一种彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置与流程

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置。

背景技术：

薄膜晶体管液晶显示面板(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，TFT-LCD)是目前常用的平板显示器，液晶显示面板以其体积小、功耗低、无辐射、分辨率高等优点，被广泛地应用于现代数字信息化设备中。

薄膜晶体管液晶显示面板包括相对设置的阵列基板和彩膜基板、位于阵列基板和彩膜基板之间的液晶分子，以及位于阵列基板朝向彩膜基板一侧的下取向膜和位于彩膜基板朝向阵列基板一侧的上取向膜。其中，阵列基板包括若干阵列排列的薄膜晶体管，现有技术的薄膜晶体管通常采用低温多晶硅(Low Temperature Poly-Silicon,LTPS)薄膜晶体管；彩膜基板，如图1所示，包括黑矩阵11、若干阵列排列的红色(R)光阻层12、绿色(G)光阻层13和蓝色(B)光阻层14。

现有技术由于阵列基板包括的LTPS薄膜晶体管结构中存在过孔区，会导致下取向膜印刷后，在过孔周边的下取向膜的厚度不均，当下取向膜的厚度不均区域延伸到像素开口区时会产生Mura不良，即产生小黑点不良。另外，针对高解析度(Pixel Per Inch，PPI)产品，其像素越来越小，会导致黑矩阵的宽度也随之减小，这时会导致串色不良的发生。

技术实现要素：

有鉴于此，本发明实施例提供了一种彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置，用以改善小黑点不良和串色不良，并提升透过率。

本发明实施例提供的一种彩膜基板，包括衬底基板、位于所述衬底基板上若干阵列排列的彩色光阻层、位于相邻两所述彩色光阻层之间的黑矩阵；

至少一所述彩色光阻层的边缘与该彩色光阻层对应位置处的所述黑矩阵的边缘之间存在空白透光区域。

由本发明实施例提供的彩膜基板，由于该彩膜基板至少一彩色光阻层的边缘与该彩色光阻层对应位置处的黑矩阵的边缘之间存在空白透光区域，因此与现有技术相比，当取向膜的厚度不均区域延伸到像素开口区而产生小黑点不良时，本发明实施例可利用空白透光区域能够透过更多的光线来提升产生小黑点不良区域对应位置处的像素的透过率，进而改善小黑点不良的发生；另外，本发明实施例空白透光区域对应位置处可以透过背光白色的光线，在一定程度上能够改善串色不良的发生，并能够提高产品的透过率。

较佳地，每一所述彩色光阻层的边缘与该彩色光阻层对应位置处的所述黑矩阵的边缘之间存在空白透光区域。

较佳地，所述空白透光区域的形状为框状。

较佳地，所述空白透光区域的每一边缘与该边缘对应位置处的所述彩色光阻层的边缘之间的距离相等。

较佳地，所述彩色光阻层包括红色光阻层、绿色光阻层和蓝色光阻层。

本发明实施例还提供了一种显示面板，该显示面板包括上述的彩膜基板。

本发明实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括上述的显示面板。

本发明实施例还提供了一种彩膜基板的制作方法，包括：

在衬底基板上制作黑矩阵，以及若干阵列排列的彩色光阻层；

在至少一所述彩色光阻层的边缘与该彩色光阻层对应位置处的所述黑矩阵的边缘之间制作形成空白透光区域。

较佳地，在每一所述彩色光阻层的边缘与该彩色光阻层对应位置处的所述黑矩阵的边缘之间制作形成空白透光区域。

附图说明

图1为现有技术的彩膜基板的平面结构示意图；

图2为本发明实施例提供的一种彩膜基板的平面结构示意图；

图3为图2中虚线方框区域的局部放大示意图；

图4为本发明实施例提供的另一种彩膜基板的平面结构示意图；

图5为本发明实施例提供的一种彩膜基板的制作方法流程图。

具体实施方式

本发明实施例提供了一种彩膜基板及其制作方法、显示面板、显示装置，用以改善小黑点不良和串色不良，并提升透过率。

为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

下面结合附图详细介绍本发明具体实施例提供的彩膜基板。

附图中各膜层厚度和区域大小、形状不反应各膜层的真实比例，目的只是示意说明本发明内容。

如图2所示，本发明具体实施例提供了一种彩膜基板，包括衬底基板20、位于衬底基板20上若干阵列排列的彩色光阻层21、位于相邻两彩色光阻层21之间的黑矩阵11；至少一彩色光阻层21的边缘与该彩色光阻层21对应位置处的黑矩阵11的边缘之间存在空白透光区域22，图2中示出了部分彩色光阻层21的边缘与该彩色光阻层21对应位置处的黑矩阵11的边缘之间存在空白透光区域22。

