技术特征：
技术总结
用于适合于光刻过程中使用的掩模组件的加工，所述掩模组件包括：图案形成装置；和表膜框架，被配置用以支撑表膜且利用安装件而安装于所述图案形成装置上；其中所述安装件在所述图案形成装置与所述表膜框架之间提供可释放式的可接合附接。
技术研发人员：F·范德穆伦;马尔滕·M·M·詹森;约根·M·阿泽雷L;德克·S·G·布龙;马克·布鲁因;J·德克尔斯;保罗·詹森;R·H·G·克莱默;M·克鲁兹恩卡;R·G·M·兰斯勃根;M·H·A·李德斯;埃里克·洛劳夫·鲁普斯卓;G·范德博世;J·F·S·V·范罗;B·L·M-J·K·韦伯罗根;安吉洛·恺撒·皮特·德克勒克;J·M·丁斯;M·L·J·杨森;R·J·J·克尔斯滕斯;M·J·M·克斯特斯;M·卢斯;G·米德尔;S·M·赖纳德斯;F·J·C·托伊尔蔡特;A·J·W·范利芬根
受保护的技术使用者：ASML荷兰有限公司
技术研发日：2015.11.16
技术公布日：2017.08.29