技术特征：
技术总结
本发明提供一种掩膜版、过孔及显示基板的形成方法、显示基板及装置，该掩膜版用于在膜层上形成过孔，包括：用于形成过孔的透光图案，所述透光图案具有弯曲的边缘。由于掩膜版上的透光图案具有弯曲的边缘，因而采用上述掩膜版形成的过孔的底部也具有弯曲的边缘，从而能够增加通过过孔电连接的上下导电层接触的边界线的长度，降低上下导电层之间的接触电阻，提高上下导电层的连接性，另外，在形成过孔的曝光工艺中，透光图案边缘处的光的透过量较小，该部分对应的膜层只能曝光掉一部分厚度，使得形成的过孔内壁的坡度角较小，从而降低了过孔的段差，避免上层导电层在过孔内断裂，进一步提高了连接性。
技术研发人员：王小元;杨妮;方琰;齐智坚;李云泽;许亨艺
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司
技术研发日：2017.06.14
技术公布日：2017.10.13