧光染料。
3、 如权利要求2所述的设备，其特征在于，所述荧光染料包括在染料 体积里面，所述染料体积具有面向所述染料体积的边界，所述边界具有选 择的光学特性，使得所述边界反射所述激发光。
4、 如权利要求l所述的设备，其特征在于，所述校准设备(60)还包 括调整装置，所述调整装置布置为调整由所述校准设备(60)产生的所述 激发光和所述另外的光的相对强度。
5、 如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述校准设备(60)布置 为插入到所述设备中。
6、 如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述设备还包括容器(20)， 所述容器(20)包括用于容纳所述混浊介质(45)的所述测量体积(15)， 所述容器(20)包括用于将所述光源(5)光耦合到所述测量体积(15)和将所述测量体积(15)光耦合到所述光探测器单元(10)的光学通道(25a， 25b)，所述校准设备(60)布置为插入到所述容器(20)中，并且所述校 准设备(60)包括接触部(70)，所述接触部(70)包括与所述容器(20) 的面向所述测量体积(15)的表面的至少部分相配合的接触表面(75)。
7、 如权利要求6所述的设备，其特征在于，所述接触部(70)是可拆 装的。
8、 如权利要求7所述的设备，其特征在于，所述接触部(70)包括限 定接触部体积并面向所述校准光源(65)的表面(80)，所述表面(80)具 有选择的光学特性，使得所述表面(80)反射所述激发光和所述荧光，所 述表面(80)包括另外的光学通道(85)，用于将所述校准设备(60)光耦 合到所选择的光学通道(25b)。
9、 如权利要求7所述的设备，其特征在于，所述接触部(70)具有选 择的光学特性，使得所述接触部散射所述激发光和所述荧光。
10、 一种医学图像采集设备，包括a) 测量体积(15)，用于容纳所述混浊介质(45);b) 光源(5)，用于辐照所述混浊介质(45);c) 光探测器单元(10)，用于探测从所述测量体积(15)发出的光， 其特征在于所述光源(5)布置为发射选择的激发光，使得所述激发光引起存在于 所述混浊介质(45)中的荧光剂发射荧光，并且其特征在于，所述设备还 包括校准设备(60)，所述校准设备(60)布置为光耦合到所述测量体积(15) 并且包括校准光源(65)，所述校准光源(65)布置为同时产生所述激发光 和对应于所述荧光的另外的光。
11、 一种校准设备(60)，其布置为插入到用于对混浊介质(45)的内 部成像的设备中的、包括用于容纳混浊介质(45)的测量体积(15)的容器(20)中，所述校准设备(60)具有接触部(70)，所述接触部(70)包 括与所述容器(20)的面向所述测量体积(15)的表面的至少部分相配合 的接触表面(75)，并且所述校准设备(60)具有校准光源(65)，所述校 准光源(65)布置为同时产生引起存在于所述混浊介质中的荧光剂发射荧 光的光和与所述荧光对应的另外的光。
全文摘要
本发明涉及一种用于对混浊介质的内部成像的设备和一种医学图像采集设备，其包括a)测量体积(15)，用于容纳所述混浊介质(45)；b)光源(5)，用于辐照所述混浊介质(45)；c)光探测器单元10，用于探测从所述测量体积(15)发出的光。用于对混浊介质的内部成像的设备和医学图像采集设备适于使得该设备还包括校准设备(55，60)，所述校准设备(55，60)布置为光耦合到所述测量体积(15)并且包括校准光源(65)，所述校准光源(65)布置为同时产生所述激发光和对应于所述荧光的另外的光。本发明还涉及一种校准设备(60)，所述校准设备(60)布置为插入到用于对混浊介质(45)的内部成像的设备中的、包括用于容纳混浊介质(45)的测量体积(15)的容器(20)中，所述校准设备(60)具有接触部(70)，所述接触部(70)包括与所述容器(20)的面向所述测量体积(15)的表面的至少部分相配合的接触表面(75)，并且所述校准设备(60)具有校准光源(65)，所述校准光源(65)布置为同时产生引起存在于所述混浊介质中的荧光剂发射荧光的光和与所述荧光对应的另外的光。接触部(70)可以是可拆装的。
文档编号G02B6/26GK101467084SQ200780021751
公开日2009年6月24日 申请日期2007年6月13日 优先权日2006年6月14日
发明者T·克勒, T·尼尔森 申请人:皇家飞利浦电子股份有限公司