一种显示基板、其制作方法及显示装置制造方法
【专利摘要】本发明公开了一种显示基板、其制作方法及显示装置，包括：衬底基板，位于衬底基板上的黑矩阵层和彩膜层，以及位于黑矩阵层和彩膜层之上且正投影位于黑矩阵层所在区域的主隔垫物和辅隔垫物；由于在黑矩阵层和彩膜层中与辅隔垫物所对应区域的厚度之和小于与主隔垫物所对应区域的厚度之和，使得辅隔垫物的顶端到衬底基板的高度小于主隔垫物的顶端到衬底基板的高度，这样，通过调整主隔垫物正下方的黑矩阵层和彩膜层的厚度之和以及辅隔垫物正下方的黑矩阵层和彩膜层的厚度之和之间的差异，来改变主隔垫物的顶端到衬底基板的高度和辅隔垫物的顶端到衬底基板的高度之间的差异，从而可以使主隔垫物和辅隔垫物实现良好的缓冲外部压力的效果。
【专利说明】一种显示基板、其制作方法及显示装置
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示【技术领域】，尤其涉及一种显示基板、其制作方法及显示装置。
【背景技术】
[0002]随着显示技术的不断发展，发光二极管(Light Emitting D1de, LED)、有机发光二极管(Organic Light Emitting D1de, OLED)、等离子显不器(Plasma DisplayPanel, PDP)及液晶显示器(Liquid Crystal Display, LCD)等平板显示器发展迅速。
[0003]以液晶显示器为例，包括相对而置的彩膜基板和阵列基板，以及位于两基板之间的液晶层。如图1a和图1b所示(图1b为图1a沿AA方向的截面图)，液晶显示器中的彩膜基板包括:衬底基板101，以及位于衬底基板101上的黑矩阵层102、彩膜层103、主隔垫物104和辅隔垫物105 ;其中，彩膜层103位于黑矩阵层102的间隙处，主隔垫物104和辅隔垫物105都位于黑矩阵层102的上方，主隔垫物104和辅隔垫物105的底部到衬底基板101的距离相同，为黑矩阵层102的厚度；或者，彩膜基板还可以为如图1c所示的结构，彩膜层103整面设置于黑矩阵层102的上方，主隔垫物104和辅隔垫物105都位于彩膜层103的上方，主隔垫物104和辅隔垫物105的底部到衬底基板101的厚度相同，为彩膜层103和黑矩阵层102的厚度之和。
[0004]在上述两种结构的彩膜基板中，主隔垫物和辅隔垫物位于同一水平面上，即主隔垫物和辅隔垫物的底部到衬底基板的距离相等。在液晶显示器受到外力按压时，为了使主隔垫物和辅隔垫物起到缓冲外部压力的作用，需要主隔垫物和辅隔垫物之间具有一定的高度差，即主隔垫物的高度大于辅隔垫物的高度，主隔垫物和辅隔垫物之间的高度差可以使液晶显示器具有一定的形变量，从而可以达到缓冲外部压力的目的。
[0005]现有的主隔垫物和辅隔垫物是利用同一张掩膜板采用一次构图工艺同时形成的。为了使主隔垫物和辅隔垫物之间存在高度差，一般将掩膜板中用于形成辅隔垫物的区域的面积设计为小于用于形成主隔垫物的区域的面积，即形成的辅隔垫物在衬底基板上的投影面积小于主隔垫物在衬底基板上的投影面积(如图1a所示)，以使辅隔垫物的高度小于主隔垫物的高度。然而，由于掩膜板中用于形成辅隔垫物的区域的面积较小，会导致形成的辅隔垫物的高度均匀性较差，从而会影响主隔垫物和辅隔垫物缓冲外部压力的效果。
[0006]因此，如何使主隔垫物和辅隔垫物实现良好的缓冲外部压力的效果，是本领域技术人员亟需解决的技术问题。
【发明内容】
[0007]有鉴于此，本发明实施例提供了一种显示基板、其制作方法及显示装置，用以使辅隔垫物缓冲外部压力的效果较佳。
[0008]因此，本发明实施例提供了一种显示基板，包括:衬底基板，位于所述衬底基板上的黑矩阵层和彩膜层，以及位于所述黑矩阵层和彩膜层之上且正投影位于所述黑矩阵层所在区域的主隔垫物和辅隔垫物；
