一种摩擦设备及其进行摩擦取向的方法
【专利摘要】本发明涉及一种摩擦设备，包括：基板承载装置，包括相对设置的用于固定基板的第一基台和第二基台；设置于第一基台和第二基台之间的摩擦辊轮；第一控制装置，用于执行一控制操作，使得摩擦辊轮在转动的状态下和所述基板承载装置之间产生一相对平移，以对承载于所述第一基台和第二基台的基板进行摩擦取向操作。本发明还涉及一种使用所述摩擦设备进行摩擦取向的方法本发明的有益效果是：同时对两个基板进行摩擦取向操作，提高工作效率。
【专利说明】一种摩擦设备及其进行摩擦取向的方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及液晶显示制作【技术领域】，尤其涉及一种摩擦设备及其进行摩擦取向的方法。
【背景技术】
[0002]在显示行业面板生产摩擦工艺过程中，目前主流的摩擦设备，采用单机台水平运动，摩擦辊轮下压进行对玻璃基板的摩擦，达到对取向膜配向的效果。
[0003]由于摩擦辊轮的转速，基板的运动速度，摩擦布的各个参数等一系列因素的互相作用，摩擦取向操作会出现不均匀，这种不均匀会造成基板加电压后的整体亮度出现不均勻，由于这种亮度不均勻是由Rubbing工艺造成的,称之为摩擦缺陷(Rubbing Mura)。伴随传统摩擦工艺来说，Rubbing mura的持续发生，也是摩擦工艺的一道枷锁，目前，通过对工艺参数的优化，最直接降低Rubbing mura发生的方法只有通过不断的降低机台的水平方向运动速度，这其中，大大降低了该工艺的生产效率。
【发明内容】
[0004]为了解决上述技术问题，本发明提供一种摩擦设备及其进行摩擦取向的方法，提高生产效率。
[0005]为了达到上述目的，本发明采用的技术方案是:一种摩擦设备，包括:
[0006]基板承载装置，包括相对设置的用于固定基板的第一基台和第二基台；
[0007]设置于第一基台和第二基台之间的摩擦辊轮；
[0008]第一控制装置，用于执行一控制操作，使得摩擦辊轮在转动的状态下和所述基板承载装置之间产生一相对平移，以对承载于所述第一基台和第二基台的基板进行摩擦取向操作。
[0009]进一步的，所述第一控制装置包括:
[0010]第一驱动结构，设置于所述摩擦辊轮或基板承载装置；
[0011]第一控制模块，用于控制所述第一驱动结构，以在所述摩擦辊轮和基板承载装置之间产生相对平移运动。
[0012]进一步的，还包括第二控制装置，所述第二控制装置用于根据预设压入量控制所述第一基台和第二基台中的一个向所述第一基台和第二基台中的另一个移动调整所述第一基台与所述第二基台之间的距离。
[0013]进一步的，所述第二控制装置包括:
[0014]第二驱动结构，设置于基板承载装置；
[0015]第二控制模块，用于控制所述第二驱动结构，以调整所述第一基台与所述第二基台之间的距离。
[0016]进一步的，还包括用于支撑所述摩擦辊轮的支撑架。
[0017]进一步的，所述摩擦辊轮的外表面套设有摩擦布。
[0018]进一步的，所述第一基台和所述第二基台均通过真空吸附方式固定基板。
[0019]本发明还提供一种采用上述摩擦设备进行摩擦取向的方法，包括以下步骤:
[0020]在基板承载装置的第一基台和第二基台上分别固定基板；
[0021]执行一控制操作，使得摩擦辊轮在转动的状态下同时与所述第一基台和所述第二基台之间产生一相对平移，以对承载于所述第一基台和第二基台的基板进行摩擦取向操作。
[0022]本发明的有益效果是:同时对两个基板进行摩擦取向操作，提高工作效率。
【专利附图】
【附图说明】
[0023]图1表示本发明实施例摩擦设备结构示意图；
[0024]图2表示本发明实施例摩擦设备侧视图。
【具体实施方式】
