1.一种掩模板，包括掩模板主体，所述掩模板主体上设有透光区域和遮光区域，其特征在于，所述透光区域的图案与像素墙图案相同，所述遮光区域为多个呈阵列排列的离散区域，每个所述遮光区域的边缘区域设有减弱透光量结构。
2.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述减弱透光量结构包括多个子掩模条，所述子掩模条与所述遮光区域连接。
3.根据权利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述子掩模条相互平行设置。
4.根据权利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述遮光区域为多个呈阵列排列的方形区域，所述子掩模条垂直/平行于与其靠近的所述遮光区域的边缘设置。
5.根据权利要求2所述的掩模板，其特征在于，相邻两个所述遮光区域的间距为像素墙的的宽度，相邻所述子掩模条的间距≤1/2的像素墙的宽度。
6.根据权利要求5所述的掩模板，其特征在于，相邻所述子掩模条的间距为1/10的像素墙宽度。
7.一种采用如权利要求1-6任一项所述的掩模板制备下基板的方法，其特征在于，包括采用权利要求1-6任一项所述的掩模板制备像素墙的步骤，具体步骤为：提供支撑板，在其上涂覆一层负性光刻胶材料；将如权利要求1-6任一项所述的掩模板与所述支撑板进行对准；基于对准后的掩模板对涂覆的所述光刻胶材料进行曝光，显影，得到像素墙。
8.一种采用如权利要求7任一项所述制备下基板的方法制备得到的下基板。
9.一种电润湿显示器件，其特征在于，包括权利要求8所述的下基板。