一种柔性导电膜图形化制造方法
【专利摘要】本发明涉及一种柔性导电膜图形化制造方法，其选用导电薄膜（2）即PI或PET等材料作为柔性衬底，价格低廉，质量轻便，柔韧性好，易弯曲；该方法中采用滚涂的方式在导电薄膜（2）上滚涂一层光刻胶（6），光刻胶（6）具有厚度薄、粘附力强的特点，大大提高了光刻分辨率，降低了柔性显示器生产工艺复杂性，提高了生产效率，降低了生产成本。
【专利说明】一种柔性导电膜图形化制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及柔性显示【技术领域】，具体而言，涉及一种柔性导电膜图形化制造方法。
【背景技术】
[0002]随着信息技术的飞速发展，显示技术在市场的重要地位越来越突出。随着传统的电视、电脑、便携式终端的显示领域日臻成熟。目前市场上应用的液晶显示器是以玻璃为基材制作而成。是在玻璃基板上先制作ΙΤ0(氧化铟锡)图形，再经过定向层印刷及定向处理、框胶印刷、喷粉、成盒、玻璃切割、灌注液晶、封口、偏光片贴附、检验等过程完成液晶显示器的制作。玻璃基板的液晶显示器制作工艺和技术已经比较成熟，但是由于采用玻璃基板，制成的成品无法弯曲，不易实现轻薄便携的要求，而且在受到冲击或撞击时容易破碎。
[0003]ΙΤ0导电玻璃是在钠钙基或硅硼基基片玻璃的基础上，利用溅射、蒸发等多种方法镀上一层氧化铟锡(ΙΤ0)膜加工制作而成的。液晶显示器专用ΙΤ0导电玻璃还要在镀ΙΤ0层之前，镀上一层二氧化硅阻挡层，以防止基片玻璃上的钠离子向盒内液晶里扩散。现有技术中高档液晶显示器专用Ι--玻璃在溅镀ΙΤ0层之前基片玻璃还要进行抛光处理，以得到均匀的显示控制，液晶显示器专用ΙΤ0玻璃基板一般属超浮法玻璃，所有的镀膜面为玻璃的浮法锡面，因此，最终的液晶显示器都会沿浮法方向规律地出现不平整波纹情况。
[0004]而目前柔性显示器的图形化方法采用柔性基板贴附感光毛细软片的方式，不易提高显示分辨率；增加了柔性显示器生产工艺复杂性，降低生产效率，增加生产成本。
[0005]例如申请号为200810172655.1的中国发明专利，其公开了一种超薄柔性液晶显示器及其制造方法，所述柔性液晶显示器包括:彼此相对设置的第1基板和第2基板，所述第1基板和第2基板通过环氧树脂粘结胶贴合在一起；设置在第1基板和第2基板的相对表面上刻有所需的第1电极和第2电极，所述第1电极和第2电极涂覆有定向膜；在所述第1基板和第2基板之间还设置有用于控制两基板的间隔的间隔球，本发明的液晶显示器具有厚度薄、可弯曲、耐压、不易碎、防震等优点，但是该制造方法较为复杂；另外，本发明在使用绒布对上下电极的定向膜进行摩擦，不易提高显示分辨率，增加了柔性显示器生产工艺复杂性。
[0006]又例如申请号为200910091255.2的中国发明专利，其公开了一种微结构薄膜图形和TFT-1XD阵列基板制造方法。微结构薄膜图形制造方法包括，在基板上形成一层薄膜；采用喷墨打印装置以设定的刻蚀图形在所述薄膜上喷射或滴下刻蚀剂；所述刻蚀剂对所述薄膜进行腐蚀；清洗所述刻蚀剂，在所述基板上形成薄膜图形。本发明不需要昂贵的设备投资，减少了交叉污染风险。但是，所选的材料为悬浮体胶质，最终的产品都会沿浮法方向规律地出现不平整波纹情况，另外制造出产品比较厚，在受到冲击或撞击时容易破碎。
【发明内容】
[0007]为了解决现有技术存在的上述技术缺陷，本发明的目的在于提供一种柔性导电膜图形化制造方法，选用导电薄膜即PI或PET等材料作为柔性衬底，价格低廉，质量轻便，柔韧性好，易弯曲；该方法中采用滚涂的方式在导电薄膜上滚涂一层光刻胶，光刻胶具有厚度薄、粘附力强的特点，大大提高了光刻分辨率，降低了柔性显示器生产工艺复杂性，提高了生产效率，降低了生产成本。
