技术总结
本发明公开了一种掩模板、采用其制备下基板的方法和该方法的应用，掩模板包括掩模板主体，掩模板主体上设有透光区域和遮光区域，透光区域的图案与像素墙图案相同，遮光区域为多个呈阵列排列的离散区域，每个遮光区域的边缘区域设有减弱透光量结构；通过设置减弱透光量结构，将掩模板用于制备下基板，遮光区域的边缘区域的曝光量小于透光区域，使用负性光刻胶，曝光量的减小会使得像素墙的壁的横截面形状为倒梯形，在填充的液体的表面张力和倒梯形形成的毛细管力的作用下，填充的液体会铺展在所述像素墙形成的凹陷内，并且倒梯形的像素墙上表面边缘可以有效阻止液体填充后流入相邻像素格，能够实现液体的均匀填充。
技术研发人员：周国富;吴昊;李发宏;罗伯特·安德鲁·海耶斯
受保护的技术使用者：深圳市国华光电科技有限公司;华南师范大学;深圳市国华光电研究院
文档号码：201610808968
技术研发日：2016.09.05
技术公布日：2017.02.22