[0009]在所述黑矩阵层和彩膜层中与所述辅隔垫物所对应区域的厚度之和小于与所述主隔垫物所对应区域的厚度之和，以使所述辅隔垫物的顶端到所述衬底基板的高度小于所述主隔垫物的顶端到所述衬底基板的高度。
[0010]在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示基板中，所述彩膜层与所述辅隔垫物的对应区域的厚度小于与所述主隔垫物的对应区域的厚度。
[0011]在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示基板中，所述彩膜层与所述辅隔垫物的对应区域的厚度为零。
[0012]在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示基板中，所述黑矩阵层与所述辅隔垫物的对应区域的厚度小于或等于与所述主隔垫物的对应区域的厚度。
[0013]在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示基板中，所述彩膜层与所述辅隔垫物的对应区域的厚度等于与所述主隔垫物的对应区域的厚度；
[0014]所述黑矩阵层与所述辅隔垫物的对应区域的厚度小于与所述主隔垫物的对应区域的厚度。
[0015]在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述显示基板中，所述辅隔垫物的高度小于或等于所述主隔垫物的高度。
[0016]本发明实施例还提供了一种显示基板的制作方法，包括:
[0017]在衬底基板上形成包括黑矩阵层和彩膜层的图形；
[0018]在形成有黑矩阵层和彩膜层的图形的衬底基板上形成包括主隔垫物和辅隔垫物的图形；其中，所述主隔垫物和辅隔垫物在所述衬底基板的正投影位于所述黑矩阵层所在区域，在所述黑矩阵层和彩膜层中与所述辅隔垫物所对应区域的厚度之和小于与所述主隔垫物所对应区域的厚度之和，以使所述辅隔垫物的顶端到所述衬底基板的高度小于所述主隔垫物的顶端到所述衬底基板的高度。
[0019]在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述制作方法中，所述在衬底基板上形成包括彩膜层的图形，具体包括:
[0020]在衬底基板上形成彩膜层薄膜；
[0021]对所述彩膜层薄膜进行构图工艺形成包括彩膜层的图形；其中，所述彩膜层与将要形成的所述辅隔垫物的对应区域的厚度小于与将要形成的所述主隔垫物的对应区域的厚度。
[0022]在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述制作方法中，所述形成的包括彩膜层的图形中与将要形成的所述辅隔垫物的对应区域的厚度为零。
[0023]在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述制作方法中，所述在衬底基板上形成包括黑矩阵层的图形，具体包括:
[0024]在衬底基板上形成黑矩阵层薄膜；
[0025]对所述黑矩阵层薄膜进行构图工艺形成包括黑矩阵层的图形；其中，所述黑矩阵层与将要形成的所述辅隔垫物的对应区域的厚度小于或等于与将要形成的所述主隔垫物的对应区域的厚度。
[0026]在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述制作方法中，所述在衬底基板上形成包括黑矩阵层的图形，具体包括:
[0027]在衬底基板上形成黑矩阵层薄膜；