图2中虚线框对应位置的放大图如图3所示，由于小黑点不良发生在阵列基板侧的过孔区域周边对应的位置，该位置对应在彩膜基板上的位置如图中31、32表示的位置处，图中31位置处表示取向膜的厚度不均的位置，而取向膜的厚度不均区域若延伸到像素开口区，则会降低像素的透过率，进而会导致画面不均匀。与现有技术相比，当取向膜的厚度不均区域延伸到像素开口区而产生小黑点不良时，本发明具体实施例由于在彩色光阻层21的边缘与该彩色光阻层21对应位置处的黑矩阵11的边缘之间存在空白透光区域22，因此可利用亮度较亮的空白透光区域22提升产生小黑点不良区域的像素的透过率，进而改善小黑点不良的发生。具体实施时，本发明具体实施例空白透光区域22的面积大小以及具体形状设置根据实际生产工艺的产品设计、不良状况以及用户需求进行设定，如：在实际工艺过程中可能产生小黑点不良的对应位置处均设计空白透光区域22。

另外，串色不良是用户在左右或上下视角观察时，因阵列基板和彩膜基板对位不精确而在侧视角观察时看到另一彩色光阻层的颜色所引起的，由于本发明具体实施例在彩色光阻层21的边缘与该彩色光阻层21对应位置处的黑矩阵11的边缘之间存在空白透光区域，因此可以有效减少侧视角观看到另一彩色光阻层的颜色的情况，在一定程度上改善了串色不良的发生。与此同时，空白透光区域能够增加背光白光的透过面积，进而提升了产品的透过率。

优选地，本发明具体实施例在每一彩色光阻层21的边缘与该彩色光阻层21对应位置处的黑矩阵11的边缘之间存在空白透光区域22，如图4所示，本发明具体实施例中的彩色光阻层21包括红色(R)光阻层12、绿色(G)光阻层13和蓝色(B)光阻层14，当然，在实际生产过程中，彩色光阻层21还可以包括其它颜色的光阻层，如：黄色光阻层，本发明具体实施例并不对彩色光阻层的具体颜色做限定。由于本发明具体实施例在每一彩色光阻层21的边缘与该彩色光阻层21对应位置处的黑矩阵11的边缘之间存在空白透光区域22，因此能够更进一步地改善小黑点不良和串色不良，并进一步提升透过率。

具体地，如图2和图4所示，本发明具体实施例中空白透光区域22的形状为框状，由于本发明具体实施例中的空白透光区域22在彩色光阻层21的边缘与该彩色光阻层21对应位置处的黑矩阵11的边缘之间，而实际生产过程中黑矩阵11的形状一般为网格形，因此将空白透光区域22的形状设置为框状能够降低生产工艺的复杂性，降低生产时间，降低生产成本。具体实施时，可以设计空白透光区域22的每一边缘与该边缘对应位置处的彩色光阻层21的边缘之间的距离相等。

具体实施时，本发明具体实施例彩色光阻层21与黑矩阵11的具体设置方式与现有技术类似，这里不再赘述；彩色光阻层21与黑矩阵11选择的材料与现有技术相同，这里不再赘述。

由于本发明具体实施例在彩色光阻层的边缘与该彩色光阻层对应位置处的黑矩阵的边缘之间存在空白透光区域，因此空白透光区域会透过背光(白色光)，这时会影响显示时的颜色坐标，而这个影响可以通过彩色光阻层材料的选择以及厚度的设置进行彩色光阻层色坐标的调整，以使得调整后的色坐标与现有技术技术设计需求的色坐标相吻合。

