专利名称：正型放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜及其形成方法
技术领域：
本发明涉及正型放射线敏感性树脂组合物、由该组合物形成的层间绝缘膜、以及 该层间绝缘膜的形成方法，该正型放射线敏感性树脂组合物适合作为用于形成液晶显示元 件(LCD)等的层间绝缘膜的材料。
背景技术：
薄膜晶体管(以下，记为“TFT”)型液晶显示元件、磁头元件、集成电路元件、图像 传感器等电子部件中，一般设置层间绝缘膜以使层状配置的布线间绝缘。作为形成层间绝 缘膜的材料，优选得到必要的图案形状的工序数少，而且具有足够平整性，所以广泛使用正 型放射线敏感性树脂组合物(参照专利文献1)。上述电子部件中，例如TFT型液晶显示元件经过在层间绝缘膜上形成透明电极 膜，在其上形成液晶取向膜的工序制造。制造这种TFT型液晶显示元件时，层间绝缘膜由于 在形成透明电极膜的工序中暴露在高温条件下，或者暴露在形成电极的图案使用的抗蚀剥 离液中，或者暴露在各种波长的光中，所以必须有足够的耐热性、耐溶剂性和耐光性。另外， 由于层间绝缘膜还有可能进行干蚀工序，所以必须对干蚀有足够的耐受性(参照专利文献 2和专利文献3)。另外，近年来TFT型液晶显示元件有大画面化、高亮度化、高精度化、高速响应化、 薄型化等趋势。因此，作为TFT型液晶显示元件中使用的用于形成层间绝缘膜的放射线敏 感性组合物，要求对放射线有高的灵敏度，而且作为形成层间绝缘膜要求是低介电常数、高 的光线透过率等这些与目前相比逐渐增加的优异的性能。另外，在形成层间绝缘膜时的显 影工序中，如果显影时间即使比最佳时间略微长一点，则显影液浸透到图案和基板之间，图 案也容易从基板剥落。因此，在形成层间绝缘膜时的显影工序中，必须要严密控制显影时 间，在产品的成品率方面有问题。如此，在由放射线敏感性树脂组合物形成层间绝缘膜时，作为组合物要求对放射 线有高灵敏度；另外，在形成层间绝缘膜时的显影工序中，显影时间比规定时间过量时，显 示出图案不会剥落的良好的密合性，而且作为形成的层间绝缘膜要求有耐热性、耐溶剂性、 低介电性、光线透过率、耐光性、耐干蚀性等性能优异。但是，目前还不知道有完全满足这样 要求的放射线敏感性树脂组合物。现有技术文献专利文献专利文献1日本特开2001-3M822号公报专利文献2日本特开2000-241832号公报专利文献3日本特开2005-345757号公报
发明内容
本发明是根据上述问题提出的，其目的在于提供一种正型放射线敏感性树脂组合物，该组合物的放射线灵敏度和对显影工序中图案从基板剥落的耐受性高，而且可以形成 耐热性、耐溶剂性、低介电性、光线透过率、耐光性和耐干蚀性优异的层间绝缘膜；还提供由 该组合物得到的层间绝缘膜以及该层间绝缘膜的形成方法。为了解决上述问题提出的发明是一种正型放射线敏感性树脂组合物，其包含[A]具有受阻胺结构和/或受阻酚结构的碱可溶性树脂，以及[B] 1，2-醌二叠氮化合物。该正型放射线敏感性树脂组合物由于包含[A]具有受阻胺结构和/或受阻酚结构 的碱可溶性树脂和[B] 1，2-醌二叠氮化合物，所以放射线灵敏度和在显影工序中图案从基 板剥落的显影时间的允许范围(显影裕度)高，而且可以形成耐热性、耐溶剂性、低介电性、 光线透过率、耐光性和耐干蚀性优异的层间绝缘膜。另外，这里所述的“具有受阻胺结构的 碱可溶性树脂”是指含氨基的氮原子邻接的至少1个碳原子构成叔型基团的胺结构的碱可 溶性树脂；所述的“具有受阻酚结构的碱可溶性树脂”是指含邻接酚羟基的连接部分的至少 1个苯环碳原子连接叔型基团的苯酚结构的碱可溶性树脂。在该正型放射线敏感性树脂组合物中，[A]碱可溶性树脂优选为由(a 1)包含选 自不饱和羧酸或不饱和羧酸酐中的一种以上的单体，以及(^)包含选自下述式(1)所示的 化合物、下述式( 所示的化合物或下述式C3)所示的化合物中的一种以上的单体得到的 共聚物。
权利要求
1.一种正型放射线敏感性树脂组合物，其包含[A]具有受阻胺结构和/或受阻酚结构的碱可溶性树脂，以及[B]1,2-醌二叠氮化合物。
2.根据权利要求1所记载的正型放射线敏感性树脂组合物，其中[A]碱可溶性树脂为 由(al)包含选自不饱和羧酸或不饱和羧酸酐中的一种以上的单体，以及(^)包含选自下 述式(1)所示的化合物、下述式( 所示的化合物或下述式C3)所示的化合物中的一种以 上的单体得到的共聚物，
3.根据权利要求2所记载的正型放射线敏感性树脂组合物，其中[A]碱可溶性树脂为 由除了上述(al)和(^)所示的化合物以外，还包含(M)含环氧基的不饱和化合物的单体 得到的共聚物。
4.根据权利要求1、权利要求2或权利要求3所记载的正型放射线敏感性树脂组合物， 其用于形成层间绝缘膜。
5.由权利要求4所记载的正型放射线敏感性树脂组合物形成的层间绝缘膜。
6.一种层间绝缘膜的形成方法，其包括(1)在基板上形成权利要求4所记载的正型放射线敏感性树脂组合物的涂膜的工序，(2)对在工序(1)形成的涂膜的至少一部分照射放射线的工序，(3)对在工序O)中照射了放射线的涂膜进行显影的工序，以及(4)加热在工序C3)显影的涂膜的工序。
全文摘要
本发明涉及一种正型放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜及其形成方法。该正型放射线敏感性树脂组合物的放射线灵敏度、显影裕度高，而且可以形成耐热性、耐溶剂性、低介电性、光线透过率、耐光性、耐干蚀性优异的层间绝缘膜。该正型放射线敏感性树脂组合物包含[A]具有受阻胺结构和/或受阻酚结构的碱可溶性树脂，以及[B]1，2-醌二叠氮化合物。[A]成分优选为由(a1)包含选自不饱和羧酸或不饱和羧酸酐中的一种以上的单体，以及(a2)包含选自下述式(1)所示的化合物、下述式(2)所示的化合物或下述式(3)所示的化合物中的一种以上的单体得到的共聚物。[A]成分可以是由除了上述(a1)和(a2)的化合物以外，还包含(a3)含环氧基的不饱和化合物的单体得到的共聚物。
文档编号G03F7/00GK102053497SQ20101053140
公开日2011年5月11日 申请日期2010年10月26日 优先权日2009年10月28日
发明者村田惠, 花村政晓, 荒井雅史 申请人:Jsr株式会社