[0028]对所述黑矩阵层薄膜进行构图工艺形成包括黑矩阵层的图形；其中，所述黑矩阵层与将要形成的所述辅隔垫物的对应区域的厚度小于与将要形成的所述主隔垫物的对应区域的厚度；
[0029]所述在衬底基板上形成包括彩膜层的图形，具体包括:
[0030]在衬底基板上形成彩膜层薄膜；
[0031]对所述彩膜层薄膜进行构图工艺形成包括彩膜层的图形；其中，所述彩膜层与将要形成的所述辅隔垫物的对应区域的厚度等于与将要形成的所述主隔垫物的对应区域的厚度。
[0032]在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述制作方法中，所述在形成有黑矩阵层和彩膜层的图形的衬底基板上形成包括主隔垫物和辅隔垫物的图形，具体包括:
[0033]采用一次构图工艺形成包括主隔垫物和辅隔垫物的图形；其中，所述辅隔垫物的高度小于或等于所述主隔垫物的高度。
[0034]本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述显示基板。
[0035]本发明实施例提供的上述显示基板、其制作方法及显示装置，由于在黑矩阵层和彩膜层中与辅隔垫物所对应区域的厚度之和小于与主隔垫物的对应区域的厚度之和，使得辅隔垫物的顶端到衬底基板的高度小于主隔垫物的顶端到衬底基板的高度，这样，通过调整主隔垫物正下方的黑矩阵层和彩膜层的厚度之和以及辅隔垫物正下方的黑矩阵层和彩膜层的厚度之和之间的差异，来改变主隔垫物的顶端到衬底基板的高度和辅隔垫物的顶端到衬底基板的高度之间的差异，从而可以使主隔垫物和辅隔垫物实现良好的缓冲外部压力的效果。
【专利附图】
【附图说明】
[0036]图1a为现有的液晶显示器中彩膜基板的俯视图；
[0037]图1b为图1a沿AA方向的截面图；
[0038]图1c为现有的液晶显示器中彩膜基板的结构示意图；
[0039]图2a_图2d分别为本发明实施例提供的显示基板的结构示意图；
[0040]图3为本发明实施例提供的显示基板的制作方法的流程图；
[0041]图4a_图4e分别为本发明实例一中显示基板的制作方法中各步骤执行后的结构示意图；
[0042]图5a_图5e分别为本发明实例二中显示基板的制作方法中各步骤执行后的结构示意图。
【具体实施方式】
[0043]下面结合附图，对本发明实施例提供的显示基板、其制作方法及显示装置的【具体实施方式】进行详细地说明。
[0044]附图中各膜层的形状和厚度不反映其真实比例，目的只是示意说明本
【发明内容】
。
[0045]本发明实施例提供的一种显示基板，如图2a-图2d所示，包括:衬底基板1，位于衬底基板I上的黑矩阵层2和彩膜层3，以及位于黑矩阵层2和彩膜层3之上且正投影位于黑矩阵层2所在区域的主隔垫物4和辅隔垫物5 ；
[0046]在黑矩阵层2和彩膜层3中与辅隔垫物5所对应区域的厚度之和OiJh2)小于与主隔垫物4所对应区域的厚度之和(h3+h4)，以使辅隔垫物5的顶端到衬底基板I的高度小于主隔塾物4的顶端到衬底基板I的闻度。
[0047]本发明实施例提供的上述显示基板，由于在黑矩阵层2和彩膜层3中与辅隔垫物5所对应区域的厚度之和OiJh2)小于与主隔垫物4所对应区域的厚度之和(h3+h4)，使得辅隔垫物5的顶端到衬底基板I的高度小于主隔垫物4的顶端到衬底基板I的高度，这样，通过调整主隔垫物4正下方的黑矩阵层2和彩膜层3的厚度之和(h3+h4)以及辅隔垫物5正下方的黑矩阵层2和彩膜层3的厚度之和(hi+tg之间的差异，来改变主隔垫物4的顶端到衬底基板I的高度和辅隔垫物5的顶端到衬底基板I的高度之间的差异，从而可以使主隔垫物4和辅隔垫物5实现良好的缓冲外部压力的效果。
