专利名称：显影装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及液晶显示装置的矩阵(array)工艺技术，尤其涉及一种显影装置。
背景技术：
液晶显示器是目前常用的平板显示器，其中薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，简称TFT-LCD)是液晶显示器中的主流产品。主动矩阵驱动的TFT-IXD中显示开关为TFT，而构图工艺是形成TFT图案 (pattern)的重要工艺。构图工艺包括涂胶、曝光和显影等步骤。随着玻璃基板变大和对显示分辨率 要求的提高，对于影印石版工艺中的关键尺寸(Critical Dimension,⑶)均勻度(⑶ uniformity)的控制要求也在提高。CD均勻度受众多工艺参数影响，其中，显影对CD均勻度的影响很大。显影工艺分为两部分，前半部分为水平显影，后半部分为姿势变换。显影装置包括 水平显影液喷嘴。如图1所示，基板1在水平显影阶段处于水平状态，显影装置通过显影液 喷嘴2使基板表面显影液21分布较均勻，之后基板1进入姿势变换部分即显影姿势变换单 元，在一个气缸的驱动下，基板1从水平状态变换到倾斜状态，从而使显影液21从基板1上 面流到下面再流入显影槽里，达到停止显影、回收显影液的目的。最后是结束显影，水洗过 程，循环水喷嘴3在基板1处于倾斜状态下时喷淋循环水31，进行冲洗。然而在姿势变换过程中，由于基板处于倾斜状态，基板上显影液的量从基板上部 到基板下部逐渐增加，会造成显影后整个基板上CD均勻度的差异。为解决上述问题，现有技术中通过在基板倾斜时，在基板上方喷洒相同浓度的显 影液，达到在倾斜过程中基板上下显影液均勻分布的目的。现有技术存在的缺陷在于上方喷洒显影液的过程结束时，显影液还是会从基板 的上方流到基板的下方再到回收槽，因此基板倾斜时朝上的部分到朝下的部分，显影液的 分布仍然是从上到下逐渐增多，基板在显影效果上仍然存在差异，造成整个基板显影程度 不同，从而导致显影后CD均勻度较差。
实用新型内容本实用新型提供一种显影装置，以实现提高基板的显影后⑶均勻度。本实用新型提供一种显影装置，包括在待显影的基板倾斜时喷淋稀释后的显影液的稀释显影液喷嘴，与所述基板的运 行方向平行，且与所述待显影的基板平行，位于所述待显影的基板倾斜时朝上的部分的上方。如上所述的显影装置还可包括在待显影的基板倾斜时喷淋水的水喷嘴，与所述 基板的运动方向平行，且与所述待显影的基板平行，位于所述待显影的基板倾斜时朝下的部分的上方。并且，进一步地，如上所述的显影装置还可包括控制所述稀释显影液喷嘴开 关的第一控制单元，所述第一控制单元与所述稀释显影液喷嘴相连。如上所述的显影装置还可包括控制所述水喷嘴开启且控制所述水喷嘴在所述稀 释显影液喷嘴关闭前关闭的第二控制单元，所述第二控制单元与所述水喷嘴相连。其中，所述稀释显影液喷嘴可与所述待显影的基板同宽。所述水喷嘴可与所述待 显影的基板同宽。所述稀释显影液喷嘴可为多个。本实用新型提供的显影装置，通过基板上方设置的稀释显影液喷嘴在基板倾斜时 喷淋稀释后的显影液，稀释后的显影液经过与基板上部分的反应进一步稀释，而不会加重 基板下一部分的显影，因而可使整个基板上的显影达到一个动态平衡，解决了现有技术中 显影装置显影后的基板CD均勻度差的问题，提高了基板显影后的CD均勻度。
图1为现有技术中显影装置的结构示意图及显影过程示意图；图2为本实用新型第一实施例提供的显影装置的结构示意图及显影过程示意图；图3为本实用新型第二实施例提供的显影装置的结构示意图及显影过程示意图。
具体实施方式
为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新 型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描 述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施 例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于 本实用新型保护的范围。本实用新型第一实施例如图2所示，显影装置包括显影液喷嘴2、稀释显影液喷嘴 4及第一控制单元(图中未示出)。稀释显影液喷嘴4在待显影的基板倾斜时喷淋稀释后 的显影液41，稀释后的显影液41浓度小于显影液喷嘴2喷淋的显影液21。稀释显影液喷嘴4与基板1的运行方向平行，且与待显影的基板1平行，并位于待 显影的基板1倾斜时朝上的部分的上方。第一控制单元与稀释显影液喷嘴4相连，用来控制稀释显影液喷嘴4的开关，使其 在待显影的基板1开始旋转时打开，喷淋稀释后的显影液41。所述第一控制单元可设置于 姿势变换单元中的控制设备中。其中，稀释显影液喷嘴4可与待显影的基板1同宽。使用第一实施例提供的显影装置显影时，水平时显影仅打开显影液喷嘴2喷淋显 影液21。