本发明具体实施例以调整彩色光阻层的厚度的设置来调整彩色光阻层的色坐标为例，当然，实际生产过程中还可以通过其它的方式进行色坐标的调整，如通过光学色坐标的模拟，计算出需求的彩色光阻层色坐标要求。具体实施时，本发明具体实施例中绿色光阻层13的厚度大于红色光阻层12的厚度，红色光阻层12的厚度大于蓝色光阻层14的厚度，而在显示过程中，绿色光阻层13对应位置处的亮度最亮，蓝色光阻层14对应位置处的亮度最弱，因此将绿色光阻层13的厚度设置为最厚，将蓝色光阻层14的厚度设置为最薄，可以很好的对色坐标进行调整，能够使得调整后的色坐标与现有技术技术设计需求的色坐标相吻合。

基于同一发明构思，本发明具体实施例还提供了一种显示面板，该显示面板包括本发明具体实施例提供的上述彩膜基板。由于本发明具体实施例提供的上述彩膜基板与现有技术相比，能够改善小黑点不良和串色不良，并有较高的透过率，因此，本发明具体实施例的显示面板也能够改善小黑点不良和串色不良，并有较高的透过率。

另外，由于本发明具体实施例提供的彩膜基板在至少一彩色光阻层的边缘与该彩色光阻层对应位置处的黑矩阵的边缘之间存在空白透光区域，因此本发明具体实施例的显示面板在全暗态时的亮度值较现有技术有些微的提升，但是用户一般关注的是显示面板的对比度，即更关注的是全亮态时的亮度值与全暗态时的亮度值的比值，由于本发明具体实施例的显示面板在全亮态时的亮度值也后有所提升，因此综合考虑后，本发明具体实施例中空白透光区域几乎不影响显示面板的对比度。

基于同一发明构思，本发明具体实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括本发明具体实施例提供的上述显示面板，该显示装置可以为：手机、平板电脑、液晶电视、有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)电视、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。对于该显示装置的其它必不可少的组成部分均为本领域的普通技术人员应该理解具有的，在此不予赘述。

基于同一发明构思，如图5所示，本发明具体实施例还提供了一种彩膜基板的制作方法，包括：

S501、在衬底基板上制作黑矩阵，以及若干阵列排列的彩色光阻层；

S502、在至少一所述彩色光阻层的边缘与该彩色光阻层对应位置处的所述黑矩阵的边缘之间制作形成空白透光区域。

具体地，本发明具体实施例在衬底基板上制作黑矩阵与彩色光阻层的方法与现有技术类似，这里不再赘述。

优选地，本发明具体实施例在每一彩色光阻层的边缘与该彩色光阻层对应位置处的黑矩阵的边缘之间制作形成空白透光区域，制作形成的空白透光区域的具体位置可以参见图4所示。实际生产过程中，可以通过构图工艺制作空白透光区域，构图工艺包括光刻胶的涂覆、曝光、显影、刻蚀以及去除光刻胶的部分或全部过程；在实际生产过程中，也可以通过其它工艺制作空白透光区域，本发明具体实施例并不对空白透光区域的具体制作方法做限定。

综上所述，本发明具体实施例提供一种彩膜基板，包括衬底基板、位于衬底基板上若干阵列排列的彩色光阻层、位于相邻两彩色光阻层之间的黑矩阵；至少一彩色光阻层的边缘与该彩色光阻层对应位置处的黑矩阵的边缘之间存在空白透光区域。与现有技术相比，当取向膜的厚度不均区域延伸到像素开口区而产生小黑点不良时，本发明具体实施例由于在至少一彩色光阻层的边缘与该彩色光阻层对应位置处的黑矩阵的边缘之间存在空白透光区域，因此本发明具体实施例可利用空白透光区域能够透过更多的光线来提升产生小黑点不良区域对应位置处的像素的透过率，进而改善小黑点不良的发生；另外，本发明具体实施例的空白透光区域对应位置处可以透过背光白色的光线，在一定程度上能够改善串色不良的发生，并能够提高产品的透过率。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。