[0048]在具体实施时，本发明实施例提供的上述显示基板具体可以为LCD中的彩膜基板；或者，也可以为LCD中的阵列基板；或者，还可以为OLED中的阵列基板，在此不做限定。下面以本发明实施例提供的上述显示基板为LCD中的彩膜基板为例进行说明。
[0049]并且，在本发明实施例提供的上述显示基板中，如图2a_图2d所示，可以将黑矩阵层2设置于彩膜层3与衬底基板I之间；或者，也可以将彩膜层3设置于黑矩阵层2与衬底基板I之间，在此不作限定。下面以黑矩阵层2位于彩膜层3与衬底基板I之间为例进行说明。
[0050]在具体实施时，在本发明实施例提供的上述显示基板中，如图2a所示，彩膜层3与辅隔垫物5的对应区域的厚度h2小于与主隔垫物4的对应区域的厚度h4，以使在黑矩阵层2和彩膜层3中与辅隔垫物5所对应区域的厚度之和(hAtg小于与主隔垫物4所对应区域的厚度之和(h3+h4)，从而使得辅隔垫物5的顶端到衬底基板I的高度小于主隔垫物4的顶端到衬底基板I的高度，进而可以使主隔垫物4和辅隔垫物5实现良好的缓冲外部压力的效果。
[0051]进一步地，在本发明实施例提供的上述显示基板中，如图2b所示，可以将彩膜层3与辅隔垫物5的对应区域的厚度h2设置为零，这样，与如图2a所示结构的显示基板相比，主隔垫物4的顶端到衬底基板I的高度与辅隔垫物5的顶端到衬底基板I的高度之间差异较大，可以使具有如图2b所示结构的显示基板的液晶显示器在受到外力作用时允许发生的形变量较大。
[0052]在具体实施时，在本发明实施例提供的上述显示基板中，在彩膜层3与辅隔垫物5的对应区域的厚度h2小于与主隔垫物4的对应区域的厚度h4时，如图2a所示，可以将黑矩阵层2与辅隔垫物5的对应区域的厚度Ii1设置为等于与主隔垫物4的对应区域的厚度h3，即黑矩阵层2中各黑矩阵的厚度相等，这样可以简化对黑矩阵层2的制作工艺；或者，如图2c所示，也可以将黑矩阵层2与辅隔垫物5的对应区域的厚度Ii1设置为小于与主隔垫物4的对应区域的厚度h3，这样，可以进一步地增大主隔垫物4的顶端到衬底基板I的高度与辅隔垫物5的顶端到衬底基板I的高度之间的差异，从而可以进一步增大具有如图2c所示结构的显示基板的液晶显示器在受到外力作用时允许发生的形变量。
[0053]在具体实施时，在本发明实施例提供的上述显示基板中，如图2d所示，彩膜层3与辅隔垫物5的对应区域的厚度h2等于与主隔垫物4的对应区域的厚度h4，并且，黑矩阵层2与辅隔垫物5的对应区域的厚度Ii1小于与主隔垫物4的对应区域的厚度h3，这样，在黑矩阵层2和彩膜层3中与辅隔垫物5所对应区域的厚度之和(hAtg小于与主隔垫物4所对应区域的厚度(h3+h4)之和，可以使得辅隔垫物5的顶端到衬底基板I的高度小于主隔垫物4的顶端到衬底基板I的高度，从而可以使主隔垫物4和辅隔垫物5实现良好的缓冲外部压力的效果；并且，将彩膜层3与辅隔垫物5的对应区域的厚度h2设置为等于与主隔垫物4的对应区域的厚度h4，还可以简化对彩膜层3的制作工艺。
[0054]在具体实施时，在本发明实施例提供的上述显示基板中，如图2a和图2b所示，辅隔垫物5的高度等于主隔垫物4的高度，即辅隔垫物5在衬底基板I的投影面积等于主隔垫物4在衬底基板I的投影面积，这样，可以使辅隔垫物5具有良好的高度均匀性，从而可以使主隔垫物4和辅隔垫物5缓冲外部压力的效果更佳；或者，如图2c和图2d所示，也可以将辅隔垫物5的高度设置为小于主隔垫物4的高度，即略微减小辅隔垫物5在衬底基板I的投影面积，这样，在保证辅隔垫物5的高度均匀性的前提下，可以进一步增大主隔垫物4的顶端到衬底基板I的高度与辅隔垫物5的顶端到衬底基板I的高度之间的差异，从而进一步增大液晶显示器在受到外力作用时允许发生的形变量。