当基板1开始姿势变换时，稀释显影液喷嘴4便开始喷淋稀释后的显影液41。这 样，在倾斜的过程中，整个基板1都在进行显影反应，并且喷淋的稀释后的显影液41经过与 基板1上部分的反应进一步稀释，而不会加重基板下一部分的显影，因而可使整个基板上 的显影达到一个动态平衡。直到基板1完全倾斜，喷淋结束，进入下一步水洗阶段，由循环 水喷嘴3喷淋循环水31清洗基板1上显影后残留的显影液。循环水31可为纯水。本实用新型第二实施例如图3所示，显影装置不仅包括第一实施例中的显影液喷 嘴2及稀释显影液喷嘴4，还包括水喷嘴5及第二控制单元(图中未示出)，用于在待显影的基板倾斜时喷淋纯水51，水喷嘴5与基板1的运行方向平行，且与待显影的基板1平行， 并位于待显影的基板1倾斜时朝下的部分的上方。第二控制单元与所述水喷嘴相连，用于控制水喷嘴5开启且控制水喷嘴5在稀释 显影液喷嘴4关闭前关闭，以保证上下基板显影均勻，又可以使流到玻璃基板下方的显影 液快速稀释，在最短时间内，使整个基板的显影反应处于一个平衡的状态。其中，水喷嘴5可与待显影的基板1同宽。使用第二实施例提供的显影装置时，基板1变换姿势的情况下，上面稀释显影液 喷嘴4开始喷淋稀释后的显影液41，同时下方水喷嘴5开始喷淋纯水51，基板1完全倾斜 时，下方水喷嘴5先停止喷淋，然后上方稀释显影液喷嘴4再停止喷淋，进入下一步水洗阶 段，可以在最短的时间内使整个基板上的显影反应处于一个平衡的状态。本实用新型通过在显影单元姿势变换部分设置一组可以在玻璃基板上方喷淋稀 释显影液的喷嘴(nozzle)或上方喷淋稀释显影液和下方喷淋纯水同时进行的两组喷嘴， 就可以解决一直以来由于受基板从水平到倾斜姿势变化，基板上下部的显影液分不不均， 以至玻璃基板显影后CD均勻度较差的问题。本实用新型上述实施例通过在显影姿势变换单元玻璃基板上方设置一个或一组 可以喷淋稀释显影液的喷嘴，或上方喷淋稀释显影液和下方喷淋纯水的两组喷嘴，实现了 在最短时间内使整个基板上显影液分布相对均勻，提高了显影后CD均勻度。相对于现有技 术，本实用新型上述实施例提供了两种在显影姿势变换单元提高玻璃基板面内显影均勻的 方法，优化了姿势变换状态时显影液的分布，解决了现有技术中基板在显影后CD均勻度差 的问题。最后应说明的是以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制； 尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解 其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等 同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术 方案的精神和范围。
权利要求1.一种显影装置，其特征在于，包括在待显影的基板倾斜时喷淋稀释后的显影液的稀释显影液喷嘴，与所述基板的运行方 向平行，且与所述待显影的基板平行，位于所述待显影的基板倾斜时朝上的部分的上方。
2.根据权利要求1所述的显影装置，其特征在于，还包括在待显影的基板倾斜时喷淋水的水喷嘴，与所述基板的运动方向平行，且与所述待显 影的基板平行，位于所述待显影的基板倾斜时朝下的部分的上方。
3.根据权利要求1或2所述的显影装置，其特征在于，还包括控制所述稀释显影液喷 嘴开关的第一控制单元，所述第一控制单元与所述稀释显影液喷嘴相连。
4.根据权利要求2所述的显影装置，其特征在于，还包括控制所述水喷嘴开启且控制 所述水喷嘴在所述稀释显影液喷嘴关闭前关闭的第二控制单元，所述第二控制单元与所述 水喷嘴相连。
5.根据权利要求1或2所述的显影装置，其特征在于，所述稀释显影液喷嘴与所述待显 影的基板同宽。
6.根据权利要求2所述的显影装置，其特征在于，所述水喷嘴与所述待显影的基板同觅ο
7.根据权利要求1或2所述的显影装置，其特征在于，所述稀释显影液喷嘴为多个。
专利摘要本实用新型公开了一种显影装置，包括在待显影的基板倾斜时喷淋稀释后的显影液的稀释显影液喷嘴，与所述基板的运行方向平行，且与所述待显影的基板平行，位于所述待显影的基板倾斜时朝上的部分的上方。通过基板上方设置的稀释显影液喷嘴在基板倾斜时喷淋稀释后的显影液，稀释后的显影液经过与基板上部分的反应进一步稀释，而不会加重基板下一部分的显影，因而可使整个基板上的显影达到一个动态平衡，解决了现有技术中显影装置显影后的基板CD均匀度差的问题，提高了基板显影后的CD均匀度。
文档编号G03F7/30GK201828770SQ20102056801
公开日2011年5月11日 申请日期2010年10月13日 优先权日2010年10月13日
发明者占伟, 孙亮, 孟春霞, 林承武, 秦颖 申请人:京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方显示技术有限公司