技术总结
提供了一种用于EUV光刻的防护薄膜组件。所述用于EUV光刻的防护薄膜组件包括形成在第一无机层上的第一结合层和具有碳纳米结构的强度增强层，其中，第一结合层增强第一无机层与强度增强层之间的结合力，通过包括具有碳纳米结构的强度增强层来提高防护薄膜组件膜的强度。此外，根据另一示例，提供了一种用于EUV光刻的防护薄膜组件和一种用于制造所述防护薄膜组件的方法。用于EUV光刻的防护薄膜组件是包括多个孔且由消光系数为0.02或更小的材料制成的多孔薄膜，其中，所述孔具有1μm或更小的直径。因此，防护薄膜组件可以被制造成具有高的EUV透射率且厚，从而确保改善的强度。
技术研发人员：安镇浩;李宰旭;洪成哲;李勝旻;李吉馥;金正植;金廷桓
受保护的技术使用者：汉阳大学校产学协力团
文档号码：201580020112
技术研发日：2015.04.15
技术公布日：2016.12.14