[0008]按照本发明的柔性导电膜图形化制造方法，包括清洗、曝光、显影、蚀刻和脱膜工序，具体步骤如下:
第一步，选取一透明导电薄膜，将其贴附在一刚性基板上形成复合基板；
第二步，对上述复合基板进行清洗；
第三步，在清洗过后的复合基板表面涂布一层光刻胶；
第四步，对涂有光刻胶层的复合基板进行预烘；
第五步，将上述预烘完成后的复合板送入曝光机中进行图形化曝光处理；
第六步，对上述曝光后的复合板进行显影、清洗处理；
第七步，对上述的复合板进行蚀刻、脱膜。
[0009]优选的是，在第三步骤中通过传动轴带动刚性基板移动。
[0010]在上述任一方案中优选的是，在第三步骤中刚性基本移动的过程中通过涂布轮与挤压轮相互挤压对复合板进行滚涂光刻胶。
[0011]在上述任一方案中优选的是，所述复合板涂布光刻胶的过程中涂布轮和挤压轮只是转动，并不发生移动。
[0012]在上述任一方案中优选的是，第三步骤中涂布方式为滚涂。
[0013]在上述任一方案中优选的是，所述刚性基板为玻璃或刚性塑料或刚性金属材料。
[0014]在上述任一方案中优选的是，所述光刻胶的粘度为20-60CP。
[0015]在上述任一方案中优选的是，所述步骤二中的复合基板的清洗环境为在0.5%的NaOH溶液中清洗2分钟，然后再放入12-18ΜΩ的去离子水中清洗5分钟。
[0016]在上述任一方案中优选的是，所述步骤四中涂有光刻胶层的复合基板的预烘环境为在温度为90-100°C下持续2分钟。
[0017]在上述任一方案中优选的是，所述步骤五中预烘完成后的复合板的曝光环境为在波长为365纳米的平行紫外光中进行曝光，其曝光量为50-100mj/cm2。
[0018]在上述任一方案中优选的是，所述步骤六中曝光后的复合板的显影环境为在0.5%的NaOH溶液中进行曝光，其曝光时间为90-120秒。
[0019]在上述任一方案中优选的是，所述步骤六中曝光后的复合板在显影后再在12-18ΜΩ的去离子水中清洗5分钟。
[0020]在上述任一方案中优选的是，所述步骤七中的复合板的蚀刻环境为在含18%的盐酸、3%的硝酸、温度为45°C的混合溶液中浸泡6分钟，然后再在12-18ΜΩ去离子水清洗3分钟。
[0021]在上述任一方案中优选的是，所述步骤七中的复合板蚀刻后先进行波长365纳米紫外光照射，曝光量为50-100mj/cm2，然后再放置在0.5%的NaOH溶液中浸泡2分钟，最后再使用12-18ΜΩ的去离子水清洗5分钟。
[0022]在上述任一方案中优选的是，所述光刻胶层的厚度为1-3微米。在满足粘附力较强的情况下本发明中的光刻胶层更薄，大大地提高了光刻分辨率。
[0023]在上述任一方案中优选的是，所述导电薄膜选用PET或PN或FRP或PES或PC材料。以上这些材料具有轻便、价廉、柔韧、易弯曲的特点，最终降低了成本，便于广泛应用。
[0024]在上述任一方案中优选的是，第五步骤中曝光采用接近式曝光。
[0025]本发明的另一方面是提供一种柔性导电膜图形化制造的装置，其包括导电薄膜、刚性基板，导电薄膜铺设在刚性基板上。
[0026]在上述任一方案中优选的是，所述刚性基板的下面设有传动轴，刚性基板在传动轴的带动下向前移动。
[0027]在上述任一方案中优选的是，在基板的上方进行光刻胶的滴附，光刻胶在滴入刚性基板之前滴落到涂布轮上。
[0028]在上述任一方案中优选的是，所述涂布轮与挤压轮接触，在导电膜图形化制造的过程中，通过涂布轮与挤压轮相互挤压对复合板进行滚涂光刻胶形成光刻胶层。采用涂布轮与挤压轮的挤压方式使光刻胶层的厚度更薄，而且光刻胶层的厚度均匀，不会发生厚度薄厚不勻的情况。
