一种新型的光刻胶剥离液及其应用工艺的制作方法与工艺

技术特征：
1.一种光刻胶剥离液，所述光刻胶剥离液由总溶剂、有机溶剂、解交联催化剂和防腐蚀保护剂组成；所述总溶剂为二甲基亚砜；所述解交联催化剂是有机二元酸，所述有机二元酸是乙二酸、丙二酸、对苯二酸中的至少一种，所述解交联催化剂占光刻胶剥离液总重量的4～6%。2.根据权利要求1所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述总溶剂的重量百分比为68～78%。3.根据权利要求1所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述有机溶剂是苯酚类树脂的良溶剂。4.根据权利要求3所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述有机溶剂是酮类、多元醇及其衍生物、环醚类、酯类、酰胺类中的一种或一种以上的混合液。5.根据权利要求4所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述酮类是丙酮、甲基乙基酮、环己酮、甲基异戊基酮、2-庚酮中的至少一种或一种以上的混合液。6.根据权利要求4所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述多元醇及其衍生物是1,2-亚乙基二醇、二甘醇、丙二醇、乙二醇单乙醚、丙二醇单甲醚、二甘醇单乙醚、乙二醇单乙醚乙酸酯，丙二醇单甲醚乙酸酯中的一种或一种以上的混合液。7.根据权利要求4所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述环醚类是四氢呋喃、二恶烷中的一种或一种以上的混合液。8.根据权利要求4所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述酯类是乳酸甲酯、乳酸乙酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、甲氧基丙酸甲酯、乙氧基丙酸乙酯、γ-丁内酯中的一种或一种以上的混合液。9.根据权利要求4所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述酰胺类是二甲基甲酰胺、N－甲基乙酰胺、N－甲基吡咯烷酮中的一种或一种以上的混合液。10.根据权利要求3或4所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述有机溶剂占所述光刻胶剥离液总重量的20～30%。11.根据权利要求1所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述防腐蚀保护剂是具有两个及两个以上配位中心的材料，其与金属离子形成络合物。12.根据权利要求11所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述防腐蚀保护剂是乙酰基丙酮、2,2’－联吡啶、乙二胺四乙酸中的至少一种。13.根据权利要求11或12所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述防腐蚀保护剂占光刻胶剥离液总重量的0.05～2%。14.根据权利要求13所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述防腐蚀保护剂占光刻胶剥离液总重量的0.5～1.5%。15.一种光刻胶剥离液的应用工艺，其包括以下步骤：1）在形成于基片上的导电金属膜或绝缘膜上涂覆光刻胶；2）经过干燥、曝光的步骤，在该基片上形成光刻胶图案；3）通过刻蚀、离子注入或金属沉积等工艺步骤将图形转移到没有光刻胶保护的基片上；4）将如权利要求1～14所述的光刻胶剥离液置于去胶槽中，加热到合适的温度之后并恒温；5）将待剥离光刻胶的基片在恒温的剥离液中浸泡后取出；6）用冲洗液冲洗基片并干燥，以彻底剥离光刻胶层；7）在显影镜或扫描电子显微镜（SEM）下观察基片表面，确认没有光刻胶残留；所述光刻胶剥离液包括解交联催化剂，所述解交联催化剂是有机二元酸，所述有机二元酸是乙二酸、丙二酸、对苯二酸中的至少一种，所述解交联催化剂占光刻胶剥离液总重量的4～6%。16.根据权利要求15所述的光刻胶剥离液的应用工艺，其特征在于，在步骤1中，基片是硅板。17.根据权利要求15所述的光刻胶剥离液的应用工艺，其特征在于，在步骤1中，所述光刻胶涂布方式为辊涂、刮涂、旋转涂布中的任意一种。18.根据权利要求15所述的光刻胶剥离液的应用工艺，其特征在于，在步骤4中，光刻胶剥离液被加热到50～70℃之后并恒温。19.根据权利要求15所述的光刻胶剥离液的应用工艺，其特征在于，在步骤4中，光刻胶剥离液被加热到50℃之后并恒温。20.根据权利要求15所述的光刻胶剥离液的应用工艺，其特征在于，在步骤4中，所述光刻胶剥离液被加热到70℃之后并恒温。21.根据权利要求15所述的光刻胶剥离液的应用工艺，其特征在于，在步骤5中，所述基片在所述恒温的剥离液中恒温5-40min。22.根据权利要求15所述的光刻胶剥离液的应用工艺，其特征在于，在步骤5中，所述基片在所述恒温的剥离液中恒温20-30min。23.根据权利要求15所述的光刻胶剥离液的应用工艺，其特征在于，在步骤5中，所述基片在所述恒温的剥离液中恒温30min。24.根据权利要求15所述的光刻胶剥离液的应用工艺，其特征在于，在步骤6中，在冲洗液冲洗之前将基片从剥离液中取出，放入有机溶剂中浸泡。25.根据权利要求24所述的光刻胶剥离液的应用工艺，其特征在于，所述的有机溶剂是与水相容的有机溶剂。26.根据权利要求25所述的光刻胶剥离液的应用工艺，其特征在于，所述的有机溶剂是异丙醇。27.根据权利要求24所述的光刻胶剥离液的应用工艺，其特征在于，基片在有机溶剂中浸泡5min。28.根据权利要求15所述的光刻胶剥离液的应用工艺，其特征在于，在步骤6中，冲洗液为去离子水。29.根据权利要求28所述的光刻胶剥离液的应用工艺，其特征在于，所述去离子水为电阻至少是18MΩ的去离子水。30.根据权利要求15所述的光刻胶剥离液的应用工艺，其特征在于，干燥方式为用氮气吹干或采用旋转的方式将基片甩干。