[0055]需要说明的是，本发明实施例提供的上述显示基板在具体实施时，需要根据液晶显示器允许发生的形变量，适当调整主隔垫物正下方的黑矩阵层和彩膜层的厚度、辅隔垫物正下方的黑矩阵层和彩膜层的厚度以及主隔垫物和辅隔垫物的高度，以使主隔垫物的顶部到衬底基板的高度与辅隔垫物的顶部到衬底基板的高度之间具有合适的差异，从而使主隔垫物和辅隔垫物起到良好的缓冲外部压力的作用。
[0056]基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示基板的制作方法，如图3所示，包括:
[0057]S301、在衬底基板上形成包括黑矩阵层和彩膜层的图形；在具体实施时，黑矩阵层和彩膜层的形成没有先后顺序，在此不作限定；
[0058]S302、在形成有黑矩阵层和彩膜层的图形的衬底基板上形成包括主隔垫物和辅隔垫物的图形；其中，主隔垫物和辅隔垫物在衬底基板的正投影位于黑矩阵层所在区域，在黑矩阵层和彩膜层中与辅隔垫物所对应区域的厚度之和小于与主隔垫物所对应区域的厚度之和，以使辅隔垫物的顶端到衬底基板的高度小于主隔垫物的顶端到衬底基板的高度。
[0059]本发明实施例提供的上述显示基板的制作方法，由于在形成的黑矩阵层和彩膜层中与辅隔垫物所对应区域的厚度之和小于与主隔垫物所对应区域的厚度之和，使得辅隔垫物的顶端到衬底基板的高度小于主隔垫物的顶端到衬底基板的高度，这样，通过调整主隔垫物正下方的黑矩阵层和彩膜层的厚度之和以及辅隔垫物正下方的黑矩阵层和彩膜层的厚度之和之间的差异，来改变主隔垫物的顶端到衬底基板的高度和辅隔垫物的顶端到衬底基板的高度之间的差异，从而可以使主隔垫物和辅隔垫物实现良好的缓冲外部压力的效果O
[0060]在具体实施时，采用本发明实施例提供的上述方法制得的显示基板具体可以为LCD中的彩膜基板；或者，也可以为LCD中的阵列基板；或者，还可以为OLED中的阵列基板，在此不做限定。下面以采用本发明实施例提供的上述方法制得的显示基板为LCD中的彩膜基板为例进行说明。
[0061]在具体实施时，在本发明实施例提供的上述制作方法中的步骤S301在衬底基板上形成包括彩膜层的图形，具体可以通过以下方式实现:
[0062]首先，在衬底基板上形成彩膜层薄膜；
[0063]然后，对彩膜层薄膜进行构图工艺形成包括彩膜层的图形；其中，彩膜层与将要形成的辅隔垫物的对应区域的厚度小于与将要形成的主隔垫物的对应区域的厚度。这样，在形成的黑矩阵层和彩膜层中与辅隔垫物所对应区域的厚度之和小于与主隔垫物所对应区域的厚度之和，可以使得辅隔垫物的顶端到衬底基板的高度小于主隔垫物的顶端到衬底基板的高度，从而可以使主隔垫物和辅隔垫物实现良好的缓冲外部压力的效果。
[0064]进一步地，在本发明实施例提供的上述制作方法中，可以将形成的包括彩膜层的图形中与将要形成的辅隔垫物的对应区域的厚度设置为零。这样，主隔垫物的顶端到衬底基板的高度与辅隔垫物的顶端到衬底基板的高度之间差异较大，在采用上述方法制得的显示基板应用于液晶显示器时，可以使液晶显示器在受到外力作用时允许发生的形变量较大。
[0065]在具体实施时，在本发明实施例提供的上述制作方法中的步骤S301在衬底基板上形成包括黑矩阵层的图形，具体可以通过以下方式实现:
[0066]首先，在衬底基板上形成黑矩阵层薄膜；
[0067]然后，对黑矩阵层薄膜进行构图工艺形成包括黑矩阵层的图形；其中，黑矩阵层与将要形成的辅隔垫物的对应区域的厚度小于或等于与将要形成的主隔垫物的对应区域的厚度。这样，在黑矩阵层与将要形成的辅隔垫物的对应区域的厚度小于与将要形成的主隔垫物的对应区域的厚度时，可以进一步地增大主隔垫物的顶端到衬底基板的高度与辅隔垫物的顶端到衬底基板的高度之间的差异，从而可以进一步增大液晶显示器在受到外力作用时允许发生的形变量；在黑矩阵层与将要形成的辅隔垫物的对应区域的厚度等于与将要形成的主隔垫物的对应区域的厚度时，可以简化对黑矩阵层的制作工艺。