[0025]以下结合附图对本发明的特征和原理进行详细说明，所举实施例仅用于解释本发明，并非以此限定本发明的保护范围。
[0026]如图1和图2所示，本实施例提供一种摩擦设备，包括:
[0027]基板承载装置，包括相对设置的用于固定基板4的第一基台I和第二基台2 ；
[0028]设置于第一基台I和第二基台2之间的摩擦辊轮3 ；
[0029]第一控制装置，用于执行一控制操作，使得摩擦辊轮3在转动的状态下和所述基板承载装置之间产生一相对平移，以对承载于所述第一基台I和第二基台2的基板4进行摩擦取向操作。
[0030]摩擦辊轮3设置于第一基台I和第二基台2之间，实现同时对两个基板进行摩擦取向操作，提高工作效率。
[0031]第一控制装置的结构形式可以有多种，可选的，所述第一控制装置包括:
[0032]第一驱动结构，设置于所述摩擦辊轮或基板承载装置；
[0033]第一控制模块，用于控制所述第一驱动结构，以在所述摩擦辊轮和基板承载装置之间产生相对平移运动。
[0034]第一驱动结构设置于所述摩擦辊轮上，在第一控制模块的控制下、驱动摩擦辊轮移动，使得摩擦辊轮和基板承载装置之间产生一相对平移，具体的是，摩擦辊轮3与第一基台I之间产生一相对平移，同时摩擦辊轮3与第二基台2之间产生一相对平移，实现摩擦辊轮3对第一基台I和第二基台2上的基板4同时进行摩擦取向操作的目的。
[0035]第一驱动结构也可以设置在所述基板承载装置上，具体的设置于所述第一基台I和所述第二基台2上，在第一控制模块的控制下、第一驱动结构驱动第一基台移动，使得第一基台I与所述摩擦辊轮3之间产生一相对平移，同时在第一控制模块的控制下、第一驱动结构驱动第二基台2移动，使得第二基台2与摩擦辊轮3之间产生一相对平移，实现摩擦辊轮3对第一基台I和第二基台2上的基板4同时进行摩擦取向操作的目的。
[0036]可选的，摩擦设备还包括第二控制装置，所述第二控制装置用于根据预设压入量控制所述第一基台I和第二基台2中的一个向所述第一基台I和第二基台2中的另一个移动调整所述第一基台I与所述第二基台2之间的距离。
[0037]通过控制第一基台和或第二基台的移动，以调整摩擦辊轮压入量，可以对不同压入量需求到的基板同时进行摩擦取向操作，提高生产效率。
[0038]进一步的，所述第二控制装置包括:
[0039]第二驱动结构，设置于基板承载装置；
[0040]第二控制模块，用于控制所述第二驱动结构，以调整所述第一基台I与所述第二基台2之间的距离。
[0041]摩擦辊轮3位于第一基台I和第二基台2之间，调整所述第一基台I和所述第二基台2之间的距离，即可实现调整摩擦辊轮3对基板4的压入量，所述第二驱动结构设置于基板承载装置，具体的，第二驱动结构可以同时设置于第一基台和第二基台，在第二控制模块的控制下，第二驱动结构驱动第一基台I向靠近第二基台2的方向移动，以调整所述第一基台I和所述第二基台2之间的距离；在第二控制模块的控制下，第二驱动模块驱动第二基台2向靠近第一基台I的方向移动，以调整所述第二基台2和所述第一基台I之间的距离，分别控制第一基台I和第二基台2的移动量，即使第一基台I和第二基台2上基板4具有不同的压入量，也可以同时对第一基台I和第二基台2上的基板4进行摩擦取向操作。
[0042]第二驱动结构为升降气缸5，第一基台I和第二基台2上分别设有升降气缸5
[0043]在另一实施例中，第二驱动结构设置于第一基台I和第二基台2中的一个、以及摩擦辊轮3上，例如第二驱动结构设置于第一基台I以及摩擦辊轮3上，在进行第一基台与第二基台之间的距离调整时，首先，在第二控制模块的控制下，第二驱动结构控制摩擦辊轮向靠近第二基台的方向移动，直到满足第二基台上的基板的压入量为止，然后在第二控制模块的控制下，第二驱动结构控制第一基台向靠近所述第二基台的方向移动，直到满足第一基台上的基板的压入量为止。