[0029]在上述任一方案中优选的是，所述复合板涂布光刻胶的过程中涂布轮和挤压轮只是转动，并不发生移动。在滚涂过程中，涂布轮和挤压轮的转动过程中将上方滴下的光刻胶加压成厚度均匀的光刻胶层，光刻胶层最终均匀地铺设在刚性基板上。
[0030]在上述任一方案中优选的是，所述第三步骤中涂布方式为滚涂。采用滚涂的方式涂布的光刻胶层厚度薄、粘附力强，大大提高了光刻分辨率，降低了柔性显示器生产工艺复杂性,增加生产效率,降低生产成本。
[0031]在上述任一方案中优选的是，所述刚性基板为玻璃或刚性塑料或刚性金属材料。为了保证光刻胶层铺设的平整性和厚度的均匀性，故选用表面光滑的玻璃或刚性塑料或刚性金属材料。
[0032]在本实施例中，所述光刻胶的粘度为20-60CP。在本实施例中那个光刻胶的型号为AZREP-230K2，当然在满足具有足够的粘附力的条件下可以根据需要选用其它型号的光刻胶。
[0033]综上所述，本发明的特点是:选用导电薄膜选用PET或PN或FRP或PES或PC材料等材料作为柔性衬底，价格低廉，质量轻便，柔韧性好，易弯曲；该方法中采用滚涂的方式在导电薄膜上滚涂一层光刻胶，光刻胶具有厚度薄、粘附力强的特点；在滚涂过程中，涂布轮和挤压轮的转动过程中将上方滴下的光刻胶加压成厚度均匀的光刻胶层，光刻胶层最终均匀地铺设在刚性基板上，保证了光刻胶层的厚度均匀。
【专利附图】
【附图说明】
[0034]图1为按照本发明的柔性导电膜图形化制造方法的一优选实施例的结构示意图。
[0035]附图中标号:
刚性基板1，导电薄膜2，光刻胶层3，涂布轮4，挤压轮5，光刻胶6，传动轴7。
【具体实施方式】
[0036]以下的说明本质上仅仅是示例性的而并不是为了限制本公开、应用或用途。下面结合说明书附图对本发明柔性导电膜图形化制造方法的【具体实施方式】作进一步的说明。
[0037]参阅图1所示，按照本发明的柔性导电膜图形化制造方法的一优选实施例的结构示意图。按照本发明的柔性导电膜图形化制造方法，包括清洗、曝光、显影、蚀刻和脱膜工序，其特征在于具体包括如下步骤:
第一步，选取一透明导电薄膜2，将其贴附在一刚性基板1上形成复合基板；
第二步，对上述复合基板进行清洗；
第三步，在清洗过后的复合基板表面涂布一层光刻胶6 ;
第四步，对涂有光刻胶层3的复合基板进行预烘；
第五步，将上述预烘完成后的复合板送入曝光机中进行图形化曝光处理；
第六步，对上述曝光后的复合板进行显影、清洗处理；
第七步，对上述的复合板进行蚀刻、脱膜。
[0038]在本实施例中，本发明的方法中采用滚涂的方式在导电薄膜2上滚涂一层光刻胶层3，光刻胶层3具有厚度薄、粘附力强的特点，大大提高了光刻分辨率，降低了柔性显示器生产工艺复杂性，提高了生产效率，降低了生产成本。
[0039]在本实施例中，在第三步骤中通过传动轴7带动刚性基板1移动，刚性基板1按照图1所示的方向移动。传动轴7位于刚性基板1的底部，传递轴7转动过程中带动铺设了光刻胶层3的刚性基板1向右运行。为了使刚性基板1在传动轴7的带动下匀速、顺利的移动，可以将刚性基板1的底面进行压纹处理等粗糙处理，以增加刚性基板1的粗糙度?’另夕卜，也可以在传动轴7的外曲面上进行压纹等粗糙处理。当然在保证刚性基板1水平均匀移动的前题下，也可以在刚性基板1和传动轴7的表面均进行粗糙处理，以增加刚性基板1与传动轴7的粗糙性，进而保证了刚性基板1在传动轴7的带动下匀速地移动。
[0040]在本实施例中，在第三步骤中刚性基本1移动的过程中通过涂布轮4与挤压轮5相互挤压对复合板进行滚涂光刻胶6。采用涂布轮4与挤压轮5的挤压方式使光刻胶层3的厚度更薄，而且光刻胶层3的厚度均匀，不会发生厚度薄厚不匀的情况。