[0068]在具体实施时，在本发明实施例提供的上述制作方法中的步骤S301在衬底基板上形成包括黑矩阵层的图形，具体可以通过以下方式实现:
[0069]首先，在衬底基板上形成黑矩阵层薄膜；
[0070]然后，对黑矩阵层薄膜进行构图工艺形成包括黑矩阵层的图形；其中，黑矩阵层与将要形成的辅隔垫物的对应区域的厚度小于与将要形成的主隔垫物的对应区域的厚度；
[0071]在本发明实施例提供的上述制作方法中的步骤S301在衬底基板上形成包括彩膜层的图形，具体可以通过以下方式实现:
[0072]首先，在衬底基板上形成彩膜层薄膜；
[0073]然后，对彩膜层薄膜进行构图工艺形成包括彩膜层的图形；其中，彩膜层与将要形成的辅隔垫物的对应区域的厚度等于与将要形成的主隔垫物的对应区域的厚度。这样，在黑矩阵层和彩膜层中与辅隔垫物所对应区域的厚度之和小于与主隔垫物所对应区域的厚度之和，可以使得辅隔垫物的顶端到衬底基板的高度小于主隔垫物的顶端到衬底基板的高度，从而可以使主隔垫物和辅隔垫物实现良好的缓冲外部压力的效果；并且，彩膜层与将要形成的辅隔垫物的对应区域的厚度等于与将要形成的主隔垫物的对应区域的厚度，还可以简化对彩膜层的制作工艺。
[0074]在具体实施时，在本发明实施例提供的上述制作方法中的步骤S302在形成有黑矩阵层和彩膜层的图形的衬底基板上形成包括主隔垫物和辅隔垫物的图形，具体可以通过以下方式实现:采用一次构图工艺在形成有黑矩阵层和彩膜层的图形的衬底基板上形成包括主隔垫物和辅隔垫物的图形，其中，辅隔垫物的高度小于或等于主隔垫物的高度。具体地，在辅隔垫物的高度等于主隔垫物的高度时，辅隔垫物在衬底基板的投影面积等于主隔垫物在衬底基板的投影面积，这样，可以使辅隔垫物具有良好的高度均匀性，从而可以使主隔垫物和辅隔垫物缓冲外部压力的效果更佳；在辅隔垫物的高度小于主隔垫物的高度时，辅隔垫物在衬底基板的投影面积略小于主隔垫物在衬底基板的投影面积，这样，在保证辅隔垫物的高度均匀性的前提下，可以进一步增大主隔垫物的顶端到衬底基板的高度与辅隔垫物的顶端到衬底基板的高度之间的差异，从而进一步增大液晶显示器在受到外力作用时允许发生的形变量。
[0075]需要说明的是，本发明实施例提供的上述显示基板的制作方法在具体实施时，需要根据液晶显示器允许发生的形变量，适当调整主隔垫物正下方的黑矩阵层和彩膜层的厚度、辅隔垫物正下方的黑矩阵层和彩膜层的厚度以及主隔垫物和辅隔垫物的高度，以使主隔垫物的顶部到衬底基板的高度与辅隔垫物的顶部到衬底基板的高度之间具有合适的差异，从而使主隔垫物和辅隔垫物起到良好的缓冲外部压力的作用。
[0076]下面以两个具体的实例对本发明实施例提供的上述显示基板的制作方法的具体实施进行详细说明，其中，以显示基板中的彩膜层包括红色色阻R、绿色色阻G和蓝色色阻B为例进行说明。
[0077]实例一:如图2b所示结构的显示基板的制作方法，具体步骤如下:
[0078](I)、在衬底基板I上形成黑矩阵层2的图形，如图4a所示；其中，黑矩阵层2的图形的结构与现有的结构相同，在此不做赘述；
[0079](2)、在形成有黑矩阵层2的图形的衬底基板I上形成一层红色色阻薄膜，如图4b所示；
[0080](3)、对红色色阻薄膜进行构图工艺形成红色色阻R的图形，如图4c所示；其中，红色色阻R的图形与将要形成的辅隔垫物的对应区域的厚度为零；
[0081](4)、在形成有红色色阻R图形的衬底基板I上形成绿色色阻G的图形，如图4d所示；其中，绿色色阻G的图形与将要形成的辅隔垫物的对应区域的厚度为零；形成绿色色阻G的图形与形成红色色阻R的图形类似，在此不做赘述；
