1.一种光扩散片，其特征在于：包括透明基材层，在所述透明基材层的一侧表面设有微结构层，所述微结构层设有微结构，所述微结构为凹陷结构，在微结构层的凹陷结构内填充有扩散粒子。
2.根据权利要求1所述的一种光扩散片，其特征在于，微结构层内微结构呈凹陷状，用于诱导扩散粒子排布，其排布方式可以是线状光栅、矩形、环形和六边形排布，或者，在平面内呈对称轴的排布或者在平面内呈非对称轴的排布；所述扩散粒子排布状态可以连续或离散。
3.根据权利要求2所述的一种光扩散片，其特征在于，对其中的微结构层的材料可以与基材层材料相同，也可以不同。
4.根据权利要求1所述的一种光扩散片，其特征在于，所述凹陷结构宽度大于1微米，深宽比大于0.3。
5.根据权利要求1所述的一种光扩散片，其特征在于，所述微结构层的凹陷结构内填充有扩散粒子，依照凹陷结构的拓扑排布而分布；扩散粒子可以大于、小于或者等于凹陷结构的特征尺寸，其形状可以是球形、椭球形、圆柱形、长方体，或者其它异形体。
6.根据权利要求1所述的一种光扩散片，其特征在于，在微结构层外侧可以设有透明的保护层，保护层完全或者部分包覆扩散粒子。
7.根据权利要求5所述的一种光扩散片，其特征在于，填充于微结构层的凹陷结构内的扩散粒子，其光学折射率与透明基材层、微结构层、保护层材料、或者它们其中之一的折射率之差绝对值不小于0.01。
8.一种光扩散片的制作方法，其特征在于，包括下列步骤：
S1、使用具有凸起结构的模具，通过热压印或者紫外压印方式在透明基材上制作结构，在微结构层内获得与模具凸起结构互补的凹陷结构；
S2利用刮涂技术，将扩散粒子刮涂进上述步骤中制作的凹陷结构内，形成图形化的扩散粒子排布。
9.根据权利要求8所述的一种光扩散片的制作方法，其特征在于，还包括步骤S3.在微结构层表面涂敷保护层。
10.根据权利要求9所述的一种光扩散片的制作方法，其特征在于，填充于微结构层的凹陷结构内的扩散粒子，其光学折射率与透明基材层、微结构层、保护层材料、或者它们其中之一的折射率之差绝对值不小于0.01。