[0041]在本实施例中，所述复合板涂布光刻胶6的过程中涂布轮4和挤压轮5只是转动，并不发生移动。在滚涂过程中，涂布轮4和挤压轮5的转动过程中将上方滴下的光刻胶6加压成厚度均匀的光刻胶层3，光刻胶层3最终均匀地铺设在刚性基板1上。
[0042]在本实施例中，第三步骤中涂布方式为滚涂。采用滚涂的方式涂布的光刻胶层厚度薄、粘附力强，大大提高了光刻分辨率，降低了柔性显示器生产工艺复杂性，增加生产效率，降低生产成本。
[0043]在本实施例中，所述刚性基板1为玻璃或刚性塑料或刚性金属材料。为了保证光刻胶层铺设的平整性和厚度的均匀性，故选用表面光滑的玻璃或刚性塑料或刚性金属材料。
[0044]在本实施例中，所述光刻胶6的粘度为20-60CP。在本实施例中那个光刻胶的型号为AZREP-230K2，当然在满足具有足够的粘附力的条件下可以根据需要选用其它型号的光刻胶。
[0045]在本实施例中，所述步骤二中的复合基板的清洗环境为在0.5%的NaOH溶液中清洗2分钟，然后再放入12ΜΩ的去离子水中清洗5分钟。
[0046]在本实施例中，所述步骤二中的复合基板的清洗环境为在0.5%的NaOH溶液中清洗2分钟，然后再放入14ΜΩ的去离子水中清洗5分钟。
[0047]在本实施例中，所述步骤二中的复合基板的清洗环境为在0.5%的NaOH溶液中清洗2分钟，然后再放入16ΜΩ的去离子水中清洗5分钟。
[0048]在本实施例中，所述步骤二中的复合基板的清洗环境为在0.5%的NaOH溶液中清洗2分钟，然后再放入18ΜΩ的去离子水中清洗5分钟。
[0049]在本实施例中，所述步骤四中涂有光刻胶层3的复合基板的预烘环境为在温度为90°C下持续2分钟。
[0050]在本实施例中，所述步骤四中涂有光刻胶层3的复合基板的预烘环境为在温度为95 °C下持续2分钟。
[0051]在本实施例中，所述步骤四中涂有光刻胶层3的复合基板的预烘环境为在温度为98 °C下持续2分钟。
[0052]在本实施例中，所述步骤四中涂有光刻胶层3的复合基板的预烘环境为在温度为100°C下持续2分钟。
[0053]在本实施例中，所述步骤五中预烘完成后的复合板的曝光环境为在波长为365纳米的平行紫外光中进行曝光，其曝光量为50mj/cm2。
[0054]在本实施例中，所述步骤五中预烘完成后的复合板的曝光环境为在波长为365纳米的平行紫外光中进行曝光，其曝光量为60mj/cm2。
[0055]在本实施例中，所述步骤五中预烘完成后的复合板的曝光环境为在波长为365纳米的平行紫外光中进行曝光，其曝光量为70mj/cm2。
[0056]在本实施例中，所述步骤五中预烘完成后的复合板的曝光环境为在波长为365纳米的平行紫外光中进行曝光，其曝光量为80mj/cm2。
[0057]在本实施例中，所述步骤五中预烘完成后的复合板的曝光环境为在波长为365纳米的平行紫外光中进行曝光，其曝光量为lOOmj/cm2。
[0058]在本实施例中，所述步骤六中曝光后的复合板的显影环境为在0.5%的NaOH溶液中进行曝光，其曝光时间为90秒。
[0059]在本实施例中，所述步骤六中曝光后的复合板的显影环境为在0.5%的NaOH溶液中进行曝光，其曝光时间为100秒。
[0060]在本实施例中，所述步骤六中曝光后的复合板的显影环境为在0.5%的NaOH溶液中进行曝光，其曝光时间为110秒。
[0061]在本实施例中，所述步骤六中曝光后的复合板的显影环境为在0.5%的NaOH溶液中进行曝光，其曝光时间为120秒。
[0062]在本实施例中，所述步骤七中的复合板的蚀刻环境为在含18%的盐酸、3%的硝酸、温度为45°C的混合溶液中浸泡6分钟，然后再在12-18ΜΩ去离子水清洗3分钟。使用去离子水进行清洗的目的是去除复合板在含18%的盐酸、3%的硝酸、温度为45°C的混合溶液中浸泡后表面会附着的阴离子。