[0082](5)、在形成有绿色色阻G图形的衬底基板I上形成蓝色色阻B的图形，如图4e所示；其中，蓝色色阻B的图形与将要形成的辅隔垫物的对应区域的厚度为零；形成蓝色色阻B的图形与形成红色色阻R的图形类似，在此不做赘述；
[0083](6)、在形成有彩膜层3的图形的衬底基板I上形成主隔垫物4和辅隔垫物5的图形，如图2b所示。其中，主隔垫物4的高度等于辅隔垫物5的高度。
[0084]实例二:如图2d所示结构的显示基板的制作方法，具体步骤如下:
[0085](I)、在衬底基板I上形成黑矩阵层薄膜，如图5a所示；
[0086](2)、利用半色调掩膜板对黑矩阵层薄膜进行构图工艺，形成黑矩阵层2的图形，如图5b所示；其中，半色调掩膜板的完全透光区域对应于黑矩阵层2的图形与将要形成的主隔垫物的对应区域，部分透光区域对应于黑矩阵层2的图形与将要形成的辅隔垫物的对应区域，遮光区域对应于衬底基板上没有黑矩阵层2的图形的区域；
[0087](3)、在形成有黑矩阵层2的图形的衬底基板I上形成红色色阻R的图形，如图5c所示；其中，红色色阻R的图形的结构与现有的结构相同，在此不做赘述；
[0088](4)、在形成有红色色阻R的图形的衬底基板I上形成绿色色阻G的图形，如图5d所示；其中，绿色色阻G的图形的结构与现有的结构相同，在此不做赘述；
[0089](5)、在形成有绿色色阻G的图形的衬底基板I上形成蓝色色阻B的图形，如图5e所示；其中，蓝色色阻B的图形的结构与现有的结构相同，在此不做赘述；
[0090](6)、在形成有彩膜层3的图形的衬底基板I上形成主隔垫物4和辅隔垫物5的图形，如图2d所示。其中，主隔垫物4的高度等于辅隔垫物5的高度。
[0091]基于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述显示基板，该显示装置可以为:手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。该显示装置的实施可以参见上述显示基板的实施例，重复之处不再赘述。
[0092]本发明实施例提供的一种显示基板、其制作方法及显示装置，包括:衬底基板，位于衬底基板上的黑矩阵层和彩膜层，以及位于黑矩阵层和彩膜层之上且正投影位于黑矩阵层所在区域的主隔垫物和辅隔垫物；由于在黑矩阵层和彩膜层中与辅隔垫物所对应区域的厚度之和小于与主隔垫物所对应区域的厚度之和，使得辅隔垫物的顶端到衬底基板的高度小于主隔垫物的顶端到衬底基板的高度，这样，通过调整主隔垫物正下方的黑矩阵层和彩膜层的厚度之和以及辅隔垫物正下方的黑矩阵层和彩膜层的厚度之和之间的差异，来改变主隔垫物的顶端到衬底基板的高度和辅隔垫物的顶端到衬底基板的高度之间的差异，从而可以使主隔垫物和辅隔垫物实现良好的缓冲外部压力的效果。
[0093]显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
【权利要求】
1.一种显示基板，包括:衬底基板，位于所述衬底基板上的黑矩阵层和彩膜层，以及位于所述黑矩阵层和彩膜层之上且正投影位于所述黑矩阵层所在区域的主隔垫物和辅隔垫物；其特征在于: 在所述黑矩阵层和彩膜层中与所述辅隔垫物所对应区域的厚度之和小于与所述主隔垫物所对应区域的厚度之和，以使所述辅隔垫物的顶端到所述衬底基板的高度小于所述主隔垫物的顶端到所述衬底基板的高度。
2.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述彩膜层与所述辅隔垫物的对应区域的厚度小于与所述主隔垫物的对应区域的厚度。