[0044]可选的，摩擦设备还包括用于支撑所述摩擦辊轮3的支撑架。
[0045]可选的，所述摩擦辊轮3的外表面套设有摩擦布。
[0046]可选的，所述第一基台I和所述第二基台2均通过真空吸附方式固定基板，基板固定于第一基台I和第二基台2上的方式并不限于真空吸附的方式。
[0047]本发明还提供一种采用上述摩擦设备进行摩擦取向的方法，包括以下步骤:
[0048]在基板承载装置的第一基台I和第二基台上分别固定基板；
[0049]执行一控制操作，使得摩擦辊轮3在转动的状态下同时与所述第一基台I和所述第二基台之间产生一相对平移，以对承载于所述第一基台I和第二基台的基板进行摩擦取向操作。
[0050]以下具体介绍本实施例中，摩擦设备的工作流程；
[0051]在第一基台I相对于第二基台的一面固定基板，并在第二基台相对于第一基台I的一面上固定基板；
[0052]将摩擦辊轮3的位置移动到摩擦取向操作的起始位置；
[0053]根据第一基台I上的基板的压入量控制第一基台I向第二基台的方向移动；
[0054]根据第二基台上的基板的压入量控制第二基台向第一基台I的方向移动；
[0055]摩擦辊轮3旋转，且第一基台I相对于摩擦辊轮3平移，同时第二基台相对于摩擦辊轮3平移，直至摩擦取向的操作结束。
[0056]以上为本发明较佳实施例，需要指出的是，对于本领域普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明保护范围。
【权利要求】
1.一种摩擦设备，其特征在于，包括: 基板承载装置，包括相对设置的用于固定基板的第一基台和第二基台； 设置于第一基台和第二基台之间的摩擦辊轮； 第一控制装置，用于执行一控制操作，使得摩擦辊轮在转动的状态下和所述基板承载装置之间产生一相对平移，以对承载于所述第一基台和第二基台的基板进行摩擦取向操作。
2.根据权利要求1所述的摩擦设备，其特征在于，所述第一控制装置包括: 第一驱动结构，设置于所述摩擦辊轮或基板承载装置； 第一控制模块，用于控制所述第一驱动结构，以在所述摩擦辊轮和基板承载装置之间产生相对平移运动。
3.根据权利要求2所述的摩擦设备，其特征在于，还包括第二控制装置，所述第二控制装置用于根据预设压入量控制所述第一基台和第二基台中的一个向所述第一基台和第二基台中的另一个移动调整所述第一基台与所述第二基台之间的距离。
4.根据权利要求3所述的摩擦设备，其特征在于，所述第二控制装置包括: 第二驱动结构，设置于基板承载装置； 第二控制模块，用于控制所述第二驱动结构，以调整所述第一基台与所述第二基台之间的距离。
5.根据权利要求2所述的摩擦设备，其特征在于，还包括用于支撑所述摩擦辊轮的支撑架。
6.根据权利要求2所述的摩擦设备，其特征在于，所述摩擦辊轮的外表面套设有摩擦布。
7.根据权利要求2所述的摩擦设备，其特征在于，所述第一基台和所述第二基台均通过真空吸附方式固定基板。
8.一种采用权利要求1-7任一项所述的摩擦设备进行摩擦取向的方法，其特征在于，包括以下步骤: 在基板承载装置的第一基台和第二基台上分别固定基板； 执行一控制操作，使得摩擦辊轮在转动的状态下同时与所述第一基台和所述第二基台之间产生一相对平移，以对承载于所述第一基台和第二基台的基板进行摩擦取向操作。
【文档编号】G02F1/1337GK104460117SQ201410820096
【公开日】2015年3月25日 申请日期:2014年12月24日 优先权日:2014年12月24日
【发明者】王晓峰, 敬辉, 黄助兵 申请人:合肥鑫晟光电科技有限公司, 京东方科技集团股份有限公司