[0063]在本实施例中，所述步骤七中的复合板蚀刻后先进行波长365纳米紫外光照射，曝光量为50mj/cm2，然后再放置在0.5%的NaOH溶液中浸泡2分钟，最后再使用12ΜΩ的去离子水清洗5分钟。
[0064]在本实施例中，所述步骤七中的复合板蚀刻后先进行波长365纳米紫外光照射，曝光量为60mj/cm2，然后再放置在0.5%的NaOH溶液中浸泡2分钟，最后再使用14ΜΩ的去离子水清洗5分钟。
[0065]在本实施例中，所述步骤七中的复合板蚀刻后先进行波长365纳米紫外光照射，曝光量为80mj/cm2，然后再放置在0.5%的NaOH溶液中浸泡2分钟，最后再使用16ΜΩ的去离子水清洗5分钟。
[0066]在本实施例中，所述步骤七中的复合板蚀刻后先进行波长365纳米紫外光照射，曝光量为100mj/cm2，然后再放置在0.5%的NaOH溶液中浸泡2分钟，最后再使用18ΜΩ的去离子水清洗5分钟。
[0067]在本实施例中，所述光刻胶层3的厚度为1-3微米。在满足粘附力较强的情况下本发明中的光刻胶层更薄，大大地提高了光刻分辨率。生产过程中可以通过调整挤压轮5与涂布轮4直接的距离来制造出不同厚度的光刻胶层3。
[0068]在本实施例中，所述导电薄膜2选用PET或PN或FRP或PES或PC材料。选用导电薄膜选用PET或PN或FRP或PES或PC材料等材料作为柔性衬底，具有价格低廉，质量轻便，柔韧性好，易弯曲，可以采用卷对卷工业化连续生产方式有利于提高效率、便于运输等优点。
[0069]另外，为了有效地提高柔性导电薄膜的各项性能，在基材上制作导电层之前，需先对基材做预处理。预处理方法与导电层的制备方法及工艺有着密切关系，如目前柔性透明氧化物导电膜对基材的预处理方法主要是在基材上沉积缓冲层，使其阻隔性提高，以利于导电层生长，从而降低导电薄膜的电阻率。上述的缓冲层选用A1203、Si02、Zn0、和PI等。
[0070]在本实施例中，第五步骤中曝光采用接近式曝光，可以避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤。
[0071]本发明的另一方面是提供一种柔性导电膜图形化制造的装置，其包括导电薄膜2、刚性基板1，导电薄膜2铺设在刚性基板1上。所述刚性基板1的下面设有传动轴7，刚性基板1在传动轴7的带动下向前移动。在基板1的上方进行光刻胶6的滴附，光刻胶6在滴入刚性基板1之前滴落到涂布轮4上。所述涂布轮4与挤压轮5接触，在导电膜图形化制造的过程中，通过涂布轮4与挤压轮5相互挤压对复合板进行滚涂光刻胶6形成光刻胶层3。采用涂布轮4与挤压轮5的挤压方式使光刻胶层3的厚度更薄，而且光刻胶层3的厚度均匀，不会发生厚度薄厚不匀的情况。
[0072]在本实施例中，所述复合板涂布光刻胶6的过程中涂布轮4和挤压轮5只是转动，并不发生移动。在滚涂过程中，涂布轮4和挤压轮5的转动过程中将上方滴下的光刻胶6加压成厚度均匀的光刻胶层3，光刻胶层3最终均匀地铺设在刚性基板1上。
[0073]在本实施例中，第三步骤中涂布方式为滚涂。采用滚涂的方式涂布的光刻胶层厚度薄、粘附力强，大大提高了光刻分辨率，降低了柔性显示器生产工艺复杂性，增加生产效率，降低生产成本。
[0074]在本实施例中，所述刚性基板1为玻璃或刚性塑料或刚性金属材料。为了保证光刻胶层铺设的平整性和厚度的均匀性，故选用表面光滑的玻璃或刚性塑料或刚性金属材料，所述刚性基板1具有一个表面光滑即可，用于粘贴导电薄膜1。
[0075]在本实施例中，所述光刻胶6的粘度为20-60CP。在本实施例中那个光刻胶的型号为AZREP-230K2，当然在满足具有足够的粘附力的条件下，可以根据需要选用其它型号的光刻胶。