3.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述彩膜层与所述辅隔垫物的对应区域的厚度为零。
4.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述黑矩阵层与所述辅隔垫物的对应区域的厚度小于或等于与所述主隔垫物的对应区域的厚度。
5.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述彩膜层与所述辅隔垫物的对应区域的厚度等于与所述主隔垫物的对应区域的厚度； 所述黑矩阵层与所述辅隔垫物的对应区域的厚度小于与所述主隔垫物的对应区域的厚度。
6.如权利要求1-5任一项所述的显示基板，其特征在于，所述辅隔垫物的高度小于或等于所述主隔垫物的高度。
7.—种显示基板的制作方法，其特征在于，包括: 在衬底基板上形成包括黑矩阵层和彩膜层的图形； 在形成有黑矩阵层和彩膜层的图形的衬底基板上形成包括主隔垫物和辅隔垫物的图形；其中，所述主隔垫物和辅隔垫物在所述衬底基板的正投影位于所述黑矩阵层所在区域，在所述黑矩阵层和彩膜层中与所述辅隔垫物所对应区域的厚度之和小于与所述主隔垫物所对应区域的厚度之和，以使所述辅隔垫物的顶端到所述衬底基板的高度小于所述主隔垫物的顶端到所述衬底基板的高度。
8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成包括彩膜层的图形，具体包括: 在衬底基板上形成彩膜层薄膜； 对所述彩膜层薄膜进行构图工艺形成包括彩膜层的图形；其中，所述彩膜层与将要形成的所述辅隔垫物的对应区域的厚度小于与将要形成的所述主隔垫物的对应区域的厚度。
9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述形成的包括彩膜层的图形中与将要形成的所述辅隔垫物的对应区域的厚度为零。
10.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成包括黑矩阵层的图形，具体包括: 在衬底基板上形成黑矩阵层薄膜； 对所述黑矩阵层薄膜进行构图工艺形成包括黑矩阵层的图形；其中，所述黑矩阵层与将要形成的所述辅隔垫物的对应区域的厚度小于或等于与将要形成的所述主隔垫物的对应区域的厚度。
11.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成包括黑矩阵层的图形，具体包括: 在衬底基板上形成黑矩阵层薄膜； 对所述黑矩阵层薄膜进行构图工艺形成包括黑矩阵层的图形；其中，所述黑矩阵层与将要形成的所述辅隔垫物的对应区域的厚度小于与将要形成的所述主隔垫物的对应区域的厚度； 所述在衬底基板上形成包括彩膜层的图形，具体包括: 在衬底基板上形成彩膜层薄膜； 对所述彩膜层薄膜进行构图工艺形成包括彩膜层的图形；其中，所述彩膜层与将要形成的所述辅隔垫物的对应区域的厚度等于与将要形成的所述主隔垫物的对应区域的厚度。
12.如权利要求7-11任一项所述的方法，其特征在于，所述在形成有黑矩阵层和彩膜层的图形的衬底基板上形成包括主隔垫物和辅隔垫物的图形，具体包括: 采用一次构图工艺形成包括主隔垫物和辅隔垫物的图形；其中，所述辅隔垫物的高度小于或等于所述主隔垫物的高度。
13.一种显示装置，其特征在于，包括:如权利要求1-6任一项所述的显示基板。
【文档编号】G02F1/1339GK104133325SQ201410318552
【公开日】2014年11月5日 申请日期:2014年7月4日 优先权日:2014年7月4日
【发明者】李宾, 陆相晚 申请人:合肥鑫晟光电科技有限公司, 京东方科技集团股份有限公司