[0076]在本实施例中，所述光刻胶层3的厚度为1-3微米。在满足粘附力较强的情况下本发明中的光刻胶层更薄，能够使光刻胶层3的光刻分辨率更高。
[0077]在本实施例中，所述导电薄膜2选用PET或PN或FRP或PES或PC材料。选用导电薄膜选用PET或PN或FRP或PES或PC材料等材料作为柔性衬底，具有价格低廉，质量轻便，柔韧性好，易弯曲，可以采用卷对卷工业化连续生产方式有利于提高效率、便于运输等优点。
[0078]综上所述，本发明的特点是:所述导电薄膜2选用PET或PN或FRP或PES或PC材料等材料作为柔性衬底，价格低廉，质量轻便，柔韧性好，易弯曲；该方法中采用滚涂的方式在导电薄膜2上滚涂一层光刻胶6，光刻胶具有厚度薄、粘附力强的特点；在滚涂过程中，涂布轮4和挤压轮5的转动过程中将上方滴下的光刻胶6加压成厚度均匀的光刻胶层3，光刻胶层3最终均匀地铺设在刚性基板1上，保证了光刻胶层3的厚度均匀。
[0079]本领域技术人员不难理解，本发明的柔性导电膜图形化制造方法包括本说明书中各部分的任意组合。限于篇幅且为了使说明书简明，在此没有将这些组合一一详细介绍，但看过本说明书后，由本说明书构成的各部分的任意组合构成的本发明的范围已经不言自明。
【权利要求】
1.一种柔性导电膜图形化制造方法，包括清洗、曝光、显影、蚀刻和脱膜工序，其特征在于具体包括如下步骤: 第一步，选取一透明导电薄膜(2)，将其贴附在一刚性基板(I)上形成复合基板； 第二步，对上述复合基板进行清洗； 第三步，在清洗过后的复合基板表面涂布一层光刻胶(6)； 第四步，对涂有光刻胶层(3)的复合基板进行预烘； 第五步，将上述预烘完成后的复合板送入曝光机中进行图形化曝光处理； 第六步，对上述曝光后的复合板进行显影、清洗处理； 第七步，对上述的复合板进行蚀刻、脱膜。
2.如权利要求1所述的柔性导电膜图形化制造方法，其特征在于:在第三步骤中，通过传动轴(7 )带动刚性基板(I)移动。
3.如权利要求1所述的柔性导电膜图形化制造方法，其特征在于:在第三步骤中，刚性基本(I)移动的过程中通过涂布轮(4)与挤压轮(5)相互挤压对复合板进行滚涂光刻胶(6)。
4.如权利要求1或3所述的柔性导电膜图形化制造方法，其特征在于:所述复合板涂布光刻胶(6)的过程中涂布轮(4)和挤压轮(5)只是转动，并不发生移动。
5.如权利要求1所述的柔性导电膜图形化制造方法，其特征在于:第三步骤中涂布方式为滚涂。
6.如权利要求1-3中任一项所述的柔性导电膜图形化制造方法，其特征在于:所述刚性基板(I)为玻璃或刚性塑料或刚性金属材料。
7.如权利要求1所述的柔性导电膜图形化制造方法，其特征在于:所述光刻胶(6)的粘度为 20-60CP。
8.如权利要求1所述的柔性导电膜图形化制造方法，其特征在于:所述步骤二中的复合基板的清洗环境为在0.5%的NaOH溶液中清洗2分钟，然后再放入12-18ΜΩ的去离子水中清洗5分钟。
9.如权利要求1所述的柔性导电膜图形化制造方法，其特征在于:所述步骤四中涂有光刻胶层(3)的复合基板的预烘环境为在温度为90-100°C下持续2分钟。
10.如权利要求1所述的柔性导电膜图形化制造方法，其特征在于:所述步骤五中预烘完成后的复合板的曝光环境为在波长为365纳米的平行紫外光中进行曝光，其曝光量为50-1OOmj/cm2。
【文档编号】G03F7/32GK104375382SQ201410124707
【公开日】2015年2月25日 申请日期:2014年3月31日 优先权日:2014年3月31日
【发明者】曹河文, 钟明贤, 李永岗, 李靖, 曹晨 申请人:中能柔性光电（滁州）有限公司